Устройство для контроля качества материала

 

Изобретение может быть использовано для определения технологических характеристик материала и позволяет расширить технологические возможности устройства. Устройство содержит измерительную сферу , приемник отраженного от поверхности материала излучения, источник излучения, В данном устройстве измерительная сфера выполнена из двух полусфер с зазором, дополнительные источник излучения и фотоприемник расположены в одной полусфере, а осветитель установлен с возможностью освещения диаметрально противоположного участка той же полусферы, в которой оч размещен. 3 з.п, ф-лы, 1 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (st)s 0 01 6 23/06

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОPCКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4655888/12 (22) 28.02.89 (46) 30.12.91. Бюл, М 48 (71) Центральный научно-исследовательский институт промышленности лубяных волокон (72) E. М. Андреев, В. А. Дорогов, А. P. Евстигнеев, И. В. Яковлев, Н. В. Юмашев и

М.E.Æåëàííoâà (53) 681.185(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

N. 1172949, кл. Р 01 6 23/06, 1983. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ КАЧЕСТВА МАТЕРИАЛА

Изобретение относится к устройствам . для контроля качества материала и может быть использовано для определения технологических характеристик материала.

Известно устройство для контроля качества материала, содержащее измерительную интегрирующую сферу с расположенными в разных полусферах относительно центральной диаметральной оси отверстиями, фотоприемник и источник излучения, установленный в отверстии одной из полусфер.

Недостаткам известнага устройства являются невысокие функциональные возможности.

Цель изобретения — расширение функциональных возможностей, На чертеже изображено устройство, общий вид.

Устройство содержит блок измерения, включающий активный фатометр, состоя„„. Д ÄÄ 1701762 Al (57) Изобретение может быть использовано для определения технологических характеристик материала и позволяет расширить технологические возможности устройства.

Устройство содержит измерительную сферу, приемник отраженного ат поверхности материала излучения, источник излучения, В данном устройстве измерительная сфера выполнена из двух полусфер с зазорам, дополнительные источник излучения и фотоприемник расположены в одной полусфере, а осветитель установлен с возможностью освещения диаметрально противоположного участка той же полусферы, в которой OH размещен. 3 з,п. ф-лы, 1 ип. щий из интегрирующей измерительной сферы, выполненной из двух полусфер 1 и 2, установленных одна отнэсительно другой с зазором 3 дпя рээмеще ия контролируемога материала 4.

В отверстиях полусферы 1 установлены источник 5 излучения (например, ",àýåð) са среДством расфокусирава ни. . его излучения (не показано) и фотаприемник 6 для восприятия излучения, отраженного ат поверхности материала и интегрируемого вну,ренней поверхностью полусфер l и 2. При этом направление светового патака от осветителя расположено пад углом 90 +. 5 к оптической аси фотоприемников, которая, в свою очередь, перпендикулярна направлению перемещения материала 4. Фотаприемник

6 закрыт экраном 7, расположенным на диаметрально противоположном относительна осветителя 5 участке полусферы для избежания засветки светом, исходяшим не1701762 посредственно от осветителя и отраженным от поверхности полусферы.

В полусфере 2 установлен фотоприемник 8 для восприятия излучения, прошедшего сквозь материал и неоднократно отраженного оз поверхностей полусфер 1 и

2. При этом оптическая ось фо оприемникэ

8 соосна с оптической осью фотоприемника 6.

В полусфере 2 может быть установлен ,дополнительный источник излучения (осве, титель 9), аналогичный осветителю в полу сфере 1, Устройство работает следу|ощим обра;зом.

Излучение от источника 5 попадает на ! противоположную стенку полусферы 1 и после многократных отражений от стенки полусферы и контролируемого материала 4 попадает на фотоприемник 6, который регистрирует суммарный коэффициент стражения. Часть излучения проникает червз материал 4 в полусферу 2 и после многократных отра>кений попадает на фотоприемник 8, который регистрирует суммарный коэффициент пропускания.

Пример. Г1олусфера с внутренним диаметром 60 мм с отверстиями, расположенными под углом 90 5О один к другому.

Внутренняя поверхность полусферы имеет покрытие, обеспечивающее диффузное рассеивание. В качестве источника изгучения используется полупроводниковый лазер с длиной волны 0,89 ля<м, в качестве фотоприе м и и ка — фотодиод ФД-24 К.

При этом облучение большой поверхности материала диффузионно рассеянн"ì светом, равномерно распределенным по асей этой поверхности, при многократном отражении от стенок полусфер позволяет повысить точность контроля таких показателей свойств материала, как белизна, структура, за счет обеспечения возможности усредненной оценки показателей свойств материала с неравномерными свойствами по его площади.

Использование изобретения расширяет

5 функциональные возможности устройства.

Формула изобретения

1. Устройство для контроля качества материала, содержащее измерительную интегрирующую сферу с расположенными в

10 разных полусферах относительно центральной диаметральной оси отверстиями, фотоприемник и источник излучения, установленный в отверстии одной из полусфер, о тл и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью рэсши15 рения технологических возможностей, полусферы измерительной интегрирующей сферы расположены с зазором относительно центральной оси, в одной из полусфер в точке пересечения оси, проходящей через

20 геометрический центр измерительной интегрирующей сферы перпендикулярно центральной диаметральной оси, и поверхности измерительной интегрирующей сферы выполнено дополнительное отверстие, в

25 котором установлен фотоприемник.

2. Устройство по и, 1, о т л и ч а ю щ е ес я тем, что оно снабжено дополнительным фотоприемником, а в другой полусфере диаметрально противоположно первому до30 полнительному отверстию в первой полусфере выполнено второе дополнительное отверстие, в котором установлен дополнительный фотоприемник.

3, Устройство по пп. 1 и 2, о т л и ч а ю35 щ е е с я тем, что оно снабжено дополнительным источником излучения, установленным аналогично основному источнику излучения первой полусферы в основное отверстие второй полусферы, 40 4. Устройство по пп. 1 — 3, о т л и ч а ющ е е с я тем, что оно снабжено экраном, расположенным на диаметрально противоположном относительно источника излучения участке первой полусферы.

1701762

Составитель С.Алексанов

Техред M.Moðãåí Tàë Корректор; М.Шараши

Редактор А.Огар

Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул.Гагарина, 101

Заказ 4513 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5