Газоразрядной плазмы

Авторы патента:

H05H1/24 - Плазменная техника (термоядерные реакторы G21B; ионно-лучевые трубки H01J 27/00; магнитогидродинамические генераторы H02K 44/08; получение рентгеновского излучения с формированием плазмы H05G 2/00); получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов (получение нейтронов от радиоактивных источников G21, например G21B,G21C, G21G); получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов (атомные часы G04F 5/14; устройства со стимулированным излучением H01S; регулирование частоты путем сравнения с эталонной частотой, определяемой энергетическими уровнями молекул, атомов или субатомных частиц H03L 7/26)

 

О П И С А Н И Е l66974

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Кл. 21@, 210

Заявлено 04.11.1963 (№ 818030/26-25) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 12.XII.1964. Бюллетень № 24

Дата опубликования описания 15.1.1965

МПК Н 01j

УДК

Государственный комитет по делам изобретений и открытий СССР

Автор изобретения

Ю. В. Кубарев

Заявитель

ИСТОЧ Н И К ГАЗОРАЗ РЯДНО И ПЛАЗМЫ

Предмет изобретения

Подписная группа М 84

Известны источники газоразрядной плазмы непрерывного действия, состоящие из герметичной керамической трубы, помещенной в неоднородное магнитное поле. Внутри трубы расположена разрядная камера, содержащая анод и катод прямого накала и систему вспомогательных электродов.

Описываемый источник газоразрядной плазмы отличается от известных тем, что на выходе его расположена ионизационная камера, корпус которой через переключатели подключен к аноду и в которой имеется отверстие для подачи рабочего газа.

Такое выполнение устройства позволяетувеличить степень ионизации газа и скорость плазменной струи источника.

На чертеже схематически изображено описываемое устройство. Устройство содержит анод 1 и катод 2 прямого наклона, вспомогательный электрод 8. Ионизационая камера 4 расположена на выходе источника и корпус ее через переключатель подключен к аноду. Через отверстие б подается рабочий газ. Всеэлементы заключены в кварцевую оболочку 6, которую помещают между электромагнита5 ми 7.

Источник газоразрядной плазмы непрерыв10 ного действия, состоящий из герметичной керамической трубы, помещенной в неоднородное магнитное поле, внутри которой расположена разрядная камера, содержащая анод и катод прямого накала и систему вспомога15 тельных электродов, отличающийся тем, что, с целью увеличения степени ионизации газа и скорости плазменной струи источника, в нем на выходе расположена ионизационная камера, корпус которой через переключатель под20 ключен к аноду и в которой имеется напускное отверстие для подачи рабочего газа.

Редактор П. Шлаин

Составитель Г. Анашкин

Техред Ю. В. Баранов

Корректор Т. В. Муллина

Заказ 3589/15 Тираж 575 Формат бум, 60 90 /< Объем 0,13 изд, л. Иена 5 коп.

ЦНИИПИ Государственного комитета по делам изобретений и открытий CCCIз

Москва, пр. Серова, д. 4

Типография, пр. Сапунова, 2

Газоразрядной плазмы Газоразрядной плазмы 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электронной технике, более конкретно к устройствам питания импульсных высоковольтных приборов с накаливаемыми или холодными катодами, в том числе газоразрядных

Изобретение относится к области газоразрядной техники, а более конкретно к управляемым газоразрядным приборам силовой электроники

Изобретение относится к газоразрядной технике, а именно к газоразрядным приборам с холодным катодом и узлам управления, предназначенным для регулирования момента зажигания и может быть использовано для работы в высоковольтных установках в качестве коммутирующих элементов

Изобретение относится к газоразрядной технике и может быть использовано для получения тлеющего разряда (ТР) постоянного тока для различных целей, преимущественно для накачки газовых лазеров

Изобретение относится к источникам УФ- и ВУФ-излучения на основе барьерного разряда в инертных газах и их смесях с галогенами
Наверх