Способ приготовления пассивного лазерного затвора

 

Использование: в квантовой электронике для приготовления пассивных лазерных растворов неодимовых лазеров с длиной волны излучения 1,34 мкм. Кристаллы SrF2-Nd3+ аддитивно окрашивают в атмосфере насыщенных паров металлического Ca при температуре 950°С в течение 2 ч. Обеспечено повышение стабильности ионов Nd2f . 3 ил.

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано для приготовления пассивных лазерных затворов (ПАЗ) неодимовых лазеров с длиной волны излучения 1,34 мкм.

Известен способ приготовления пассивных лазерных затворов (ПЛЗ) работающих в спектральной области 1,2-2,0 мкм на основе кристаллов щелочных хлоридов и бромидов с Z4-центрами окраски. ПЛЗ= приготовленные указанным способом, имеют следующие недостатки: большая гигроскопичность и низкая фото- и термоустойчивость.

Наиболее близким по технической сущности является способ приготовления ПЛХ неодимового лазера с длиной волны излучения 1,34 мкм на основе -облученных кристаллов S2F2-Nd3+. Рабочими центрами являются ионы Nd3+, восстановленные до двухвалентного состояния. Им соответствует полоса поглощения в спектральной области 1,1-1,8 мкм, обусловленная межконфигурационными переходами. Однако, при данном способе приготовления ПЛЗ наблюдается нестабильность ионов Nd2+ при 300 К. В качестве примера, подтверждающего этот недостаток на фиг. 111 показано изменение спектра поглощения кристаллов S2F2-Nd2+ после -облучения.

Целью изобретения является повышение стабильности ионов Nd2+.

Поставленная цель достигается тем, что в способе приготовления пассивного лазерного затвора неодимового лазера длиной волны излучения 1,34 мкм на основе кристаллов S2F2-Nd2+, кристаллы S2F2-Nd3+ аддитивно окрашивают в атмосфере насыщенных паров Са при температуре 950оС в течение 2 ч.

Заявляемое техническое решение отличается от прототипа тем, что кристаллы S2F2-Nd3+ аддитивно окрашивают в атмосфере насыщенных паров Са при температуре 950оС в течение 2 ч.

При рентгеновском облучении кристаллов S2F2-Nd3+ происходит одновременная локализация электронов на примеси и дырок вблизи двух соседних ионов F- в узлах решетки. Это обуславливает образование двух типов центров - электронного Nd2+ и дырочного, который называется автолокализованной дыркой и рассматривается как аналог Vк-центра в ЩГК. Однако Vк-центры устойчивы лишь при низких температурах. При высоких температурах ( 300 К) подвижность дырок, и в частности Vк-центров, высока, за счет этого происходит взаимодействие Vк-центра и иона Nd2+, которое обуславливает потерю электрона примесным ионам, переходящим в трехвалентное состояние. Vк-центр и электрон могут образовать экситонное состояние, либо их взаимодействует будет сопровождаться рекомбинацией. Кроме Vк-центров при рентгеновском облучении могут быть образованы и другие дырочные центры, представляющие собой ионизованную молекулу Fо. Их взаимодействием с Nd2+ аналогично описанному.

Эффект стабилизации ионов Nd2+, восстановленных аддитивным окрашиванием, заключается в самом механизме образования Nd2+. При нагревании кристалла пары металла (в данном случае La) осаждаются на поверхности образца и с течением времени диффундируют в глубину кристалла. При этом происходит следующее: в парах металлический Са становится нейтральным, т.к. имеет два положительных и два отрицательных заряда. При диффузии оба электрона идут на восстановление Nd2, а оставшийся положительный заряд будет скомпенсирован двумя ионами фтора с образованием СаF2, который достраивает решетку кристалла. Следует заметить, что ионы фтора раннее компенсировали избыточный положительный заряд Nd3+, который занимал позицию S22+. Восстановленные ионы Nd2+будут при этом стабильны, поскольку в обычных условиях больше не будут протекать процессы которые могли бы сопровождаться захватом электрона от иона Nd2+.

На фиг. 1 изображено изменение спектра поглощения кристаллов S2F2-Nd2+ после -облучения; на фиг.2 - спектр поглощения аддитивно-окрашенных кристаллов S2F2-Nd3+; на фиг.3 - осциллограмма импульса лазерного излучения в режиме модулированной добротности.

П р и м е р. Кристаллы S2F2-Nd3+ были выращены методом Стокбаргера в вакууме. Концентрация ионов Nd3+ в шихте составляла 0,3 мас.% Из выращенных монокристаллов S2F2-Nd3+ были приготовлены плоскопараллельные пластинки толщиной 1,5-2,0 мм и диаметром 10 мм. Боковые поверхности были отполированы до зеркального блеска. Аддитивное окрашивание проводилось в автоклаве в атмосфере насыщенных паров Са при температуре 950оС в течение 2 ч. После окраски поверхности образцов были дополированы. Цвет образцов был красно-коричневым, равномерным по всей глубине. Спектр поглощения этих образцов приведен на фиг.2. Приготовленные таким образом образцы устанавливались в селективный резонатор неодимового лазера, образованный клиновыми зеркалами.

Длительность импульса лазерного излучения измерялась коаксиальным фотоэлементом ФК-15, энергия - колориметрическим измерителем ИМО-2 н.

В режиме модулированной добротности длительность импульса лазерного излучения составила 110 нс. Осциллограмма импульса приведена на фиг.3. Коэффициент преобразования энергии в режиме модулированной добротности был равен 20%.

В частотном режиме ПЛЗ, приготовленные предложенным способом, эффективно работали как в режиме одиночных импульсов, так и на частоте 100 Гц. Время наработки составило 106 импульсов и изменения параметров ПЛЗ зафиксировано не было. После этих экспериментов ПЛЗ из аддитивно окрашенных кристаллов S2F2-Nd3+ были подвергнуты хранению в лабораторных условиях. По истечении 3 месяцев хранения ухудшения их свойств не произошло.

Способ приготовления пассивных лазерных затворов неодимового лазера с длиной волны 1,34 мкм обеспечивает фото- и термическую стабильность рабочих центров окраски, равномерную окраску по объему кристалла, высокую техническую безопасность при изготовлении ПЛЗ, сокращение затрат времени и средств на изготовления, а также возможность применения в любых лабораториях вследствие простоты и дешевизны способа.

Формула изобретения

СПОСОБ ПРИГОТОВЛЕНИЯ ПАССИВНОГО ЛАЗЕРНОГО ЗАТВОРА неодимового лазера с длиной волны излучения 1,34 мкм на основе кристаллов SrF2 - Nd2+, отличающийся тем, что с целью стабилизации ионов Nd2+, кристаллы SrF2 - Nd3+ аддитивно окрашивают в атмосфере насыщенных паров Ca при температуре 950oС в течение 2 ч.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано при создании на основе легированных щелочными металлами полупроводниковых соединений детекторов ядерных излучений, светоизлучающих структур, других полупроводниковых устройств и приборов

Изобретение относится к технологии получения соединений внедрения в графит (СВГ), в частности к получению квазимонокристаллов СВГ интеркалята: интергалоидов, хлоридов металла или галогенов акцепторного типа низких ступеней с высокой электропроводностью и различными периодами идентичности

Изобретение относится к технологии полупроводников-сложного состава, в частности к получению гетерострук- , тур, оба компонента которых принадлежат к соединениям класса А В С

Изобретение относится к устройству для термического окисления пластин кремния, которые находят широкое применение в технологии полупроводниковых материалов
Изобретение относится к технологии изготовления неорганических сцинтилляторов для детекторов ионизирующих излучений, преимущественно "тепловых" нейтронов, мягких гамма-квантов и короткопробежных заряженных частиц

Изобретение относится к получению щелочно-галоидных монокристаллов высокой степени чистоты и может быть использовано для получения диспергирующих зле ментов ИК-спектроскопии, сред для записи информации, образцов для фундаменталь ных исследований, а также для очистки монокристаллов от кислородсодержащих примесей

Изобретение относится к получению монокристаллов бромидов и может быть использовано для легирования кристаллов и их использования в фундаментальных исследованиях

Изобретение относится к области выращивания активированных монокристаллов и может быть использовано при производстве сцинтилляторов, применяемых в приборостроении для ядерных, космических, геофизических исследований, для медицинской и промышленной компьютерной томографии
Наверх