Халькогенидное стекло

Авторы патента:

C03C3/32 - составы для изготовления стекла, не содержащие оксидов, например двойные или тройные галогенные соединения, сульфиды или нитриды германия, селена или теллура

Владельцы патента RU 2316496:

Щепочкина Юлия Алексеевна (RU)

Изобретение относится к составам халькогенидных стекол, используемых для защиты и изоляции полупроводниковых приборов и интегральных схем. Технический результат - повышение термической устойчивости стекла. Халькогенидное стекло содержит, мас.%: GeS₂ 50,0-54,0; NaCl 15,0-20,0; Ga₂S₃ 15,0-25,0; SnS₂ 7,0-10,0. 1 табл.

Изобретение относится к составам халькогенидных стекол, используемых для защиты и изоляции полупроводниковых приборов и интегральных схем.

Известны различные составы халькогенидных стекол /1/.

Известно халькогенидное стекло, содержащее, мас.%: GeS₂ 55,0-75,0; NaCl 10,0-20,0; Ga₂S₃ 15,0-25,0 /2/.

Цель изобретения состоит в повышении термической устойчивости стекла.

Цель достигается тем, что в состав халькогенидного стекла, содержащего GeS₂, NaCl, Ga₂S₃, дополнительно вводят SnS₂ при следующем соотношении компонентов, мас.%: GeS₂ 50,0-54,0; NaCl 15,0-20,0; Ga₂S₃ 15,0-25,0; SnS₂ 7,0-10,0.

В таблице приведены составы стекла.

Таблица
Состав	Компоненты, мас.%:
GeS₂	NaCl	Ga₂S₃	SnS₂
1	50,0	20,0	23,0	7,0
2	54,0	18,0	20,0	8,0
3	53,0	19,0	18,0	10,0

Для всех приведенных в таблице составов халькогенидного стекла твердое состояние сохраняется до температуры 430-450°С.

Компоненты стекла, взвешенные в указанных количествах, помещают в емкость, из которой удаляют воздух, и запаивают. Варку стекла проводят в электропечи при 1200°С.

Источники информации

1. Аппен А.А. Химия стекла. - Л.: Химия 1974, - с.57.

2. Авторское свидетельство СССР №1135726, С03С 3/12, 1985.

Халькогенидное стекло, содержащее GeS₂, NaCl, Ga₂S₃, отличающееся тем, что дополнительно содержит SnS₂ при следующем соотношении компонентов, мас.%: GeS₂ 50,0-54,0; NaCl 15,0-20,0; Ga₂S₃ 15,0-25,0; SnS₂ 7,0-10,0.

Изобретение относится к оптическим фторидным стеклам, прозрачным в ИК-области спектра, используемым в качестве перспективных материалов для ИК-оптики: ИК-пропускающие сердцевины оптических волокон, элементы оптических устройств, рабочих тел лазеров в различных оптических усилителях, планарных волноводах и в светотрансформирующих устройствах.

Теллургалогенидное стекло // 2249567

Изобретение относится к теллургалогенидным стеклам, прозрачным в инфракрасной области спектра. .

Способ получения пар высокочистых стекол системы as-s для сердцевины и оболочки одномодовых и малоапертурных многомодовых световодов // 2237030

Изобретение относится к волоконной оптике и касается разработки способа получения сульфидно-мышьяковых стекол для сердцевины и оболочки одномодовых и малоапертурных многомодовых световодов, используемых в оптике и приборах для ближнего и среднего ИК-диапазона.

Халькогенидное стекло // 2237029

Изобретение относится к составам халькогенидных стекол, используемых преимущественно в оптоэлектронике. .

Способ получения стекол gex s1-x (x=0,1-0,5) // 2186744

Изобретение относится к области химии и может быть использовано для синтеза стекол GexS1-x(X= 0,1-0,5) особой чистоты. .

Способ получения стекол asxs1-x(x=0,10-0,45), asxse1- x(x=0-0,60) // 2152364

Изобретение относится к способам синтеза стекол AsxS1-x(х = 0,10-0,45), AsxSe1-x (х = 0-0,60) и может быть использовано в различных областях электронной техники, волоконной оптики, электронографии.

Галогенсодержащее халькогенидное стекло // 2140398

Изобретение относится к галогеносодержащим халькогенидным стеклам, прозрачным в инфракрасной области спектра. .

Халькогенидное стекло // 2028982

Изобретение относится к акустооптике, преимущественно к материалам, которые используются для изготовления светозвукопроводов акустооптических устройств (АОУ). .

Способ получения халькогенидного стекла ges2 // 2021218

Изобретение относится к химии, а именно к способам синтеза стеклообразного GeS2 . .

Хальгогенидное стекло // 2013396

Изобретение относится к составам халькогенидных стекол, используемых, преимущественно в электронике. .

Халькогенидное стекло // 2316497

Изобретение относится к составам халькогенидных стекол, используемых в микроэлектронике

Халькогенидное стекло // 2334704

Изобретение относится к составам халькогенидных стекол, используемых в приборостроении

Халькогенидное стекло // 2334705

Изобретение относится к составам халькогенидных стекол, используемых в приборостроении

Способ получения халькогенидных стекол системы as-s с низким содержанием кислорода // 2419589

Изобретение относится к волоконной оптике и касается разработки способа получения халькогенидных стекол системы As-S с низким содержанием примеси кислорода в виде гидроксильных групп, молекулярной воды, диоксида углерода и может быть использовано для получения волоконных световодов, применяемых в оптике и приборах для ближнего и среднего ИК-диапазона

Особо чистый сульфидно-мышьяковый материал для синтеза высокопрозрачных халькогенидных стекол и способ его получения // 2450983

Способ получения особо чистых тугоплавких халькойодидных стекол // 2467962

Изобретение относится к материалам для волоконной оптики и касается разработки способа получения особо чистых тугоплавких халькойодидных стекол, которые могут быть использованы для изготовления волоконных световодов, применяемых в оптике и оптоэлектронных приборах для ближнего и среднего ИК-диапазона

Фторидное оптическое стекло, обладающее способностью к люминесценции в диапазоне 1000-1700 нм, способ получения такого стекла и волоконный световод // 2487840

Изобретение относится к фторидным оптическим стеклам, обладающим способностью к люминесценции в диапазоне 1000-1700 нм при возбуждении излучением с длинами волн в пределах 400-1100 нм

Способ получения фторидных стекол с широким ик диапазоном пропускания // 2526955

Изобретение относится к технологии получения фторидных хлор- и бромсодержащих стекол с широким ИК-диапазоном пропускания и повышенной прозрачностью. Способ получения фторидных стекол включает плавление шихты из исходных компонентов в инертной атмосфере в платиновом или углеродном тигле с последующим выливанием расплава в металлическую литьевую форму и охлаждение расплава в форме. В шихту из смеси галогенидов, выбранных из ряда: HfF4; BaF2; BaCl2; LaF3; AlF3; InF3; NaF; NaBr дополнительно вводят 2÷3 мол.% предварительно высушенного при температуре до 100°C гидрофторида бария. Шихту загружают в тигель, который помещают в ампулу из кварцевого стекла, нагревают в токе инертного газа до температуры разложения гидрофторида и выдерживают в течение 20÷40 мин. Затем тигель накрывают графитовой пробкой, а зазор между пробкой и стенкой тигля заполняют порошком стекла того же состава, после чего в верхней части ампулы размещают металлическую литьевую форму. Ампулу герметизируют, промывают инертным газом и помещают в двухзонную печь сопротивления. Тигель нагревают до температуры на 250÷350°C выше температуры плавления шихты и выдерживают в течение 30÷50 минут, после чего температуру снижают на 120÷160°C, а форму, находящуюся в верхней части ампулы, нагревают во второй зоне печи сопротивления до температуры на 35÷45°C ниже температуры стеклования. Затем расплав охлаждают, а полученное стекло извлекают из формы. Предложенный способ позволяет получить фторидные хлор- или бромсодержащие стекла с малой концентрацией кислородсодержащих примесей и исключить испарения тяжелых галогенов. и 3 з.п. ф-лы, 1 табл., 1 ил., 3 пр.

Способ получения высокочистых халькойодидных стекол // 2579096

Изобретение относится к химии, а именно к производству высокочистых стекол, которые могут быть использованы для изготовления оптических элементов, световодов и широкозонных полупроводников, применяемых в оптике и оптоэлектронных приборах ближнего и среднего ИК-диапазона. Задачей, на решение которой направленно заявляемое изобретение, является разработка способа получения высокочистых халькойодидных стекол, позволяющего уменьшить количество примесей, поступающих из материалов аппаратуры. Сущность предлагаемого способа получения высокочистых халькойодидных стекол заключается в том, что компоненты шихты постоянно поступают в проточный плазмохимический реактор, инициирование реакции взаимодействия халькогена и летучих йодидов производят плазменным разрядом, синтез стеклообразующих соединений проводят в условиях неравновесной плазмы высокочастотного емкостного разряда при пониженном давлении. Техническим результатом изобретения является снижение загрязняющих примесей в составе стекол. 2 табл., 2 пр.

Плазмохимический способ получения халькогенидных стекол системы as-s и устройство для его реализации // 2585479

Изобретение относится к производству высокочистых халькогенидных стекол для изготовления оптических элементов, световодов и широкозонных полупроводниковых устройств. Изобретение позволяет исключить загрязнение получаемого халькогенидного стекла за счет неполного разложения исходных веществ, а также уменьшить количество примесей, поступающих из материалов аппаратуры. Способ получения халькогенидных стекол включает загрузку исходных веществ, содержащих мышьяк и серу, в проточный плазмохимический реактор, инициирование реакции взаимодействия мышьяка и серы высокочастотным плазменным разрядом в условиях неравновесной плазмы при пониженном давлении с образованием шихты халькогенидного стекла и получение самого халькогенидного стекла. В качестве исходных веществ используют элементарные мышьяк As и серу S, а в качестве транспортного и плазмообразующего газа используют инертный газ. Получение самого халькогенидного стекла проводят путем отпайки реактора и установки его в качающуюся печь, плавления и гомогенизации стеклообразующих соединений и охлаждения их. Устройство содержит плазмохимический реактор и систему откачки. Реактор изготовлен в виде проточной кварцевой трубки, снабженной плазмообразующей системой и системой диагностики, а система напуска выбранной газовой смеси включает особо чистые кварцевые резервуары с загрузочными кварцевыми емкостями для твердотельных мышьяка и серы. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 1 ил., 2 табл.