Способ нанесения покрытий в вакууме

 

Способ нанесения покрытий в вакууме, включающий напуск рабочего вещества в реакционную камеру и возбуждение молекул рабочего вещества в пучково-плазменном разряде при наличии продольного однородного магнитного и поперечного электрического полей, отличающийся тем, что, с целью снижения энергозатрат и повышения чистоты покрытия, пучково-плазменный разряд зажигают перед напуском рабочего вещества во вспомогательном рабочем газе - аргоне при давлении зажигания разряда Р=Р_ф, затем повышают давление аргона до Р=Р_изб и осуществляют очистку поверхности образца ускоренными ионами аргона, после чего устанавливают давление аргона Р≥Р_кр при сохранении стабильности пучково-плазменого разряда в аргоне, а возбуждение молекул рабочего вещества осуществляют при поддержании величины тока электронного пучка I пучково-плазменного разряда, ускоряющего напряжения U, потенциала поперечного электрического поля V и индукции магнитного поля B в соответствии с выражением:

где K - коэффициент, зависящий от формы электронного пучка (K=1,6·10^-3 для ленточного пучка, K=2,2·10^-3 для аксиально-симметричного пучка);

S - площадь поперечного сечения электрического пучка;

m_p - масса полотна;

e - заряд электрона;

A - массовое число рабочего вещества;

l - расстояние от поверхности образца до оси симметрии цилиндрической реакционной камеры (м).