Гелиоустановка

 

ГЕЛИОУСТАНОВКА, содержащая установленную с возможностью поворота относительно вертикальной оси станину с каркасом, шарнирно закрепленным на ней с возможностью поворота относительно оси и имеющим центральное отверстие , и отражатель с деформатором, выполненным в виде съемной профилированной направляющей с ползуном, закрепленной на станине в плос; ости, перпендикулярч ной горизонтальной оси поворота каркаса, и ведомого звена, щарнирно связанного с ползуном и установленного в центральном отверстии каркаса с возможностью воздействия на зеркальную поверхность отражателя , отличающаяся тем, что, с целью повышения стабильности сконцентрированного в направлении падающего излучения потока, она снабжена имеющим центральное отверстие криволинейным зеркалом,закрепленным на каркасе, отражатель выполнен в виде жестко связанного с каркасом герметичного сильфона, обращенное к криволинейному зеркалу дно которого выполнено из пленки, имеющей зеркальную поверхность, а ведомое звено выполнено в виде рамки, охватывающей сильфон и закрепленной на б его удаленном от криволинейного зерка (Л ла дне. ГС о to ю

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛ ИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК (д 4 F 24 J 2 38, 2 18

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А ВТОРСКОМ У СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3879822/24-06 (22) 02.04.85 (46) 07.10.86. Бюл. № 37 (72) В. А. Грилихес, В. Г. Конов, С. В. Кузовлев и О. И. Честа (53) 662.997 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР № 1043433, кл. F 24 J 3/02, 1982. (54) (57) ГЕЛИОУСТАНОВКА, содержащая установленную с возможностью поворота относительно вертикальной оси станину с каркасом, шарнирно закрепленным на ней с . возможностью поворота относительно оси и имеющим центральное отверстие, и отражатель с деформатором, выполненным в виде съемной профилированной направляющей с ползуном, закрепленной на станине в плоскости, перпендикулярф,.SUÄÄ 1262214 ной горизонтальной оси поворота каркаса, и ведомого звена, шарнирно связанного с ползуном и установленного в центральном отверстии каркаса с возможностью воздействия на зеркальную поверхность отражателя, отличающаяся тем, что, с целью повышения стабильности сконцентрированного в направлении падающего излучения потока, она снабжена имеющим центральное отверстие криволинейным зеркалом, закрепленным на каркасе, отражатель выполнен в виде жестко связанного с каркасом герметичного сильфона, обращенное к криволинейному зеркалу дно которого выполнено из пленки, имеющей зеркальную поверхность, а ведомое звено выполнено в виде рамки, охватывающей сил ьфон и закрепленной на его удаленном от криволинейного зеркала дне.

1262214

ВНИИПИ Заказ 5405)ЗЗ Тираж 649 Подписное

Филиал ППП «Патент», г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Изобретение относится к гелиотехнике, в частности к гелиоустановкам с двухзеркальным концентратором.

Целью изобретения является повышение стабильности сконцентрированного в направлении падающего излучения потока путем приложения распределенной нагрузки к деформируемой зеркальной поверхности уменьшенной площади.

На фиг. 1 показана конструктивная схема гелиоустановки; на фиг. 2 — фрагмент выполнения деформатора ее отражателя.

Гелиоустановка содержит установленную с возможнотью поворота относительно вертикальной оси станину 1 (фиг. 1) с каркасом 2, шарнирно закрепленным на ней с возможностью поворота относительно горизонтальной оси и имеющим центральное отверстие 3 и отражатель 4 с деформатором 5, выполненным в виде съемной профилированной направляющей 6 с ползуном 7, закрепленной на станине 1 в плоскости, перпендикулярной горизонтальной оси поворота каркаса 2, и ведомого звена 8, шарнирно связанного с ползуном 7 и установленного в центральном отверстии 3 каркаса

2 с возможностью воздействия на зеркальную поверхность 9 отражателя 4. Гелиоустановка снабжена имеющим центральное отверстие 10 криволинейным зеркалом:i 1, закрепленным на каркасе 2, отражатель

4 выполнен в виде жестко связанного с каркасом 2 герметичного сильфона 12, обращенное к криволинейному зеркалу 11 дно

13 которого выполнено из пленки, имеющей зеркальную поверхность 9, а ведомое звено 8 (фиг. 2) выполнено в виде рамы 14, охватывающей сильфон 12 и закрепленной на его

35 удаленном от криволинеиного зеркала 11 дне 15.

Каркас 2 и станина 1 связаны шарниром 16. Оражатель 4 закреплен на каркасе 2 кронштейнами 17. На станине 1 установлены фиксаторы 18 для направляющей 40

6. На каркасе 2 с тыльной стороны зеркала 11 закреплен приемник 19 излучения.

Гелиоустановка работает следующим образом.

По мере перемещения Солнца гелиоустановка осуществляет азимутально-зенительное слежение, его каркас 2 (фиг. 1) совместно с рамой 14 поворачивается вокруг горизонтальной оси, при этом ползун 7 перемещается по направляющей 6. В результате перемещения ползуна 7 рама 14 совершает поступательное движение относительно каркаса 2 и перемещает дно 15 сильфона

12. Давление газа в полости сильфона 12изменяется, что приводит, в свою очередь, к изменению кривизны его дна 13 из пленки, имеющей зеркальную поверхность 9, увеличивая кривизну отражателя 4 при движении Солнца к линии горизонта и уменьшая ее при движении Солнца к зениту. В результате этого плотность сконцентрированного на приемнике 19 солнечного потока автоматически поддерживается постоянной при любом положении Солнца над линией горизонта.

Поддержание постоянной плотности солнечного излучения на приемнике 19 при размещении его с тыльной стороны зеркала 11 путем изменения кривизны отражателя 4 вместо большого металлического или стеклянного зеркала 11 требует меньших механических усилий, создаваемых механизмом азимутально-зенитального слежения гелиоустановки и деформатором 5 отражателя 4, а также снижает вес гелиоустановки. Регулирование кривизны пленки путем изменения давления в полости сильфона 12 позволяет повысить точность поддержания постоянной плотности солнечного излучения по сравнению с гелиостатом, в котором изменяется давление на центральную точку пластины параболического зеркала. Применение регулиремого отражателя 4 позволяет также расширить диапазон конструктивных решений исполнения параболического зеркала и ассортимент используемых для его создания материалов.