Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм

 

ОПИСАН И Е

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

237589

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт, свидетельства № заявлено 27 т !!.1967 (№ 1177458/28-12) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 04.Х1.1969. Бюллетень № 34

Дата опубликования описания 8.1V.1970

Кл. 57b, 10

57d, 2 03

МПК б 03с

G 03f

УДК 655.226:776(088.8) Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

Авторы изобретения!

В. И. Глембоцкий, В. M Тремут, В. Д. Глушко, О. И, Сопова, Г. С. Шаповал и Л. П. Новак (ц, р

Киевский филиал по специальным видам печати Всесоюзного научно исследовательного института полиграфической промышле тностй: -5--"- -:Заявитель

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ

ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЪ!Х ФОРМ

Предмет изобретения

Известна фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм, состоящая из полимеризующихся под действием света соединений, инициаторов фотополимеризации и стабилизаторов.

Предложенная композиция позволяет получить на печатном цилиндре основу для изготовления фотополимерных форм флексографской печати.

Это достигается тем, что в качестве полимеризующихся под действием света соединений применяют 25% -ный раствор полиамидного лака, например «АК 60/40», в этиловом спирте в смеси с акриловым мономером; в качестве инициатора фотополимеризации применяют динитрил азодиизомасляной кислоты; в качестве стабилизатора применяют хинон. Содержание 25%-ного раствора полиамидного лака в этиловом спирте составляет 1000 вес. ч.; содержание динитрила азодиизомасляной кислоты — 2 — 3 вес. ч., содержание хинона — 1—

1,5 вес. ч.

П р и и е р. Приготовляют фотополимеризующуюся композицию, содержащую, г:

25%-ный раствор полиамидного .чака «АК 60/40» в этиловом спирте 1000

Акриловые мономеры 120

Динитрил азодиизомасляной кислоты 2

Хинон 1

После нанесения приготовленной композиции на печатный цилиндр с эластичным покрытием методом пульверпзации и высушнванпя полученного слоя при температуре 30—

35 С на него можно копировать в лучах ультрафиолетового света штриховые пли растровые фотоформы для последующего изготовления фотополимерных форм флексографской печати.

1. Фотополимерпзующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм, состоящая нз полпмерпзующпхся под действием света соединений, инициаторов фотополпмеризацип и стабилизаторов, от,гичаютиаяся тем, что, с целью получения на печатном цилиндре основы для изготовления фотополимерных форм флексографской печати в качестве полимеризующихся под действием света соединений применяют 25 с -ньш раствор полиамидного лака, например «АК 60/40», в этиловом спирте в смеси с акрпловым мономером; в качестве иницпагора фотополцмеризации применяют дпнптрпл азодппзомасляной кислоты; в качестве стабилизатора применяют хин он.

2. Фотополпмеризующаяся ком позиция по и. 1, отличающаяся тем, что содержание

237589

Составитель М. Велорусец

Техред А. А. Камышникова Корректор О. И. Усова

Редактор Э. Шибаева

Заказ 657/2 Тираж 480 Подписное

ЦНИИП1 . Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров ССС1о

Москва 7К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

25%-ного раствора полиамидного лака в этиловом спирте составляет 1000 вес. ч.; содержание акриловык мономеров — 120 вес. ч.; содержание динитрила азодиизомасляной кислоты — 2 — 3 вес. ч.; содержание хинона — 1 — 1,5 вес. ч.