Способ изготовления фототермопластического материала

 

Способ изготовления фототермопластического материала, заключающийся в последовательном нанесении на движущуюся металлизированную полиэтилентерефталатную подложку инжекционного слоя посредством термического напыления в вакууме сплава селена-теллура и полимерного органического фотопроводника, отличающийся тем, что, с целью улучшения технологичности процесса и качества материала за счет повышения его фоточувствительности, термическое напыление в вакууме осуществляют на вращающуюся подложку с скоростью вращения 1,5 - 15,0 об/мин из одного испарителя с температурой 340 - 380^oC и временем испарения 10 - 15 мин.