Отражательная система

 

Изобретение относится к оптическому приборостроению и позволяет повысить стабильность отражательной способности системы путем снижения зависимости ее коэф. отражения от изменения углового положения устр-ва по отношению к направлению падающего излучения. Зеркальный объектив системы выполнен из двух идентичных параболических зеркал 1. 2. установленных на расстоянии, равном учетверенному фокусному расстоянию каждого из зеркал. Нормали зеркал, восстановленные в их BepiHHHax, ориентированы коллинеарно. Падающее на сисгему излучение взаимодействует с каждым из зеркал 1. 2 одинаковое количество раз. Нормально отражаюн|ее зерка.-ю 3 возвращает надаюп1ее па него излучение в обратном направлении. 1 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

<511 4 б 02 В 17 06

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ABTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4161516/24-10 (22) 15.12.86 (46) 30.08.88. Бюл. 1х1 32 (71) Киевский государственный университет им. Т. Г. Шевченко (72) В. М. Волков, В. В. Донец, В. П. Соболь и А. И. Шарапа (53) 535.87 (088.8) (56) Бегунов Б. И., Заказнов Н. П., Кирюшин С. И. Теория оптических систем.

М.: Машиностроение, 1981, с. 69.

Инфракрасная сРектроскопия высокого разрешения. Сб. статей/Под ред. Г. Н, Жижина. М.: Мир, 1972, с. 182. (54) ОТРАЖАТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА (57) Изобретение относится к оптическому приборостроению и позволяет повысить

„„Я0„„1420583 A 1 стабильность отражательной способности системы путем снижения зависимостн ее коэф. отражения от изменения углового положения устр-ва по отношению к направлению падающего излучения. Зеркальный обьектив системы выполнен нз двух идентичных параболических зеркал 1, 2, установлеHHblx на расстоянии, равном учетверенному фокусному расстоянию каждого из зеркал. Нормали зеркал, восстановленные в их вершинах, ориентированы коллинеарно. Падающее на сисгему излучение взаимодействует с каждым из зеркал 1, 2 одинаковое количество раз. Нормально отражающее зеркало 3 возвращаег падающее на него излучение в обратном направлении.

1 ил.

1420583

Формула изобретения

Составитель В. Кравченко

Редактор С. Лисина Техред И. Верес Корректор Л. Пилипенко

3 а к аз 4328/53 Тираж 533 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий ! 13035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к отражателям оптических приборов, и может быть использовано в автоколлимационных системах с подвижным отражателем, например, гониофотометров и коррелометров, Цель изобретения — повышение стабильности отражательной способности системы путем снижения зависимости ее коэффициента отражения от изменения углового положения системы по отношению к направлению падающего на ее излучения.

На чертеже представлена оптическая схема предлагаемого устройства.

Отражательная система содержит зеркальный объектив, выполненный в виде двух идентичных параболических зеркал 1 и 2, и перпендикулярное к его оптической оси . плоское зеркало 3. Параболические зеркала

1 и 2 установлены на расстоянии между их вершинами, равном учетверенному фокусному расстоянию f каждого из парабо- 20 лических зеркал 1 и 2, а нормали ni и п параболических зеркал 1 и 2, восстановленные в их вершинах, ориентированы коллинеарно. Плоское зеркало 3 установлено в задней фокальной плоскости зеркального об ьектива, образованного параболическими зеркалами 1 и 2, на расстоянии

3/2f от вершины параболического зеркала 2. Передняя фокальная плоскость зеркального объектива лежит перед параболическим зеркалом 1 также на удалении 3/2f . Отражательную систему ориентируют по отношению к падающему излучению так, чтобы энергетическая ось диаграммы направленности падающего излучения проходила через вершину параболического зеркала 1 и после отражения от него через вершину параболического зеркала 2.

Устройство работает следующим образом.

Падающее на отражательную систему излучение поступает на параболическое зеркало 1 под некоторым углом сп, обра- 4О зованным направлением оси диаграмм направленности падающего излучения и нор2 малью п1. После отражения от зеркала 1 излучение попадает на параболическое зеркало 2 под тем же углом падения тр.

Отраженное от параболического зеркала 2 излучение взаимодействует с нормально отражающим зеркалом 3 и возвращается в направлении, обратном падающему излучению, повторно взаимодействуя с параболическими зеркалами 2 и !. Изменение углового положения отражательной системы по отношению к направлению падающего излучения приводит к изменению угла падения излучения на поверхность параболического зеркала 1 (например, его увеличение на угол Лср). После отражения излучения от параболического зеркала 1 угол падения излучения на параболическое зеркало 1 также изменяется (уменьшается на угол Л р). Поскольку излучение взаимодействует с каждым из параболических зеркал одинаковое количество раз (дважды), приобретенное при разъюстировке углового положения отражательной системы увеличение коэффициента отражения на одном из параболических зеркал компенсируется уменьшением коэффициента отражения на втором из них.

Отражательная система, содержащая зеркальный объектив и перпендикулярное к его оптической оси плоское зеркало, размещенное в задней фокальной плоскости зеркального объектива, отличающаяся тем, что, с целью повышения стабильности отражательной сгособности системы путем снижения зависимости ее коэффициента отражения от изменения углового положения системы по отношению к направлению падающего на нее излучения, зеркальный объектив выполнен в виде двух идентичных параболических зеркал, установленных на расстоянии, равном учетверенному фокусному расстоянию каждого из параболических зеркал с коллинеарной ориентацией нормалей, восстановленных в их вершинах.

Отражательная система Отражательная система 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к гелиотехнике и позволяет повысить точность юстировки

Микроскоп // 1323995
Изобретение относится к экспериментальной физике-элементарных частиц и может быть использовано при исследовании свойств элементарных частиц

Изобретение относится к изучению свойств материалов и может быть использовано при контроле качества поверхностей , неразрушающем контроле изделий и при реализации метода фотостимулированной экэоэлектронной эмиссии

Изобретение относится к оптическому приборостроению и позволяет повысить качество изображения за счет уменьшения кривизны поверхности изображения и астигматизма

Изобретение относится к технике телевизионных видеодисплеев, в которых используется активная матрица жидких кристаллов совместно с проекционной оптикой

Изобретение относится к области оптического приборостроения и может быть использовано для юстировки составных сферических зеркал телескопов в процессе их сборки и эксплуатации

Изобретение относится к области оптического приборостроения и может найти применение как короткофокусный светосильный зеркальный объектив с широким полем зрения и высоким угловым разрешением, обеспечивающим высокое качество изображение по всему полю

Изобретение относится к области оптического приборостроения, а именно к классу полностью зеркальных оптических систем без центрального экранирования, и может быть использовано в фотографии, проекционной технике, Фурье-спектрометрах и другой аппаратуре, работающей с различными приемниками излучения, которые требуют увеличенного заднего фокального отрезка, хода лучей, близкого к телецентрическому, высокой коррекции аберраций в спектральном диапазоне, ограниченном лишь свойствами отражающих покрытий зеркал, и высокой радиационно-оптической устойчивости, например, при использовании в составе космической аппаратуры, работающей вблизи радиационных поясов в условиях воздействия космического излучения с высокой мощностью

Изобретение относится к оптическому приборостроению, и может быть использовано в оптической промышленности, и, в частности, в астрономических телескопах и особенно в оптико-электронных камерах космических телескопов и т.д
Наверх