Способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов

 

Использование: силовая полупроводниковая техника. Сущность изобретения: способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов заключается в облучении партии выпрямительных элементов (в.э.) потоком быстрых электронов, - квантов или протонов, при этом на каждом i-том выпрямительном элементе предварительно определяют U, при заданном I3, и , а величину дозы облучения 1i определяют из соотношений: U3 - U3 Uki U3+U3 ; где U3 - величина Uв.э. при I3 Uki - фактическое значение U i-того в.э. после облучения при I3; U - допустимая величина отклонения Uki от U3; - максимальное значение коэффициента для тиристоров или диодов при облучении, которое предварительно определяется на других в.э. этого же типа; К - постоянная Больцмана; T - температура в.э. при измерении U; W - ширина эффективной базовой области; Loi, 0i --диффузионная длина и время жизни н.н.з. в эффективной базовой области i-того в.э. до облучения; K - максимальное значение коэффициента деградации времени жизни неосновных носителей заряда н.н.з., предварительно определенное на других в.э.; D* - амбиполярный коэффициент диффузии. На в.э. неудовлетворяющих условию (1) у каждого i-того в.э. после облучения контролируют U при I3 и и проводят повторное облучение, величина дозы которого для каждого i-того в.э. должна удовлетворять соотношениям (1)
2 табл.

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов.

Регулирование величины напряжения (U) в открытом состоянии тиристоров и диодов осуществляется с целью увеличения их быстродействия (снижения времени выключения tg для тиристоров или заряда обратного восстановления Qrr для тиристоров и диодов) или снижения разницы в значениях U у тиристоров или диодов изготавливаемой партии, что необходимо при их использовании, например, при параллельном соединении. В первом случае, как правило, U3 задается равным импульсному напряжению в открытом состоянии U. Регулирование U у тиристоров обычно осуществляется путем регулирования (уменьшения) времени жизни неравновесных носителей заряда (н.н.з.) в эффективной базовой области -(). Для этого используют диффузию золота, платины или радиационные методы электронного, протонного или - облучения.

Известен способ [1] уменьшения в полупроводниковых приборах путем проведения диффузии платины. При использовании этого способа процент выхода годных приборов и воспроизводимость их параметров возрастает по сравнению с использованием диффузии золота на несколько процентов.

Недостатком данного способа является то, что перед проведением диффузии исходное состояние для каждой полупроводниковой структуры неизвестно и, хотя они могут существенно различаться, режим диффузии устанавливается единым для всей партии. Поэтому значения U у большинства изготовленных выпрямительных элементов (в.э.) существенно отличаются от U3.

Известен способ [2] регулирования U на в.э. тиристоров, заключающийся в облучении партии их в. э. потоком быстрых электронов. При использовании данного способа на каждом в.э. до облучения контролируют исходные значения Uo.i. при заданном значении амплитуды анодного тока в открытом состоянии (I3) oi и устанавливают дозу облучения для i-того в.э. 1i из соотношений:
U3-U3UkiU3+U3, (3)

,
где
U3 - величина требуемого U у в.э. облучаемой партии после облучения, измеренная при I3;
Uki - фактическое значение Ui-того в.э. после облучения, измеренное при I3;
U3- допустимая величина отклонения Uki от U3;
- максимальное значение коэффициента, которое для тиристоров и диодов облучаемого типа предварительно определяют на других в.э.;
K - постоянная Больцмана;
T - температура в.э. при измерении;
W - ширина эффективной базовой области;
q - заряд электрона;
Loi, oi- диффузионная длина и время жизни н.н.з. i-того в.э. до облучения;
D* - амбиполярный коэффициент диффузии;
K- максимальное значение коэффициента деградации времени жизни н.н.з. () для в. э. облучаемого типа в используемом режиме облучения, предварительно определенное на других в.э.

Недостатком данного способа является то, что и K определяются заранее на других в.э. тиристоров данного типа и считаются едиными для всех в.э. данного типа. Фактически значения и K даже у в.э. одного типа тиристоров могут существенно различаться, что обусловлено различиями геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структур, возникающих из-за неполной воспроизводимости режимов технологических операций в процессе производства тиристоров. Поэтому и при использовании этого метода много в.э. после облучения имеют недопустимые отличия величины Uki от U3, что не позволяет достичь у них требуемых значений tq, Qrr и использовать их при параллельном соединении.

Предлагается способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов, устраняющий перечисленные выше недостатки. Способ заключается в том, что в известном способе, состоящем в облучении партии выпрямительных элементов, на каждом i-том из которых предварительно определяют U(Uoi) при заданном значении амплитуды анодного тока в открытом состоянии (I3) и время жизни неравновесных носителей заряда в эффективной базовой области (oi), потоком быстрых электронов, - квантов или протонов, величину дозы которого для i-того выпрямительного элемента (1i) определяют из соотношений:
U3-U3UkiU3+U3, (1)


и у каждого i-того выпрямительного элемента после облучения контролируют U (U1i) при I3 и (1i), и на тиристорах и диодах, неудовлетворяющих условию (1), проводят повторное облучение, при котором величина дозы облучения i-того выпрямительного элемента (2i) удовлетворяет соотношениям:
U3-U3UkiU3+U3, (1)






где
L1i - диффузионная длина неосновных носителей заряда i-того выпрямительного элемента после первого облучения;
L2i - диффузионная длина неосновных носителей заряда i-того выпрямительного элемента после второго облучения;
коэффициент деградации времени жизни в процессе электронного облучения у i-того выпрямительного элемента;
ai - коэффициент, зависящий от геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структуры i-того выпрямительного элемента;
2i- - требуемое значение после повторного облучения i-того выпрямительного элемента.

При использовании данного способа осуществляется контроль не только исходного состояния Uoi, oi выпрямительных элементов перед облучением, но и определяется скорость роста U и у каждого i-того выпрямительного элемента при облучении в заданном режиме.

В соответствии с [3] U при высоком уровне инжекции в широкой базовой области тиристора определяется тремя составляющими:
Ut = Uj + U1 + U2,
где
Ui - суммарное падение напряжения на p-n-переходах тиристора;
U1 - составляющая падения напряжения на базовой области, обусловленная электрическим полем;
U2 - составляющая падения напряжения, обусловленная взаимным рассеянием подвижных носителей заряда.

Значения Uj и U2 слабо изменяются при изменении , а U1 можно представить в виде соотношения
U1=aoew/2L , (11)
где
aо - коэффициент, зависящий от геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структуры;
W - ширина эффективной базовой области p-n-p-n-структуры;
L - диффузионная длина н.н.з. в эффективной базовой области;
aо слабо зависит от , поэтому изменение U у i-того в.э. в процессе облучения с высокой степенью точности можно описать соотношением

Изменение в процессе облучения для i-того в.э. описывается соотношением

где
зависит от геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структуры тиристоров и режимов облучения.

Из соотношений (12), (13) можно определить коэффициенты ai и , которые характеризуют изменение U в процессе облучения для каждого i-того в.э. Изменение U и в процессе повторного облучения с учетом соотношений (1), (12) и (13) будут описываться соотношениями:



С целью опробывания вышеописанного способа была изготовлена партия выпрямительных элементов тиристоров типа ТБ371-250 в количестве 70 штук. Полупроводниковая p-n-p-n-структура изготавливалась из кремния марки КОФ 44-50, имела толщину 380 мкм и глубину p-n-переходов по 80 мкм. Выпрямительные элементы изготавливались на АО "Электровыпрямитель" по серийному технологическому процессу. До проведения облучения на каждом выпрямительном элементе проводилось измерение Uoi при токе I3=250(A) и oi. Для расчета режима облучения U3 принималось равным 1,7В, а U3-0,05В. Облучение проводилось на установке радиационно-физической БОИС-8. Максимальная плотность потока электронов составляла при облучении 8,88 1010 эл/(см2 с). Распределение относительной интенсивности потока электронов по облучаемой площади приведено в табл.1.

Электроны при облучении имели сплошной спектр энергии от 0,4 до 2,0 МэВ с максимумом в районе 1,5 МэВ. До проведения облучения исследуемой партии на тиристорах этого же типа проводилось облучение на установке БОИС-8 и рассчитывалось значение величин : ai и Ki, исходя из которых устанавливались соответствующие значения a и K для выпрямительных элементов и проводилось облучение. Исходные значения Uoi, oi , фактическое время облучения, место расположения образца на лодочке при облучении в БОИС-8 (строка и столбец), реальное и приведенное время облучения (с учетом распределения интенсивности потока по площади лодочки) приведены в табл. 2. Там же приведены результаты измерений U и после облучения (U1i и 1i соответственно) и рассчитанные значения ai и Из данных табл. 2 следует, что только 5 выпрямительных элементов (7% от общего числа) тиристоров имеют после облучения значения U, удовлетворяющие условию (1). С целью доведения значений U у выпрямительных элементов до требуемых значений из соотношений (1), (4) - (9) были рассчитаны необходимые значения времени повторного облучения.

Расчетные значения времени повторного облучения, место расположения выпрямительного образца при этом, реальное и приведенное время облучения приведены в табл. 2. Там же приведены в результате измерения Uki после повторного облучения.

Из полученных результатов следует, что после повторного облучения только один выпрямительный элемент (1,5% общего числа) не удовлетворяет условию (1), что свидетельствует о высокой эффективности предлагаемого способа.

Источники информации:
1. Патент США N 3640783, кл. 148 - 186, заявка N 848928 от 11.08.69, заявитель США TRW Inc. опубл. 08.02.72.

2. Асина С.С., Сурма А.М., Кузнецов В.М., Аксенов В.Е. Роль отжига после электронного облучения при регулировании характеристик мощных тиристоров. - Электротехническая промышленность. Сер. "Преобразовательная техника", 1984, вып. 12(170), стр. 11 - 13.

3. Расчет силовых полупроводниковых приборов./Под ред. В.А. Кузьмина - М.: Энергия, 1980, [4 - 5].


Формула изобретения

Способ регулирования величины напряжения U в открытом состоянии тиристоров и диодов, заключающийся в облучении партии их выпрямительных элементов, на каждом i-м из которых предварительно определяют U (Uoi) при заданном значении амплитуды I3 анодного тока в открытом состоянии и время (oi) жизни неравновесных носителей заряда в эффективной базовой области потоком быстрых электронов, - квантов или протонов, величину дозы которого для i-го выпрямительного элемента 1i определяют из соотношений

где U3 - величина требуемого U у выпрямительного элемента облучаемой партии, измеренная при I3;
Uki - фактическое значение U i-го выпрямительного элемента после облучения, измеренное при I3;
U3 - допустимая величина отклонения Uki от U3;
- максимальное значение коэффициента для тиристоров или диодов при облучении, которое предварительно определяется на других выпрямительных элементах этого же типа;
K - постоянная Больцмана;
T - температура выпрямительного элемента при измерении U;
q - заряд электрона;
W - ширина эффективной базовой области;
Loi, oi - диффузионная длина и время жизни неравновесных носителей заряда в эффективной базовой области i-го выпрямительного элемента до облучения;
K - максимальное значение коэффициента деградации времени жизни неравновесных носителей заряда для выпрямительных элементов облучаемого типа в используемом режиме облучения, предварительно определенное на других выпрямительных элементах;
D* - амбиполярный коэффициент диффузии,
отличающийся тем, что на тиристорах и диодах, неудовлетворяющих условию I, у каждого i-го выпрямительного элемента после облучения контролируют U (U1i) при I3 и (1i) и проводят повторное облучение, при котором величина 2i дозы облучения i-го выпрямительного элемента удовлетворяет соотношениям
U3-U3 Uki U3+U3;






где L1i - диффузионная длина неравновесных носителей заряда i-го выпрямительного элемента после первого облучения;
L2i - диффузионная длина неравновесных носителей заряда i-го выпрямительного элемента после второго облучения;
Ki - коэффициент деградации времени жизни в процессе электронного облучения у i-го выпрямительного облучения;
ai - коэффициент, зависящий от геометрических и электрофизических параметров p-n - p-n-структуры i-го выпрямительного элемента;
2i - требуемое значение после повторного облучения у i-го выпрямительного элемента.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к полупроводниковому материаловедению и может быть использовано для определения электрофизических свойств полупроводниковых материалов, при изготовлении полупроводниковых приборов, а также полупроводниковых пластин и структур

Изобретение относится к микроэлектронике, а точнее к полупроводниковому материаловедению, и может быть использовано для определения таких характеристик полупроводников, как поверхностный потенциал, ширина запрещенной зоны, концентрация примесей в поверхностных слоях и т.д
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин

Изобретение относится к электронной технике, в частности к технологии изготовления полупроводниковых интегральных микросхем

Изобретение относится к измерению и контролю электрофизических параметров полупроводников и может быть использовано для оценки качества технологического процесса при производстве твердотельных микросхем и приборов на основе МДП-структур

Изобретение относится к способам электрического контроля и испытаний на постоянном и переменном токе с последующей отбраковкой подложек из диэлектрика или полупроводника, содержащих изделия электронной техники и электротехники (электрорадиоизделия), содержащих плоские и объемные проводящие области, содержащих активные и пассивные функциональные элементы в виде полупроводниковых приборов, многослойных трехмерных структур, пленок с различным типом электрической проводимости, жидкокристаллических панелей и др

Изобретение относится к области производства и эксплуатации интегральных схем (ИС)
Наверх