Электролит зеркально-блестящего никелирования

 

ЭЛЕКТРОЛИТ ЗЕРКАЛЬНО-БЛЕСТЯЩЕГО НИКЕЛИРОВАНИЯ, содержащий сульфат никеля, хлорид никеля 1,4бутиндиол , поверхностно-активное вещество, буферную добавку и блескообразователь , отли чающий с я тем, что, с целью интенсификации никелирования, повышения адгезии , степени выравнивания и пластичности покрытий, в качестве буферной .добавки электролит содержит сульфат аммония, а в качестве блескоо1}разователя - вещество, выбранное из группы бемзолсульфонил-2-тиофенсульфонилимид , бензолсульфрнил-5-хпор-2тиофенсульфонилнмид , М-

„„ у„„1ОО6546

СОНИ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

3(Д) С 25 0 3/12

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н ABTOPGHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ с

147-150

20-22

0,20-0,25

Сульфат никеля

Хлорид никеля

1,4"Вутиндиол

Поверхностноактивное вещество 0,03-0,05

Сульфат аммония 30-32

Вещество, выбранное из группы бензолсульфонил-2.тиофенсульфонилимид, бензолсульфонил5-хлор-2-тиофенсульфонилимид

N-(4 -хлорбутансуль-! фонил-1 )-2-тиофен-! сульфониламид

0 ю5-0 сб

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

flO ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНЯТИЙ (21 ) 3284985/22-02 (22) 06.05.81 (46 ) 23.03. 83. Бюл .. 9 11 (72) Г.Г. Симулин, В.A. Марткыенко н М.М. Кремлев (71)Днепропетровский ордена Трудового

Красного Знамени химико- технологический институт им. Ф.Э. Дзержинского (53 ) 621. 357.7сб69.248(088.8) (56 ) 1. Гальдикене O. Водневас A.

Теория и практика блестящих гальванопокрытий. Вильнюс, изд-во политической и научной литературы- Литовской ССР, 1963, с. 368.

2. Курвякова Л.М °, Пименова И.В., Мисюрева Л.B. Влияние характера предварительной подготовки поверхности на свойства никелевых покрытий.—

"Защита металлов", 1979, 9 б, с. 737. (54) (57) ЭЛЕКТРОЛИТ ЗЕРКАЛЬНО-БЛЕСТЯЩЕГО НИКЕЛИРОВАНИЯ, содержащий сульфат никеля, хлорид никеля 1,4бутиндиол, поверхностно-активное вещество, буферную добавку и блескообразователь, о т л и ч а ю щ и и с я тем, что, с целью интенсификации никелирования, повышения адгезии, степени выравнивания и пластичности покрытий, в качестве буферной

I добавки электролит содержит сульфат аммония, а в качестве блескообразо- . вателя — вещество, выбранное из группы бензолсульфонил-2-тиофенсульфонилимид, бензолсульфонил-5-хлор-2тиофенсульфонилимид, N-(4 -хлорбутансульфонил-1 )-2-тиофенилсульфоиил амид, при следующем соотношении компонентов, г/л:

1006546

Хлорид никеля

1,4-Бутиндиол

20-22

0,20-0,25

Поверхностноактивйое вещество

Ф

Сульфат аммония

0,03-0,05

30-32

Вещество, выбранное из .группы бензолсульфонил-2тиофенсульфонилимид, бензолсульфонил-5хлор-2-тиофенсульфонилимид, I

N-(4 -хлорбутансульфонил-1 )-2( тиофенсульфониламид

О, 5-0,6

Изобретение относится к никелированию для защитно-декоративной отделки изделий и получения зеркально-блестящей поверхности и может быть использовано на предприятиях автомобильной промышленности, 5 машиностроительных заводах и заводах электронной аппаратуры, а также в производ"тве медицинских инструментов и изделий специального назначения. 10

Известен электролит блестящего никелиравания, содержащий сульфат никеля, хлорид никеля, барную кислоту, 1,4-буTHíäèîë, фталимид и сахарин. Электролиз.ведут при рН 3,55,0 плотности тока 2-5 A/äì и

50-60 С (1).

Основным недостатком данного электролита является то, что блестящие осадки никеля являются напряжен. ными и хрупкими (внутренние напряжения около .200 кгс/см ), склонны к растрескиванию и отслаиванию .от основы и характеризуются. высокой микротвердостью (550 кгс/мм ), недостаточным блеском (степень блеска 70-80%) и степенью выравнивания (около 80%). Иеханическая полировка, применяемая для доглянцовки таких никелевых покрытий, является трудоемкой операцией, требует затраты 30 большого количества рабочего времени и связана с безвозвратной потерей слоя никеля толщиной 2-4 мкм. Кроме того, процесс блестящего никелирования ведут при непрерывной фильтрации 35 и перемешивании электролита. Он весьма чувствителен к примесям и режиму электролиза. При отклонении от установленного режима появляется питтинговая паристость покрытий. 40

Наиболее близким к изобретению является электролит зеркально-блестящего никелирования, содержащий сульфат никеля, хлорид никеля, 1,4бутиндиод, поверхностно-активное ве- 45 .щество, например "Прогресс", буферную добавку, в частности барную кислоту, и блескообразователь, в частности сахарин. Известный электролит обеспечивает 95%-ный блеск и малую пористость (0,3 пор/cM ) получаемых покрытий 2 ).

Недостатком известного электролита является его невысокая производительность. Зеркально-блестящие покрытия могут быть получены при плотности тока не выше 3 А/дм2. Блестящие осадки никеля являются напряженными и хрупкими (внутренние напряжения около 200 кгс/см ), склонными к отслаиванию от основы йри ° 60 интенсивном режиме работы электролита (Дк 3 3 Л/дм ) характеризуются

2 высокой микротвердостью (732 кгс/мм ) и недостаточной степенью выравнивания (8ОЪ). Осадки содержат значи- у тельные количества включенного углерода (0,035% при Дк=3 A/äì2), водорода и других примесей. Качество осадков очень чувствительно к примесям электролита и режиму электролиза, качеству подготовки поверхности под покрытие. Блестящие осадки обладают пористостью (при механической полировке стали — 1,9 пор/см2).

Целью изобретения является интенсификация процесса никелирования, повышение адгеэии, степени выравнивания и пластичности покрытий.

Поставленная цель достигается тем, что электролит, содержащий сульфат никеля, хлорид никеля, 1,4-бутиндиол, поверхностно-активное вещество, буферную добавку и блескообразователь, в качестве буферной добавки содержит сульфат аммония, а в качестве блэскообразователя вещество, выбранное из группы бензолсульфонил-2-тиофенсульфонилимид, бензолсульфонил-5-хлор-2-тиофен1 сульфонилимид, N-(4 -хлорбутансульфонил-i )-2-тиофенсульфониламид, при следующем соотношении компонентов, г/л:

Сульфат никеля 147-150

Количество вводимого в состав электролита 1,4-бутиндиола составл яет О, 2-О, 25 г/л. Учитывая отрицательное влияние этого соединения на пластичность никелевых осадков (появление хрупкости осадка, питтинга и. повышение твердости), более высокое, чем 0,25 г/л содержание его нецелесообразно. Концентрация 1,4-бутиндиола является оптимальной, так как при ее уменьшении ниже 0,2 г/л снижается блеск покрытий.

Бензолсульфонил-2-тиофенсульфонилимид получают следующим образом.

K раствору 0,025 моль 2-тиофенсульфониламида (А) в 50 мп 2%-ного раствора йаОН при 40-45ОC.в течение

10 мин при перемешивании прикапыва1006546

35 ют.0,0149 моль бензолсульфонилхлорида (Б). После исчезновения маслянистых капель Б к реакционной массе прибавляют 0,0165 моль карбоната натрия и при 50-60 С и продолжающемся перемешивании в течение 10 мин 5 дополнительно прикапывают

0,0151 моль Г>. После этого температуру постепенно в течение получаса поднимают до 100 С и удерживают постоянной еще в течение 30-45 мин. lО рН среды в ходе реакции поддерживают равным 7-8 (прибавлением NaOH) .

На следующий ден . реакционную массу подкисляют до рН б, отфильтровывают осадок не вступившего в реак- 15 цию A. К фильтрату прибавляют концентрированную соляную кислоту до тех пор, пока происходит выпадение. в осадок .продукта реакции. Образующуюся суспензию охлаждают для полноты осаждения продукта, последний . 20 отфильтровывают и сушат вначале на воздухе, а затем при 100 С. Выход бензолсульфонил-2-тиофенсульфониламида составляет 73,7Ъ. Продукт представляет собой бесцветное кристаллическое вещество, лишенное запаха, хорошо растворимое в воде.

Т.пл. 140ОC (из ССl ).

Бензолсульфонил-5-хлор-2-тиофенсульфонилимид получают по технологии синтеза предыдущего блескообразователя, исходя из того же сульфонилхлорида и 5 хлор-2-тиофенсульфониламида. Выход продукта составляет 82,1Ъ. Т.пл. 106- 307 С (из гептана). !

Для получения й-(4 -хлорбутансульфонил-1 )-2-тиофенсульфонил( амида раствор 0,02 моль 2-тиофенсульфониламида в 0,04 моль 5Ъ-ного. 40 раствора NaOH нагревают до 50 С и в течение 15 мин прикапывают при перемешивании 0,02 .моль свежеперегнанного 4-хлорбутан-1-сульфонилхлорида, продолжая затем перемешивание при -,45 указанной температуре до исчезновения запаха последнего. В ходе реакции рН среды поддерживают на уровне 7-8 прикапыванием раствора NaOH

На следующий день среду доводят до рН б, отфильтровывают не вступивший в реакцию 2-тиофенсульфониламид и промывают его водой до помутнения пробы фильтрата при подкислении концентрированной соляной кислотой. К объединенному фильтрату и промывным водам прибавляют соляную кислоту до прекращения помутнения при добавлении очередной порции кислоты. Выход

N-(4/-хлорбутансульфонил-1 )-2-тиофенсульфониламида составляет 51,8Ъ. 60

Т.пл. 80,5-81ОС.

Электролит готовят путем растворения компонентов в дистиллированной воде при 18-25 С. Блескообразоо ватель вводят в уже готовый электро-, 65 лит при перемешивании. Фильтрование и селективная очистка последнего могут быть обычными. рН электролита может изменяться в интервале 4-6.

Снижение рН осуществляют добавлением 5 -10Ъ-ной серной. кислоты, а увеличение — введением оксида никеля.

Никелевое покрытие наносят на катод из стали марки 08КП, Ст. 45, латуни Л-62 и катаной медной фольги.

Наибольшими выравнивающими свойствами обладают осадки, полученные при Дк 5-10 A/äì2, температуре

50-60 С и рН 4-6. Выход по току никеля в предлагаемом электролите составляет 85+5Ъ при Дк 5 A/äì2. Длйтельность электролиза 15-30 мин

{в зависимости от плотности катодного тока). 3а это время толщина осадка никеля достигает 20-28 мкм.

Предлагаемый электролит не требует полировки и других специальных приемов .обработки поверхности металла при нанесении зеркально-блестящих слоев никеля. Зеркально-блестящие осадки никеля обладают одинаковым качеством на катаной и обезжиренной спиртом, полированной механическим путем и обезжиренной спиртом поверхности стали 08КП и Ст.45, полированной латуни Л-62 и катаной медной фольге.

Корректировку электролита по со.— держанию солей никеля осуществляют по данным анализа, добавок — эмпирически.

Так как на аноде возможно. выделение хлора, необходимо корректировать, электролит по хлориду никеля (после

50 А-ч электролиза в электролит вводится около 0,2 г/л NiC 12 6Н20).

Смачиватель добавляют, когда ванна перестает пениться; 1,4-бутиндиол при снижении глянца, т.е. после прохождения через ванну 30 — 40 A ч/л.

Тиофенсодержащие вещества не вырабатываются, в связи с чем корректи— ровку их содержания в электролите осуществляют через 2-3 мес.

Электролит устойчив в работе и к действию окислителей при приготовлении. В процессе электролиза не замечено взаимодействия компонентов электролита с блеакообразователем, приводящего к ухудшению его.действия и изменению качества осадков.

После никелирования 26 образцов с общей величиной поверхности до 10 дм2 в электролите объемом 0,5 л качество покрытий остается одинаковым (сцепление с основой достаточное: покрытия не отслаиваются при изгибе и полном разламывании образцов, отражательная способность 95Ъ, степень выравнивания 95Ъ, микротвердость

250 кгс/мм, отсутствуют внутренние напряжения и питтинг, на 20-25Ъ меньше пористость, кроме того, улуч-, 1006546 шена коррозионная стойкость по сравнению с покрытиями, полученными из известного электролита). Степень блеска, например, не снижается послЕ прохождения 40 А.ч/л, а на деталях сложного профиля — до 30 A ч/л. 5

В случае загрязнения электролита органическими примесями, железом, цинком и медью возможна селективная очистка его от этих примесей. Для этого при 45 С в электролит вводят о перманганат калия (2 г/л) или перекись водорода (3%, 2 мл/л), после чего добавляют 2 г/л активированного угля. Через 12 ч отстаивания элек- g тролит фильтруют. Так устраняют органические примеси и железо. Для очистки от меди и цинка электролит подвергают проработке током со случайными стальными катодами при перемешивании в течение 4 ч при Дк

0,2 А/дм . В очищенный таким Обра2 зом электролит затем вводят 1,4бутиндиол, бензолсульфонил-2-тиофенсульфонилимид или какой-либо другой тиофенсодержащий дисульфонилнмид и поверхностно-активное вещество.

Пример 1. Для непосредственного нанесения на сталь никелевых покрытий с высоким зеркальным блеском при 60 С рН 5 применяют электролит следующего состава, г/л: сульфат никеля (NiSO< ° 7Н О) 147; хлористый никель (МiС12.6k20) 20;

1,4-бутиндиол 0,25; сульфат аммония 30; бензолсульфонил-2-тиофенсульфонилимид 0,5 и поверхностноактивное вещество "Лотос" 0,05.

Используют катод из стали марки

Ст.45. Плотность катодного тока сос- 4р тавляет 10 А/дм . Длительность электролиза 15 мин. За это время толщина осадка никеля достигает 28 мкм.

Полученное пластичное никелевое покрытие обладает высоким качеством 45 (см. таблицу). Микроскопические исследования показывают, что зеркально-блестящий осадок никеля равномерен по толщине слоя и характеризуется меньшей, чем блестящий никель, получаемый из известного электролита, пористостью.

Пример 1а. Состав электролита и режим электролиза те же, что и в примере 1, но покрытие наносят на катод из латуни Л-62. Свойства получаемого осадка никеля аналогичны отмеченным в примере 1.

Пример 1б. Состав электролита и режим электролиза те же, что и в примере 1, но покрытие наносят на катод из катаной медной фольги.

Свойства получаемого никелевого осадка анаЛогичны отмеченным в примере 1.

Пример ы 2 и 3. Состав электролита и режим электролиза те же, что и в примере 1, но вместо бензолсульфонил-2-тиофенсульфонилимида в электролит вводят N-(4 -хлорбутансульфонил-1 )-2- тиофенсульфонилимид в количестве 0,55 г/л (пример 2) или бензолсульфонил-5-хлор-2-тиофенсульфонилимид в количестве 0,6 г/л (пример 3). Качество получаемых покрытий и все другие их параметры те же, что и в примере 1. Лишь отражательная способность осадков никеля, получаемых в присутствии этих добавок, несколько снижается и,составляет соответственно 90% и 92%.

Пример 4. Для нанесения на сталь 08КП никелевых покрытий с высоким зеркальным блеском при 50 С и рН 4 применяют электролит следующего состава г/л: сульфат никеля 150, хлористый никель 22; 1,4-. бутиндиол

0,20; сульфат аммония 32; бензолсульфонил-2-тиофенсульфонилимид 0,6; поверхностно-активное вещество "Лотос" -0,03. Плотность катодного тока составляет 8 A/äì . Через 15 мин электролиза на катоде получают зеркально-блестящий осадок никеля толщиной 22 мкм, характеризующийся меньшей плотностью и большей пластичностью, чем покрытие, получаемое из известного электролита. Другие наиболее важные характеристики покрытия приведены в таблице.

1006546 хо ю о

Х х с< оню ю t".,о а t:l!,"

Ю Ю -4 а-!

1. " х K х о !

» на хо

И И

РЪ с

В 1 I

Ф В

Ж t 1

1

1 о

1»

1 !

I

1 с Я о!,ми аан .

xeov

Д ltl O !»

Ю Ю Ю

tA tA tA (с! - C4 (с! о

tA

СЧ

6t

Е о

e o

o o r»

Х !.", Х со

o xo

2 ою

FtI сс!

v

-е. н

Ф хон вне хо." ю 03 ах в алло!

u t е н ь >, хон ння хо> ю ttt ахн

C. "X u

1 хи э ю ах !

»

W Ф х х ах м х

Ф

Ф р и а tA Л

О\ Ctt Ch ах

2 ю ю н о х о и х о о о

I ю

I Ф! х х

I Ф

1 Ф

2 и

Э

ы

1 о

Е». 1! 1

Ф Ф Ф

X Е Е х х - х а а, И 1 1 !! и

t4

2 х о

Ф

I ttt

1 tt) с1:

Ф

Е х а

g с-! о: о о

c"-c4 аа !=a о

Й о .Ц о х

2 а х

lx 1

Ю ю ) с мхом юмон н t:o а сом снох х х (хя юхх

o ox о ею

C4 itt

° ° н х еою ою1: х а о н охо2 н m ю2хо н х х

ozau оохо цех ехюн хомо

Ф х х

2 а ах

Х

O t4

t» Q н

° е Э э ю о m х х х ю оц но

Ю 1» но

v ое

+ х ю

Ц ю ю ,С4 Х х ю а

Ф О оо х

1»

0) х х

Ф х х х нхх

2 аю

C4 t Р\ ок2 хою н1:

° э е tt)

Фюю

O ttt C4 х х ю х . ot". нOQ ю н1р ш нохю

0 !» а о е яа

cia õo

Ю

1

Ю

tA (с!

31 о »

Э

Е а.

И О о> г. а

1006546

30

Пример 5. Для нанесения на сталь никелевых покрытий при о

60 С и рН 6 применяют электролит состава, г/л: сульфат никеля 100; хлористый никель 10; сульфат амглония 50; 1,4-бутиндиол 0,,1> бензолсульфонил-2-тиофенсульфонилимид 0,2; поверхностно-активное вещество "Лотос" 0,1. Катодная плотность тока

10 A/дм . Остальные параметры электролиза аналогичны приведенным в 10 примере 1. Толщина полученного осадка никеля составляет 20 мкм. Электролит уступает по скорости никелирования электролиту, используембму в примере 1. Образуется матовое никеле-15 вое покрытие .с блестящими полосами и низкой отражательной способностью, близкой к величине отражательной способности обычного неполированного никеля (40-48%). Осадки, однако, равномерны по толщине слоя. Степень выравнивания ниже, чем в примерах

1-4 и составляет только 65%. Покрытие характеризуется: наличием питтинга. Оно твердое, с внутренними напряжениями (из-за включения 1,4-бутиндиола в осадок и сильного наводораживания), при длительном электролизе под их влиянием осадок отслаивается от основы. Сцепление со сталью хуже, чем в приглерех 1-4. Данный электролит не обеспечивает нужного качества никелирования, кроме того, электролит находится в состоянии насыщения и при комнатной температуре из него выкристаллизовывается из- 35" быточное количество двойной соли никель-аммоний сульфата.

Пример .6. Для нанесения на сталь зеркально-блестящих осадков .никеля при 55 С и рН 5 применяют 40 электролит состава, г/л: сульфат никеля 148; хлористьй никель 21;

1,4-бутиндиол 0,23; сульфат аммония

31; бензолсульфонил-2-тиофенсульфонимид 0,55; поверхностно-активное вещество "Лотос" 0,04. Плотность катодного тока составляет 5 Л/дм ..

При продолжительности электролиза

30 мин толщина осадка никеля достигает 28 мкм., 50

Количество вводимого поверхностно-активного вещества, например синтетического моющего средства "Лотос", обусловлено следующим. При снижении его содержания ниже 0,03 г/л ухудшается смачивающая способность электролиза, в результате чего появляется питтинг никелевых покрытий. При концентрации выше 0,05 г/л покрытие становится хрупким и на нем появляются матовые полосы. Таким образогр, 60 оптимальная концентрация поверхностно-активного вещества в электролите

0,03-0,05 г/л.

Поскольку в ваннах блестящего . никелирования пригленение борной кислоты является нежелательным, так как она может образовывать комплексные соединения с блескообразующей добавкой, ухудшающие свойства получаемых покрытий, вместо нее в качестве буферной добавки вводят сульфат аммония. Последний в виде комплексных ионов NiNH SO< создает благоприятные условия для действия блескообразователя, обеспечивая равномерность миграции разряжающихся ионов к поверхности растущих граней кристаллов никеля и ровный характер кристаллизующегося осадка. Кроме того, использование в электролите сульфата аммония обеспечивает стабильное содержание в первом основном компоненте сульфата никеля и исключает образование в нем основных солей никеля в процессе электролиза. В ходе последнего буферная добавка не вырабатывается, поэтому содержание ее в электролите в количестве 30

32 г/л является достаточным.

При снижении концентрации сульфата аммония ниже 30 г/л происходит уменьшение буферной емкости электролита, что влечет за собой появление основных солей никеля и вызывает появление матовости покрытия и черных полос на нем. С увеличением содержания сульфата аммония в электролите более 32 г/л происходит снижение. концентрации ионов Ni не связанных в ионные пары NiNH SO+, что увеличивает концентрационную поляризацию и служит препятствием равномерной миграции разряжающихся ионов Ni2+K o ep HocTH T H граней кристаллов. Кроме того, происходит насыщение электролита двойной солью, а охлаждение его вызывает . осаждение последней.

Оптимальное количество вводимого в электролит тиофенсодержащего вещества составляет 0,5-0,6 г/л; при концентрациях 0,1-0,2 г/л наблюдается заметное угленьшение влияния добавки на электродную поляризацию, в результате чего образующиеся осадки теряют пластичность, становятся хрупкими и по качеству не отличаются от осадков, получаемых из известного электролита. Увеличение концентрации тиофенсодержащего вещества в элек-! тролите до 1 г/л и более, хотя и не ухудшает качества осадков, однако экономически невыгодно.

Снижение содержания в предлагаемом электролите по сравнению с известным солей никеля до 170 г/л позволяет исключить кристаллизацию их при снижении температуры электролита до комнатнбй и более низкой. Кроме того, значительная .концентрационная поляризация, обусЛовленная этим, в сочетании с высокой электрохимической поляризацией, благоприятсТ.—

1006546

Составитель Ю. Ипатов

Редактор Н. Егорова Техред С.Мигунова :(oppeKTop Е. Рошко

Заказ 2058/44 Тираж 641 Подписное

ВПИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий .

113035, Москва, Z(-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 вует осаждению мелкозернистых и блестящих осадков. Однако дальнейшее понижение концентрации сульфата никеля (до 50-100 г/л йiSO+ ° 7Н О) приводит к снижению электропроводности электролита, выхода по току и качества осадков никеля (появляется питтинг). Увеличение концентрации сульфата никеля выше 150 г/л сопровождается увеличением скорости электроосаждения никеля, за счет чего осаждающиеся кристаллы его становятся менее совершенными, теряют зеркальный блеск и ухудшают качество покрытий.

Исходя иэ того, что для получения блестящих покрытий нежелательно наличие ионов натрия, в электролите используется хлорид никеля в количестве 20-22 г/л. Уменьшение концентрации последнего нецелесообразно, так как приводит к снижению положительного эффекта от введения блескообразователя (при малых концентрациях ионов Cl наблюдается пассивация анодов). Увеличение содержания хлорида никеля сверх

22 г/л нецелесообразно, так .как приводит к выделению хлора на аноде и к обеднению раствора ионами йФ+, которые по этой причине не поступают с анода. Использование в электролите сульфата аммония и хлористого никеля дают возможность поддерживать постоянным содержание в электролите основного компонента сульфата

t0 никеля.

Как видно из таблицы, в предлагаемом электролите тиофенсодержащие вещества обладают хорошо выраженной способностью сообщать осадкам никеля зеркальный блеск, даже.при высоких (до 10 A/äì ) плотностях тока, что позволяет увеличить интенсивность их электроосаждения в 2 и более раз по сравнению с электролитом, содержащим 1,4-бутиндиол и сахарин, обеспечить значительно большую пластичность и степень выравнивания, прочное сцепление с основой„ что позволит использовать изобретение в. различных областях народного хозяйства.