Патент ссср 182250

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

I82 250

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 20.lV.)965 (№ 1004135/26-25) с присоединением заявки ¹

П риоритет

Опубликовано 25.Ч.)966. Бюллетень № 11

Дата опубликования описания 7.UII.)966

К т 2)î., 2),, 0) МПК Н 0)J

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Мииистров

СССР

УДК 537,581:621.365.91 (088.8) СПОСОБ КОНТРОЛЯ НАИМЕНЬШЕГО ДИАМЕТРА

ПЯТНА ЭЛЕКТРОННОГО ЛУЧА

При использовании в измерительной цепи постоянного напряжения электрическое поле может влиять на электронный пучок. В этом случае через измерительную цепь проходят токи первичного пучка и вторичных электронов, что вносит дополнительную трудно учитываемую ошибку. Для ее устранения предлагается питать измерительную цепь импульсным напряжением, подавая измерительные

1О импульсы в промежутках между рабочими.

Измеряя ток, потребляемый от источника импульсного напряжения, можно точно определить момент наилучшей фокусировки.

1. Способ контроля наименьшего диаметра пятна электронного луча при импульсной электроннолучевой обработке материалов в

2О вакууме, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса фокусировки, измеряют ток термоэмиссни с обрабатываемой детали или с контрольной пластины и регулируют фокусирующие линзы так, чтобы получить максимальное значение тока термоэмиссии.

2. Способ по п. 1, с целью исключения луч электрического

30 мой измерения тока отличающийся тем, что, влияния на электронный поля, создаваемого схетермоэмнссии, и нсклюПри размерной импульсной электроннолучевой обработке материалов необходимо сфокусировать электронный пучок так, чтобы на обрабатываемой детали получилось электронное «пятно» минимального диаметра.

Предлагается для обнаружения момента острой фокусировки пучка использовать термоэлектронную эмиссию с обрабатываемой детали или (если материал обрабатываемой детали не позволяет получить значительную эмиссию) со специальной контрольной пластины, вводимой вместо детали. Известно, что при заданной мощности пучка температура в пятне примерно обратно пропорциональна площади пятна, а плотность тока эмиссии растет при повышении температуры быстрее, чем по экспоненциальному закону.

Поэтому, несмотря на уменьшение площади пятна с уменьшением диаметра, общий ток эмиссии пятна при улучшении фокусировки возр а стает.

По предлагаемому способу обрабатываемая деталь изолируется от заземленных частей установки, между деталью и землей включается источник напряжения (минусом к детали) и с помощью измерительного прибора контролируется ток в цепи этого источника напряжения. Максимуму тока соответствует минимум диаметра пятна.

Предмет изобретения

182250 импульсы напряжения подают в промежутках между рабочими импульсами, Составитель В. А. Богданова

Редактор и. Джарагетти Техред Г. F. Петровская

Заказ !931/5 Тираж 00 Формат бум. 60X90 /8 Объем О,! изд. л. Подписное

ЦНИ1ЛПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типография, пр. Сапунова, 2 чения ошибок, создаваемых токами вторичных и первичных электронов, измерительные

Корректоры: О. Б. Тюрина и T. Н. Костикова

Патент ссср 182250 Патент ссср 182250 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к методам модификации поверхностных слоев материалов, в частности к способам формирования поверхностных сплавов с помощью концентрированных потоков энергии (КВЭ)

Изобретение относится к области лазерной обработки материалов и может быть использовано в точном приборостроении, микроэлектронике, в изготовлении оптических и электронных элементов, в нанесении декоративных рисунков

Изобретение относится к металлургии и может быть использовано в авиационном и энергетическом газотурбиностроении, а также машиностроении для испарения многокомпонентных токопроводящих материалов с целью нанесения защитных покрытий преимущественно на лопатки турбин

Изобретение относится к вакуумной технике, в частности к вакуумному напылению пленок, и направлено на повышение качества напыляемых пленок за счет снижения расхода испаряемого материала и увеличения скорости испарения

Изобретение относится к приборам для электронно-лучевой обработки объектов и может использоваться для обработки изделий электронным лучом как при вертикальном, так и при горизонтальном положении рабочей камеры и лучевого тракта, в том числе в условиях низкого вакуума в рабочей камере

Изобретение относится к изготовлению металлических объектов с внутренними полостями сложной формы и может найти применение в различных отраслях машиностроения при изготовлении турбин, оптических систем лазеров и других

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме, а точнее к нанесению покрытий способом электронно-лучевого нагрева испаряемого материала с одновременным его осаждением на внутренних поверхностях деталей сложной формы

Изобретение относится к электронно-лучевому испарению и осаждению (конденсации) материалов, в частности к осаждению в условиях низкого вакуума

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления
Наверх