Способ термообработки сильнолегированных монокристаллов кремния

 

Использование: способ относится к металлургии, а именно к технологии полупроводниковых материалов, преимущественно для получения однородных сильнолегированных монокристаллов кремния с воспроизводимыми электрофизическими характеристиками. Сущность изобретения: способ включает многократный нагрев до (147050)K и охлаждение до (77050)K, которые проводят 4-5 раз. При этом обеспечивается снижение разницы значений концентраций вдвое по сравнению с прототипом и сокращение процесса термообработки. 1 табл.

Изобретение относится к металлургии, а именно к технологии полупроводниковых материалов. Преимущественно изобретение может быть использовано для получения однородных сильнолегированных монокристаллов кремния с воспроизводимыми электрофизическими характеристиками. Оно может найти применение для монокристаллов кремния, сильнолегированных фосфором, бором и другими элементами.

Известен способ получения сильнолегированных монокристаллов кремния, включающий термообработку с нагревом до температуры (1370 1470)K со скоростью 1000 град/ч, выдержкой при этой температуре в течение 10 ч и охлаждением (Шиманский А.Ф. и др. Влияние термообработки на структурное совершенство сильнолегированных монокристаллов кремния. Неорганические материалы, т. 29, N 1, с. 18-20). Этот способ позволяет уменьшить разницу значений концентраций примесей с 10 до 4% Однако недостатком такого способа является длительность процесса и относительно высокая остаточная неоднородность распределения примесей.

Основная задача изобретения заключается в повышении однородности сильнолегированных монокристаллов кремния. Другой задачей является сокращение времени термообработки.

Для достижения поставленной задачи заявляемый способ получения сильнолегированных монокристаллов кремния содержит следующую совокупность существенных признаков. Сильнолегированные монокристаллы кремния нагревают до температуры (147050)K, затем охлаждают до (77050)K, далее повторяют циклы нагрева и охлаждения многократно. Наиболее целесообразно проводить термообработку до 4 5 раз. Скорость нагрева и охлаждения при термоциклировании составляет около 1500 град/ч. Окончательное охлаждение производят с верхней температуры.

Существенное отличие заявляемого способа от известных технических решений подтверждается тем, что в предложенном объекте используется новый существенный признак, которым является многократные нагрев и охлаждение, т.е. термоциклирование. При этом новый признак обеспечивает снижение разницы значений концентраций практически вдвое по сравнению с прототипом.

Эффект повышения однородности примесей в монокристаллах кремния наблюдается после 4 5 кратного нагрева до температуры (147050)K и охлаждения до (77050)K.

Использование верхней температуры нагрева свыше (147050)K вызывает ухудшение качества кристаллов, что связано с возрастанием концентрации дефектов кристаллического строения вблизи точки плавления.

Применение нижней температуры менее (77050)K, как показали исследования, нецелесообразно, т.к. монокристалл не оказывается более однородным по концентрации примеси.

Скорость нагрева и охлаждения ограничивалась инерционностью системы.

Число циклов нагрева-охлаждения менее четырех не дает требуемых результатов. Увеличение количества циклов свыше пяти нецелесообразно, т.к. не вызывает заметного повышения однородности монокристалла.

Предлагаемый способ повышения однородности опробован на монокристаллах кремния, легированных фосфором до значения удельного сопротивления приблизительно 0,005 Ом.см, что отвечает содержанию фосфора около 1020 см-3.

Монокристаллы кремния выращены из расплава по методу Чохральского в кристаллографическом направлении. Выращивание производили на установке "Редмет-15" из тигля диаметром 232 мм со скоростью 1,5 2,0 мм/мин. Скорость вращения затравки составляла 10 15 об/мин, тигля 3 4 об/мин. Размеры слитков составляли: диаметр 65 мм, длина до 700 мм.

Для экспериментов использовали образцы с размерами 10х10х30 мм3, вырезанные из исследуемых монокристаллов. Отжиг проводили в печи установки для выращивания монокристаллов "Редмет-15".

Микроренгеноспектральный анализ распределения примесей производили на растровом электронном микроскопе-микроанализаторе РЭМ-100У с локальностью 1 мкм3. Съемку осуществляли в режиме накопления импульсов, время счета составляло 30 мин. Измерения вели на расстоянии 15 мкм с шагом 2,5 мкм, в каждой точке производили по 5 замеров.

В таблице приведен предлагаемый способ получения сильнолегированных монокристаллов кремния в сравнении с выбранным прототипом и исходным состоянием.

Примеры конкретного выполнения термообработки.

Пример 1. Образец монокристалла кремния, сильнолегированного фосфором, размером 10х10х30 мм3 нагревали до температуры (147050)K, выдерживали 10 ч и охлаждали. Максимальная разница значений Сpp после термообработки составляет прибл. 4,5% а в исходном образце прибл. 10% Пример 2. Образец монокристалла кремния, сильнолегированного фосфором, размером 10х10х30 мм3 нагревали до температуры (147050)K со скоростью 1500 град/ч, затем охлаждали до (77050)K с той же скоростью, далее повторяли циклы нагрева и охлаждения до 4 раз. Окончательное охлаждение производили с верхней температуры. Максимальная разница значений Сpp составляет прибл. 2,1% что примерно вдвое меньше по сравнению с прототипом. Длительность процесса также меньше приблизительно в два раза.

Из таблицы следует, что предлагаемый способ получения сильнолегированных монокристаллов кремния обеспечивает необходимую однородность распределения примесей и сокращает время термообработки.

Формула изобретения

Способ термообработки сильнолегированных монокристаллов кремния, включающий нагрев монокристаллов до (1470 50)К и их последующее охлаждение, отличающийся тем, что охлаждение осуществляют до (770 50)К, причем нагрев и охлаждение проводят 4 5 раз.

РИСУНКИ

Рисунок 1



 

Похожие патенты:
Изобретение относится к способу получения оптически прозрачных кристаллов селенида цинка выращиванием и отжигом кристаллов

Изобретение относится к сцинтилляционной технике и обеспечивает увеличение светового выхода, улучшение энергетического разрешения и стабилизации сцинтилляционных параметров кристаллов

Изобретение относится к области получения монокристаллов высокотемпературных сверхпроводников (ВТСП), в частности YBa2Cu3O7-

Изобретение относится к области сцинтилляционной техники и предназначено для регистрации и спектрометрии гамма-квантов и других элементарных частиц, в частности к способам термообработки кристаллов германата висмута

Изобретение относится к технологии получения монокристаллов и может быть использовано при промышленном производстве кристаллов, находящих все более широкое применение в науке и технике

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов кремния по методу Чохральского с однородным распределением кислорода по всей длине кристалла при обеспечении его бездислокационной структуры, что позволяет использовать эти кристаллы в производстве интегральных схем с высоким уровнем интеграции

Изобретение относится к производству кремния для стабилитронов и подложек для эпитаксии

Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых материалов и может быть использовано при выращивании монокристаллов кремния по методу Чохральского

Изобретение относится к металлургии полупроводникового кремния и может быть использовано при получении легированных монокристаллов кремния методом индукционной бестигельной зонной плавки

Изобретение относится к полупроводниковой металлургии

Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может найти применение в промышленности при изготовлении ряда дискретных полупроводниковых приборов (например, тензодатчиков, полевых транзисторов, переключателей, датчиков малых перемещений и других приборов)

Изобретение относится к области получения полупроводникового материала
Наверх