Неотражающий нейтральный оптический фильтр

 

Неотражающий нейтральный оптический фильтр может быть использован для равномерного ослабления падающего излучения. Фильтр включает прозрачную в спектральном диапазоне 0,4-0,7 мкм подложку, расположенный на подложке частично пропускающий свет слой титана и антиотражающий свет слой поверх него. Антиотражающий свет слой выполнен из оксида титана TiOx при 1<х<2, где х - степень окисления оксида титана, с показателем поглощения слоя оксида титана, равным 0,17-0,2. Геометрические толщины слоев титана и оксида титана составляют соответственно 0,028-0,03 и 0,04-0,045 мкм. Технический результат - уменьшение величины интегрального коэффициента отражения и сокращение числа слоев фильтра. 3 ил.

Изобретение относится к области оптического приборостроения, а именно к элементам оптико-электронных систем, которые могут быть использованы для равномерного ослабления падающего излучения при низком отражении в широкой области спектра.

Известен неотражающий нейтральный оптический фильтр с величиной коэффициента пропускания около 10%, состоящий из девяти слоев: оксида титана (IV) - никеля - оксида титана (IV) - оксида кремния (IV) - оксида титана (IV) - никеля - оксида кремния (IV) -никеля - оксида кремния (IV). Диэлектрические слои имеют показатели преломления nн=1,45 (оксид кремния (IV)) и nв= 2,3 (оксид титана (IV)) (Гришина Н.В. Синтез широкополосных металлодиэлектрических покрытий. Опт. и спектр, т. 72, вып.4, 1992, с. 1033-1038). Эта конструкция имеет интегральное отражение в видимой области спектра 1,32%.

Основными недостатками такого нейтрального оптического фильтра являются, во-первых, фильтр имеет большое количество слоев, во-вторых, при вычислении используются оптические постоянные массивного никеля и не учитываются изменения оптических постоянных металлического слоя при уменьшении его толщины, в-третьих, указанная конструкция чувствительна к неточностям нанесения слоев по толщине, что приводит к ухудшению рассчитанных спектральных характеристик при технической реализации этой конструкции.

Наиболее близким к предлагаемому техническому решению по технической сущности является неотражающий нейтральный оптический фильтр, состоящий из стеклянного экрана, с одной стороны которого нанесен слой из титана толщиной и диэлектрический слой поверх него из оксида алюминия (III) с показателем преломления n=1,62 и оптической толщиной, равной четверти длины волны 0= 0,45 мкм, на другую сторону которого нанесен слой титана толщиной h= (П.П. Яковлев. Антибликовые покрытия для защитных экранов дисплеев // Оптический журнал, т. 65, 3, 1998, с. 83-84).

Основными недостатками предложенного неотражающего нейтрального оптического фильтра являются: - высокое интегральное отражение (среднее отражение в видимой области спектра 0,4-0,7 мкм равно 1,76%, а на длине волны 0,4 мкм величина отражения достигает 5%); - необходимость нанесения трех слоев; - нанесение оптических слоев на две поверхности, что удлиняет технологический процесс изготовления неотражающего нейтрального оптического фильтра.

Технической задачей изобретения является уменьшение интегрального коэффициента отражения и сокращение числа слоев неотражающего нейтрального оптического фильтра.

Поставленная задача решается разработкой неотражающего нейтрального оптического фильтра, включающего подложку, прозрачную в спектральном диапазоне 0,4-0,7 мкм, расположенный на подложке частично пропускающий свет слой титана и антиотражающий свет слой поверх него. Причем антиотражающий слой выполнен из оксида титана TiOX, при 1<х<2, где х - степень окисления оксида титана, а геометрические толщины слоев титана и оксида титана составляют 0,028-0,03 и 0,04-0,045 мкм соответственно, показатель поглощения слоя оксида титана при этом равен 0,17-0,2.

Фиг. 1 схематически представляет в разрезе неотражающий нейтральный оптический фильтр.

Фиг. 2 показывает спектральные коэффициенты отражения прототипа и предлагаемого неотражающего нейтрального оптического фильтра (кривые 4 и 5 соответственно).

Фиг.3 представляет устройство, с помощью которого может быть получен неотражающий нейтральный оптический фильтр.

Неотражающий нейтральный оптический фильтр (фиг.1) состоит из прозрачной в спектральном диапазоне 0,4-0,7 мкм подложки 1, частично пропускающего свет слоя титана 2, расположенного на подложке 1, и антиотражающего свет слоя 3 поверх него из оксида титана TiOх, при 1<х<2, где х - степень окисления оксида титана, с показателем поглощения оксида титана, равным 0,17-0,2, причем геометрические толщины слоев титана 2 и оксида титана 3 составляют соответственно 0,028-0,03 и 0,04-0,045 мкм.

Этот неотражающий нейтральный оптический фильтр имеет комплексный амплитудный коэффициент отражения r, определяющий связь между амплитудой, падающей со стороны антиотражающего свет слоя 3, и амплитудой, отраженной от неотражающего нейтрального оптического фильтра плоской электромагнитной волны где n0, nS - показатели преломления ограничивающих сред (исходной среды и подложки соответственно).

Величины М11, М12, M21, М22 являются элементами матрицы интерференции: где - комплексный показатель преломления частично пропускающего свет слоя титана 2, - комплексный показатель преломления антиотражающего свет слоя 3 (n3 - показатель преломления, k3 - показатель поглощения) из TiOх, при <х<2, h2 и h3 - геометрические толщины частично пропускающего свет слоя 2 титана и антиотражающего свет слоя 3 из оксида титана TiOх, при 1<х<2, где х - степень окисления оксида титана, соответственно - длина волны, i - мнимая единица.

Спектральный коэффициент отражения R() и скачок фазы между амплитудой, падающей со стороны антиотражающего свет слоя 3, и амплитудой, отраженной от неотражающего нейтрального оптического фильтра плоской электромагнитной волны определяются из выражения (1). Так, если ограничивающие среды прозрачны и углы падения и преломления вещественны, то имеют место соотношения: R=rr*; (3) =Im r/Re r, (4)
где * означает комплексное сопряжение;
Re и Im означают действительную и мнимую части комплексной величины.

Рассмотрим неотражающий нейтральный оптический фильтр с коэффициентом пропускания 10% и низким отражением в видимой области спектр 0,45-0,7 мкм. Для оценки близости спектральных характеристик получаемого покрытия к требуемым характеристикам вводится оценочный функционал

где [1, 2] - диапазон длин волн, в котором производится синтез;
Ru() - измеренный спектральный коэффициент отражения. синтезируемого неотражающего нейтрального оптического фильтра. В данном случае 1=0,4 мкм, 2=0,7 мкм, R()=0.

Задача синтеза рассматривается в вариационной постановке и сводится к минимизации функционала по толщине слоя и по значению комплексного показателя преломления антиотражающего свет верхнего слоя 3. В качестве начального приближения ищется решение в одной центральной спектральной точке = 0,55 мкм и находится требуемая толщина антиотражающего свет слоя 3 h3, которая при полученном комплексном показателе преломления антиотражающего слоя 3 удовлетворяет заданному нулевому коэффициенту отражения в этой точке.

Синтезированный неотражающий нейтральный оптический фильтр обеспечивает интегральное отражение в видимой области спектра <1%. Неотражающий нейтральный оптический фильтр имеет такие толщины частично пропускающего свет слой 2 титана и антиотражающего свет слоя 3 из оксида титана TiOх, при 1<х<2, h2 и h3, которые приводят к тому, что амплитудные коэффициенты отражения от границ раздела воздух - антиотражающий свет слой 3 из оксида титана и антиотражающий свет слой 3 из оксида титана - частично пропускающий свет металлический слой 2 из титана находятся в противофазе. Одновременно с этим комплексный показатель преломления антиотрающего свет слоя 3 из оксида титана TiOх, при 1<х<2, обеспечивает равенство этих амплитуд. Таким образом выполняются условия нулевого отражения.

На фиг. 1 схематически представлен неотражающий нейтральный оптический фильтр, состоящий из прозрачной в спектральном диапазоне 0,4-0,7 мкм подложки 1 и расположенных на ней последовательно частично пропускающего свет слоя 2 из титана толщиной h2=0,029 мкм, антиотражающего слоя 3 из оксида титана TiOх, при 1<х<2, с показателем поглощения k3=0,17-0,2 и толщиной h3= 0,04-0,045 мкм.

На фиг. 2 показаны спектральные коэффициенты отражения прототипа и предлагаемого неотражающего нейтрального оптического фильтра (кривые 4 и 5 соответственно).

На фиг.3 изображено устройство струйного высокочастотного индукционного (ВЧИ) плазмотрона в динамическом вакууме, с помощью которого осуществлялось нанесение неотражающего нейтрального оптического фильтра. Устройство содержит индуктор 6, специальный кронштейн 7; разрядную камеру 8; рубашку охлаждения 9. Индуктор 6 представляет собой трехвитковую катушку диаметром 0,07 м и длиной 0,07 м, изготовленную из медной трубки, охлаждаемую протекающей по ней водой. Индуктор 6 крепится на специальном кронштейне 7, который позволяет перемещать индуктор 6 вдоль разрядной камеры 8. Разрядная камера 8 и рубашка охлаждения 9 представляют цельносварную конструкцию, состоящую из двух коаксиальных кварцевых трубок с протекающей между ними охлаждающей водой. Плазмотрон крепится в отверстии базовой плиты 10 при помощи фланца 11 и герметизируется уплотнительным кольцом 12 из вакуумной резины. При напылении используется аксиальная подача плазмообразующего газа и напыляемого пленкообразующего материала 13.

Использование неотражающего нейтрального оптического фильтра, включающего подложку 1, расположенного на подложке частично пропускающего свет слоя 2 титана и поверх него антиотражающего свет слоя 3 оксида титана TiOх, при 1<х<2, где х - степень окисления оксида титана, с показателем поглощения слоя 3 оксида титана, равным 0,17-0,2, и геометрическими толщинами слоев титана 2 и оксида титана 3, равными 0,028-0,03 и 0,04-0,045 мкм соответственно, приводит к уменьшению интегрального отражения и к сокращению числа слоев нейтрального оптического фильтра.

Неотражающий нейтральный оптический фильтр получают следующим способом. Подложки 1, представляющие собой круглые плоскопараллельные полированные диски из оптического стекла К-8, очищают этиловым спиртом. Затем подложки 1 помещают в вакуумную плазменную установку над верхним срезом плазмотрона. Предварительно поверхность, на которую впоследствии наносят требуемые слои, обрабатывают плазменным потоком при следующих режимах плазменной установки: частота генератора 1,76 МГц, ток анода лампы IA=1,0-1,3 А, ток сетки Ic1= 100-150 мА, напряжение на сетке Uc2=200-220 В, расход плазмообразующего газа Ar G=0,07-0,08 г/с, давление р=50-80 Па, расстояние до верхнего витка индуктора 6 равно 120-150 мм в течение 10 мин. В процессе обработки температура подложки 1 поднимается до 250-300oС и поверхность подложки 1 очищается и модифицируется Затем индуктор 6 медленно опускают и в центральной зоне плазмы начинают распыление последовательно титана и оксида титана. Процесс напыления проходит при следующих режимах: ток анода лампы IA=1,0-1,3 А, ток сетки Ic1= 140-190 мА, напряжение на сетке Uc2=140-200 В, расход плазмообразующего газа Ar G=0,07-0,08 г/с, давление р=50-80 Па, расстояние до верхнего витка индуктора 6 равно 150-200 мм в течение 10 мин. Это соответствует изменению внутренних характеристик разряда и плазменной струи - ne=1015-1019 м-3, Рр= 0,1 до 4 кВт, ji=15-25 Ам-2, Wi=10-30 эВ, qт=5102-5103 Втм-2, где ne - концентрация электронов, Рр - мощность разряда, ji - плотность ионного тока поступающего на поверхность, Wi - энергия ионов, qт - плотность теплового потока.

На подложку сначала осаждают на расстоянии от индуктора 6, равном 170 - 190 мм, частично пропускающий свет слой 2 из титана геометрической толщиной 0,028 - 0,03 мкм. Антиотражающий свет слой 3 из оксида титана TiOX, при 1<х<2, осаждают на расстоянии от индуктора 6 равном 170-190 мм со скоростью геометрическая толщина слоя составляет 0,04-0,045 мкм, показатель поглощения - 0,17-0,2. Толщины слоев контролируют по времени нанесения. Технологический процесс напыления неотражающего нейтрального оптического фильтра составляет 0,5 ч. Интегральный коэффициент отражения полученного неотражающего нейтрального оптического фильтра имеет величину менее 1%, при коэффициенте пропускания около 10%.


Формула изобретения

Неотражающий нейтральный оптический фильтр, включающий прозрачную в спектральном диапазоне 0,4-0,7 мкм подложку, расположенный на подложке частично пропускающий свет слой титана и антиотражающий свет слой поверх него, отличающийся тем, что антиотражающий свет слой выполнен из оксида титана TiOx при 1<х<2, где х - степень окисления оксида титана, с показателем поглощения слоя оксида титана, равным 0,17-0,2, причем геометрические толщины слоев титана и оксида титана составляют соответственно 0,028-0,03 и 0,04-0,045 мкм.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области оптического приборостроения, к технологии изготовления оптических элементов, а именно к способам изготовления элементов оптико-электронных систем, которые могут быть использованы для равномерного ослабления падающего излучения при низком отражении в широкой области спектра

Изобретение относится к оптике, а именно к технологии изготовления оптических металлических Зеркал, и может быть использовано при создании отражающих элементов различных оптических приборов

Изобретение относится к технической физике, в частности к способам изготовления оптических УФ-светофильтров

Изобретение относится к фотографической сенситометрии и используется для поверки микроденситометров

Изобретение относится к области медицины, использующей для лечения онкологических заболеваний фотодинамическую терапию (ФДТ), и, в частности, служит для защиты зрения лечащего персонала от воздействия отраженного и рассеянного излучения терапевтических лазеров [на парах золота с длиной волны 633 нм или диодных с длиной волны 670 нм и мощностью 0,5-2,5 Вт]

Изобретение относится к оптическим покрытиям, характеризующимся высоким уровнем поглощения электромагнитного излучения УФ, видимого или ближнего ИК-диапазона и низким коэффициентом отражения в области поглощения, а также высокой спектральной селективностью, и может быть использовано в лазерно-оптических системах для мониторинга и диагностики, в приборостроении и в электронной технике, при изготовлении приемников излучения, преобразователей солнечной энергии, устройств оптической обработки информации и т.д

Изобретение относится к области оптического приборостроения, а именно к элементам оптико-электронных систем, которые могут быть использованы для равномерного ослабления падающего излучения при высокой разнице спектрального отражения со стороны подложки и со стороны покрытия

Изобретение относится к пленке, устойчивой к неблагоприятным погодным условиям, для окрашивания в желтый цвет световозвращающих формованных изделий, например дорожных знаков

Изобретение относится к многослойным формованным изделиям, которые могут быть использованы в качестве плиты, пленки для теплиц или в качестве элемента окон. Формованное изделие (1) состоит из наружного слоя (2) и находящегося ниже наружного слоя (2) внутреннего слоя (3), выполненного из термопластичного полимера. Наружный слой (2) выполнен из термопластичного полимера и, по меньшей мере, одного наношкального поглотителя ИК-излучения (8), выбранного из легированного сурьмой или индием оксида олова в виде наночастиц или борида редкоземельного металла в виде наночастиц. В формованном изделии (1) в качестве дополнительных добавок могут быть использованы УФ-абсорберы, органические поглотители ИК-излучения не в виде частиц, стабилизаторы, антиоксиданты, красители, неорганические соли, перламутровые пигменты, вещества, отражающие излучение в ближней ИК-области спектра, средства против запотевания или наполнители. Кроме того, описан способ изготовления указанного многослойного формованного изделия (1) путем соэкструзии наружного слоя (2) и внутреннего слоя (3). Применение многослойных формованных изделий по изобретению позволяет эффективно защищать поверхности, например поверхности зданий, автомобилей или теплиц, от воздействия теплового излучения, а также эффективно контролировать тепло во внутренних пространствах. 3 н. и 9 з.п. ф-лы, 1 ил.
Изобретение относится к фильтру спектральной очистки для ЭУФ-нанолитографа с экстремальным ультрафиолетовым излучением с пропусканием 30-70% на длине волны 13,4 нм. Фильтр представляет собой многослойную пленку, нанесенную на высоко прозрачную поддерживающую сетку с ячейками, изготовленную из никеля или золота. Пленка содержит от 30 до 50 пар слоев Si и Mo или Zr, или Nb, относительно прозрачных на длине волны 13,4 нм, расположенных симметрично относительно горизонтальной плоскости, разделяющей фильтр на две равные половины по сечению. Ячейки выполнены гексагональными. Также предложен способ изготовления фильтра. Изобретение позволяет повысить прочность поддерживающей сетки, на которой расположен фильтр, и обеспечить ее прозрачность. 2 н. п. ф-лы.

Антибликовый фильтр для оптических устройств содержит стеклянную подложку с нанесенным на нее стеклообразным полимером, в которой на гладкую стеклянную подложку стеклообразный полимер нанесен в виде мелкой сетки из полукруглой калиброванной нити, плотно соединенной с поверхностью подложки, в которой ширина а и высота h ячейки сетки больше длины волны света а≥λ. Технический результат - защита приборов и персонала от бликования света и мощного когерентного излучения, а также повышение устойчивости поверхности антибликового фильтра к внешним механическим воздействиям. 2 ил.
Наверх