Композиция для обработки монокристаллов силленитов

 

1. Композиция для обработки монокристаллов силленитов, содержащая полирующий порошок, травитель и воду, отличающаяся тем, что, с целью повышения стойкости полированной поверхности монокристаллов к мощному лазерному излучению, композиция дополнительно содержит комплексообразователь, например трилон Б, и вещество, предотвращающее гидролиз травителя, например хлорид аммония, а в качестве травителя используют хлорид цинка при следующем соотношении компонентов, мас.%: Полирующий порошок - 0,1 - 5,0 Трилон Б - 0,5 - 5,0 Хлорид аммония - 1,0 - 15 Хлорид цинка - 1,0 - 50 Вода - Остальное 2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит поверхностно-активное вещество, например синтанол, в количестве 0,05 - 0,5 мас.%.

3. Композиция по пп.1 и 2, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит стабилизатор суспензии, например оксиэтилцеллюлозу, в количестве 0,1 - 1,0 мас.%.