Оптический клин

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

I3I342

Союз Советских

Социал истическиа

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 25.ЧН.1964 (№ 914148/26-25) Кл. 42h, 34/08 с присоединением заявки №

Приоритет

МПК G 02d

УДК 535.214(088.8) Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

Опубликовано 15ЛЧ.1966. Бюллетень № 9

Дата опубликования описания 28Л .19бб

Авторы изобретения

Л, А. Васильев и Л. И. Травникова

Заявитель

ОПТИЧЕСКИЙ КЛИН

11 х: х х) (х) dx, где /с — количество света в изображении какого-либо участка позитива на клине, х — текущая координата, к — коэффициент пропорциональности.

При равенстве световых потоков, падающих на фотоэлементы, выполняется соотношение: 1х1,(х) Шх= — 1х!,(х) нх.

Это является также условием равенства моментов сил, действующих на тело, причем равнодействующая сил световогс давления располагается на оси симметрии кл на (х=0).

Координата точки приложения ра, нодействующей сил светового давления опре. ляе;ся

Оптические клинья, получаемые, например, напылением поглощающего материала на стекло, выполняются либо с линейно меняющейся плотностью, либо в виде ступенчатых ослабителей. Эти клинья ослабляют световые 5 потоки по заданному закону с целью сравнения их величин с величинами исследуемых потоков. Однако прозрачность клиньев, рассчитанных на линейно либо ступенчато меняющуюся плотность, не является линейной 10 функцией.

Предложенный оптический клин выполнен в виде двух стеклянных пластин, между которыми напылен слой поглощающего материала. 15

Толщина напыляемого слоя выбирается так, что его прозрачность в одном направлении (вдоль оси Х) меняется линейно от «0» в центре до почти «1» на краях, а в направлении перпендикулярном (вдоль оси У) — по- 20 стоянна, Это позволяет использовать клин для определения точки приложения равнодействующей сил светового давления лучей, отраженных в данном направлении от исследуемого тела.

На фиг. 1 и 2 изображены графики изменения плотности напыления клина; иа фиг. 3— изображена оптическая схема прибора для — определения точки приложения равнодейству --с давления. 30

Клин 1 ставится перед двумя соприкасающимися ромбическими призмами 2, за которыми стоят объективы 3, собирающие лучи на фотоэлементы 4, связанные с гальванометром

5, а изображение исследуемого предмета, сфотографированного в заданном направлении, проектируется на поверхность клина.

Световые потоки, падающие на каждый из фотоэлементов, будут равны:

181342

Предмет изобретения фиг.г

4 Ьг.»

Составитель Л. Я. Гойхман

Редактор И. Г. Карпас Техред А. А. Камышникова

Корректоры: Л. Е. Марисич и Т. Н. Костикова

Заказ 1287117 Тираж 900 Формаг бум. 60X90!/з Объем О,!3 изд. л. Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров CCCP

Москва, Центр, пр, Серова, д. 4

Типография, пр. Сапунова, 2 перем i!I !Ii! и изображения по поверхности кл: на до уравнивания световых потоков, отме !аемого гальванометром.

1..!птический клин, выполненный, напр!!мер, в виде двух стеклянных пластин, между которыми напылен слой поглощающего материала, отличаюи ийся тем, что, с целью использования его для определения точки приложения равнодействующей сил светового давления лучей, отраженных от исследуемого тела

5 г, да!Гном направлении. толщина напыляемого сл! 51 выоир11етс11 тако!1, ООЫ 11розра 1!1ОО Гь клина менялась линейно в обе стороны от

«0» в центре до почти «1» на краях.

Оптический клин Оптический клин 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к оптическому приборостроению, а более конкретно к рассеивателям света и проекционным экранам

Изобретение относится к оптическим устройствам и может применяться при проектировании аппаратуры для переформирования пучка света с изменением его пространственной структуры

Изобретение относится к элементу, содержащему участок поверхности со специальной создающей оптический эффект рельефной микроструктурой поверхности

Изобретение относится к области светотехники и может быть использовано при создании отражающих поверхностей осветителей лазеров, где необходима высокая отражательная способность как УФ-излучения, так и ИК-излучения, лучевая стойкость и механическая прочность покрытия
Наверх