Маскирующий материал для фотоформ

 

Изобретение относится к получению маскирующего материала, используемого в офсетной и глубокой печати в качестве маски при выполнении монтажей фотоформ для позитивного и негативного копирования. Изобретение позволяет обеспечить возможность многократного использования материала при монтаже фотоформ и после копирования за счет использования клеевого покрытия, содержащего, мас.ч: сополимер бутадиена со стиролом или 98A - метилстиролом 100

глицериновый эфир канифоли 5-50

пластификатор 0,5-30,0

полиэтиленовый воск или церезин 3-10

стабилизатор 0,5-2,0 и продукт взаимодействия диазотированного метааминоазотолуола с β-нафтолом 2-6. В качестве подложки в материале используют полиэтилентерефталатную пленку, в качестве покровной пленки-триацетатцеллюлозу или полиэтилентерефталат. 2 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ . СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

„ЛК» 1479489 А 1 (51) 4 С 09 J 7/02. G 03 F 3/06

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н Д BTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

С „.з

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4223682/23-05 (22) 23.02.87 (46) 15,05.89, Бюл. N - 18 (71) Киевский филиал по специальным видам печати Всесоюзного научно-исследовательского института комплексных п роб лем пол иг рафии (72) С.A.Ïîòèåâñêàÿ, Л.И.Слотвинская, Л.С.Шепотинник, Л,Н.Брик и Е,М.Ìoëo÷êo (53) 668,395. 7 (088,8) (56) Авторское свидетельство СССР

1! - 958459, кл. С 09 J 7/02, 198! .

Патент США Я- 3810812, кл. В 44 F 1/06, опублик. 1974. (54) МАСКИРУ10ЩИИ МАТЕРИАЛ ДЛЯ ФОТОФОРМ (57) Изобретение относится к получению маскирующего материала, используемого в офсетной и глубокой печа1

Изобретение относится к получению маскирующего материала, используемого в офсетной и глубокой печати в качестве маски при выполнении монтажей фотофом для позитивного и негативного копирования, Цель изобретения — обеспечение возможности многократного использования материала при монтаже фотоформ и после копирования„

В табл,1 представлены маскирующие материалы по изобретению, в табл,2— их свойства, В качестве покровных пленок используют пленки толщиной 18-45 мкм, в качестве подложки толщиной 70150 мкм, что обусловлено технологи ти в качестве маски при выполнении монтажей фотоформ для позитивного и негативного копирования, Изобретение позволяет обеспечить возможность многократного использования материала при монтаже фотоформ и после копирования за счет использования клеевого покрытия, содержащего, мас.ч. . сополимер бутадиена со стиролом или о -метилстиролом. 100; глицериновый эфир канифоли 5-50; пластификатор

0,.5-30,0; полиэтиленовый воск или церезин 3-10; стабилизатор 0,5-2,0 и продукт взаимодействия диазотиро-i ванного метааминоазотолуола с Р -нафтолом 2-6. В качестве подложки в материале используют полиэтилентетрафталатную пленку, в качестве покровной пленки — триацетатцеллюлозу .или полиэтилен терефталат, 2 табл, 2 ческ им и особ еннос тями изго товления и

4- ъ использования материала, В клеевом покрытии. в качестве со- © полимера используют сополимер бутадие. @ на со стиролом или сС -метилстиролом М радикальной полимеризации с содержа- (© нием с тирола или оС -метилс тирола 2030K, марок, СКС-30 АРКП, СКМС-30 АРКПН, СКМС-30 РП, ДСТ-30 ДМСТ-30; в качестве воска используют церезин или полиэтиленовый воск, в качес тв е плас" тификатора используют масла индустриальные — вазелиновое, трансформаторное, эфиры фталевой и себациновой кислот — дибутилфталат, дибутилсебацинат1 хлорпарафин, или их смесь в любом соотношении, в качестве ста3

147 билиэаторл используют диметил (4-фениламинофенокси) силан, бис(3,5-дитрет-бутил-4-гидроксибензил) сульфид, диметилбис14-((нафтил-2) амино1фенокси1силен; 2,2 -метиленбис (6-третбутил-4.-метилфенол); продукт взаимодействияя диазотированного метааминоазотолуола с -нафтолом описывает-ся формулой

9489

Полученный в соо тве тс твии с изобретением маскирующий материал обладает комплексом таких лдгезиоино-когезионных показателей, которые обеспечивают съемному слою (покровной полимерной пленке с клеевым покрытием) отделение от подложки беэ разрыва клеевого слоя и оценивается поклзате10 лем сопротивления отслаиванию съемного слоя от подложки.

Сопротивление отслаиванию определяли на разрывной машине РМБ-3 при скорости движения нижнего зажима

О

15 100 мм/мин и угле расслаивания 180

Для получения маскирующего материала на покровную полимерную пленку наносят на клеенаносной машине с помощью ракельного устройства предвари- 20 тельно изготовленный клеевой состав, который сушат в сушильной камере при

90-150 С в течение 1-2 мин и дублируют с подложкой.

Толщина готового маскирующего ма- 25 териала 110 220 мкм.

Клей готовят в смесителе с пропеллерной мешалкой при температуре не

О выше 50 С, куда загружают растворитель (б утила це та т, б ен зин, о-к силол, 30 толуол или их смесь в любом соотношении), стабилизатор, продукт взаимодействия диаэотировлнного метааминоазотолуола с Р -нафтолом и, после тщательного перемешивания, сополимер бутадиена со стиролом или оС -метилстиролом. После их растворения загружают. остальные компоненты согласно рецептурам табл.1 и перемешивают до получения однородного состава, 40

В соответствии с изобретением маскируняций материал используют в качестве маски при выполнении монтажных работ, для чего лист маскирующего материала помещают на монтаж фотоформ. 45

Режущим инструментом надрезают по контуру фотоизображений съемный слой (покровная полимерная пленка с клеевым покрытием) и удлляют его.

В результате получают позитивную или негативную маску, после чего осуществляют копиронлние.

При корректировке контуров полученной маски снятый съемный слой повторно приклеивлют к подложке и после копирования млскируюший материал сохраняет свои лдгезионно-когезионные показатели, что и. >воляет исполь-. зовать его повторно, Формула. изобретения

Маскирующий материал для фотоформ, состоящий иэ полимерной подложки, клеевого покрытия на основе синтетического каучука, и трилцета тцеллюло зной или полиэтилентерефталлтной покровной пленки, о т л и ч л ю щ и и с я тем, что, с целью обеспечения воэможности многократного использования материала при монтаже фотоформ и после копирования, полимерная подложка выполнена из полиэтилентерефтллатной пленки, клеевое покрытие Bb)IIoJI неко из композиции, содержлщий,мас,ч:

Сополимер бутлдиенл со стиролом или оС -метилстиролом

Глицериновый эфир канифоли

Пластификатор

Полиэтиленовый воск

100

5 — 50

0,5 — 30,0

3-10

0,5-2,0 или цереэин

Стабилизатор

Продукт взаимодействия диазотированного метялминоазотолуолл с

Р -нафтолом

2-6

Сопротивления отслаиванию после копирания определяли в жестких условиях. Для чего из образца маскирующе. го материала вырезали полоски размером 10х150 мм, снимали сьемнь>й слой (покровная полимерная пленка с клеевым покрытием) и .облучали клеевое покрытие на приборе ОКН-1 1 лучами ртутно-кварцевой лампы ПРК-4 нл расстоянии 20 см в течение 15 мин, Затем образцы прикатывали валиком весом 5 кг и через 60 мин проводили испытание, 1479489

Таблица 1

Компоненты

100

100

100

100

100

100

100

10

0,5

0,5

6

5 6

150

300 200

100

120 150

100

300

300

300

100 100

100

100

ПЭТФ ПЭТФ ПЭТФ ПЭТФ Триац. Триац, Триац, 45 18 35 25 35 35 35

Сополимер бутадиена со . тиролом:

СКС-30 АРКП

CKNC-30 РП

ДСТ-30

ДИСТ-30 (oL-метил.стиролом)

Глицериновый эфир канифоли

Трансформаторное масло

Вазелиновое масло

Дибутилф тала т

Хлорпарафин

Диметил (4-фениламинофенокси)силан

Бис (3,5-ди-трет-бутил

4-гидроксибензил) суль фид

2, 2.- метиленбис (6-тре тбутил-4-ме тилфенол)

Дере зин

Полиэтиленовый воск 4

Продукт взаимодействия, диазотированного метааминоазотолуола с Р -нафтолом

Диметилсилоксановый кауч — СКТН-Г

ОлигометилсилоксанПМС-200

Бензин

Б утила це та т

Орто ксилол

Подложка (.толщина,мкм) (ПЭТФ)

Покровная пленка толщина, мкм

Содержание по примерам, мас,ч,.

) ТГ (Т Т

1 2 3 4 5к бк 7

1479489

Таблица

Клеевая компози

Показатели сопротивления отслаиванию, Н/м пи я. ио приПосле

3-кратПервоначальПосле копирования мерам ного переклеиваное ния

23

31

27

32

42

1

3

5 (контрольная) 9

6 (контрольная) 14

7 35

Известный 25

33

С ос тавитель Г,Мишен зникова

Техред А. Кравчук Корректор O.Кр; вп ва

Редактор М,Товтин

Заказ 2503/24

Тираж 632

Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при Ki!1 СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, у.i. 1 аг»рпяа,101

Маскирующий материал для фотоформ Маскирующий материал для фотоформ Маскирующий материал для фотоформ Маскирующий материал для фотоформ 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области полиграфического производства, к системам для получения цветоделенных цветокорректированных фотоформ, и направлено на повьшение производительности

Изобретение относится к фотографии и позволяет повысить качество фотошаблона путем коррекции его по параметрам убывания прозрачности от центра к периферии

Изобретение относится к фоторепродукционным процессам, в частности к способам маскирования цветоделенных растровых негативов, изготовляемых методом прямого растрирования

Изобретение относится к химической технологии, точнее к созданию клея для изготовления двусторонней липкой ленты для крепления листового терморегулирующего покрытия нитевидных тугоплавких кристаллов оксидов цинка

Изобретение относится к изо - ляционным материалам, в частности к -битумсодержащим поливинилхлоридным, для изоляции строительных объектов

Изобретение относится к получению клеевых композиций на основе бутадиенакрилонитрильных каучуков для липких лент на подложке из металлизированной полиимидной пленки

Изобретение относится к области химии полимеров, в частности к клеям для липких лент на основе поливинилхлоридных (ПВХ) пластифицированных пленочных материалов и может быть использовано в автомобильной и другой транспортной технике для изоляции проводов электроаппаратуры, скрепления пучков проводов
Наверх