Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение



Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
G03F74 - Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей (фотонаборные устройства B41B; светочувствительные материалы или процессы для фотографических целей G03C; электрография, чувствительные слои или процессы G03G)

Владельцы патента RU 2332419:

ЦИБА СПЕШИАЛТИ КЕМИКЭЛЗ ХОЛДИНГ ИНК. (CH)

Изобретение относится к новым соединениям формулы I, которые могут использоваться в фотополимеризующейся композиции, отверждаемой в присутствии каталитических количеств оснований, возможно при излучении, и в качестве фотоинициаторов для получения покрытий. В формуле (I)

R1 обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными С118алкилом, С218алкенилом, С118галоалкилом, NO2, NR10R11, CN, OR12, SR12, атомом галогена или радикалом формулы II

или радикал R1 обозначает радикал формулы III

R2 и R3 независимо друг от друга обозначают водородный атом; R10, R11 R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или С118алкил; R4 и R6, совместно образуют С212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C14алкильными радикалами, или R5 и R7 совместно образуют С212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С14алкильными радикалами, R15 обозначает H или радикал формулы II. 4 н. и 7 з.п. ф-лы, 4 табл.

 

Текст описания приведен в факсимильном виде.

1. Соединение формулы I

в которой R1 обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными С118алкилом, C218алкенилом, С118галоалкилом, NO2, NR10R11, CN, OR12, SR12, атомом галогена или радикалом формулы II

или радикал R1 обозначает радикал формулы III

R2 и R3 независимо друг от друга обозначают водородный атом;

R10, R11, R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или С118алкил;

R4 и R6 совместно образуют С212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С14алкильными радикалами, или

R5 и R7 совместно образуют С212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С14алкильными радикалами,

R15 обозначает Н или радикал формулы II;

при условии, что

(I) 11-бензил-1,11-диазабицикло[8,4,0]тетрадекан,

(II) 10-бензил-8-метил-1,10-диазабицикло[7,4,0]тридекан,

(III) 9-бензил-1,9-диазабицикло[6,4,0]додекан,

(IV) 8-бензил-6-метил-1,8-диазабицикло[5,4,0]ундекан,

(V) 8-бензил-1,8-диазабицикло[5,4,0]ундекан,

(VI) 7-бензил-2-метил-1,7-диазабицикло[4,3,0]нонан и

(VII) 7-бензил-2-этил-1,7-диазабицикло[4,3,0]нонан исключаются.

2. Соединение формулы I по п.1, у которого R1 обозначает фенил, нафтил, антрил, антрахинонил, тиантренил, флуоренил или тиоксантил, причем эти радикалы являются незамещенными или замещенными один или несколько раз С14алкилом, С24алкенилом, CN, NR10R11, NO2, CF3, SR12, OR12, атомом галогена или радикалом формулы II, или R1 обозначает радикал формулы III; а R10, R11 и R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C16алкил.

3. Соединение формулы 1 по п.1, у которого

R1 обозначает фенил, нафтил, антрил или антрахинонил, причем эти радикалы являются незамещенными или являются замещенными один или несколько раз атомом галогена, C14алкилом, С24алкенилом, NO2,CN, OR12 или радикалом формулы II, а R12 обозначает водородный атом или С14алкил.

4. Фотополимеризующаяся композиция, включающая

А) по меньшей мере одно соединение формулы I

в которой R1 обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными C118алкилом, C218алкенилом, C118галоалкилом, NO2, NR10R11, CN, OR12, SR12, атомом галогена или радикалом формулы II

или R1 обозначает радикал формулы III

R2 и R3 независимо друг от друга обозначают водородный атом,

R10, R11, R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C118алкил;

R4 и R6 совместно образуют С212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C14алкильными радикалами;

R5 и R7 совместно образуют С212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C14алкильными радикалами;

R15 обозначает Н или радикал формулы II; и

Б) по меньшей мере одно органическое соединение, которое способно вступать в катализируемую основаниями реакцию или которое превращают в другую форму катализируемой основанием реакцией, выбранное из группы, состоящей из а) акриловых сополимеров с алкоксисилановыми и/или алкоксисилоксановыми боковыми группами;

б) двухкомпонентных систем, включающих гидроксилсодержащие полиакрилаты, сложные полиэфиры и/или простые полиэфиры и алифатические или ароматические полиизоцианаты;

в) двухкомпонентных систем, включающих полиакрилаты с функциональными группами и полиэпоксид, полиакрилат, содержащий тиоловые, амино-, карбоксильные и/или ангидридные группы;

г) двухкомпонентных систем, включающих модифицированные фтором или модифицированные кремнием гидроксилсодержащие полиакрилаты, сложные полиэфиры и/или простые полиэфиры и алифатические или ароматические полиизоцианаты;

д) двухкомпонентных систем, включающих (поли)кетимины и алифатические или ароматические полиизоцианаты;

е) двухкомпонентных систем, включающих (поли)кетимины и ненасыщенные акриловые смолы или ацетоацетатные смолы или метил-α-акриламидометилгликолят;

з) двухкомпонентных систем, включающих (поли)оксазолидины и полиакрилаты, содержащие ангидридные группы, или ненасыщенные акриловые смолы или полиизоцианаты;

и) двухкомпонентных систем, включающих полиакрилаты с функциональными эпоксигруппами и карбоксилсодержащие или содержащие аминогруппы полиакрилаты;

м) полимеры на основе аллилглицидилового эфира;

н) двухкомпонентных систем, включающих (многоатомный)спирт и/или (поли)тиол и (поли)изоцианат;

о) двухкомпонентных систем, включающих α,β-этиленовоненасыщенное карбонильное соединение и полимер, содержащий активированные группы СН2;

п) двухкомпонентных систем, включающих полимер, содержащий активированные группы СН2, причем эти активированные группы СН2 находятся либо в главной цепи, либо в боковой цепи, либо и в той, и в другой, или полимер, содержащий активированные группы СН2, такой как (поли)ацетоацетаты и (поли)цианоацетаты, и полиальдегидный сшивающий агент.

р) эпоксидной смолы или смеси разных эпоксидных смол.

5. Фотополимеризующаяся композиция по п.4, в которой компонент (А) содержится в количестве от 0,01 до 20 мас.%, в частности от 0,01 до 10 мас.%, в пересчете на компонент (Б).

6. Фотополимеризующаяся композиция по п.4, включающая в дополнение к компонентам (А) и (Б) сенсибилизатор (В).

7. Способ отверждения фотополимеризующейся композиции путем проведения катализируемых основаниями реакций, который включает воздействие на композицию по одному из пп.4-6 излучением, длина волны которого составляет от 200 до 650 нм.

8. Способ по п.7, в котором во время или после воздействия излучением проводят нагревание.

9. Применение соединения формулы I, как оно охарактеризовано в п.4, в качестве фотоинициатора для фотохимически индуцированных, катализированных основаниями реакций полимеризации, присоединения или замещения.

10. Применение соединения формулы I, как оно охарактеризовано в п.4, в качестве фотоинициатора для получения покрытий.

11. Способ отверждения фотополимеризующейся композиции по одному из пп.7 и 8, предназначенный для получения покрытий.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к гравируемой лазером печатной матрице, используемой для получения рельефного изображения известными методами. .

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности.

Изобретение относится к эксплантодренажу для хирургического лечения рефрактерной глаукомы. .

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям с изменяющейся диэлектрической проницаемостью, обеспечивающим модель диэлектрической проницаемости, используемой в качестве изоляционных материалов или конденсатора для схемных плат.

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям, изменяющим показатель преломления, позволяющим получить новую модель распределения показателя преломления, в частности оптический материал, используемый в области оптоэлектроники и устройствах отображения информации.

Изобретение относится к чувствительной к излучению композиции с изменяемым при воздействии излучения показателем преломления, содержащая (А) разлагаемое кислотой соединение, (В) неразлагаемое кислотой соединение, имеющее более высокий показатель преломления, чем у разлагаемого кислотой соединения (А), (С) чувствительный к излучению разлагающий агент, представляющий собой чувствительный к излучению кислотообразователь, и (D) стабилизатор.
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе акриловых олигомеров и может быть использовано в лазерной стереолитографии. .

Изобретение относится к чувствительной к облучению композиции с изменяющимся показателем преломления, используемой в оптико-электронной области и области устройств отображения.

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции. .

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции. .

Изобретение относится к способу лечения расстройств или состояний, опосредованных ферментом - катепсином S, у субъекта, нуждающегося в таком лечении, способ включает введение данному субъекту терапевтически эффективного количества любого соединения или любой фармацевтической композиции, которые описаны выше.

Изобретение относится к способу получения соединений формулы I, где один из заместителей А или В означает водород, а другой обозначает арил, необязательно замещенный одним или двумя R 2, гетероарил, необязательно замещенный одним или двумя R2, и т.д., R5 представляет собой Н, С1-С6-алкил, С5-С6-циклоалкил или CHR 3ОСО-С1-С6-алкил или соль; R2 представляет собой водород, необязательно замещенный C1-С6-алкил, необязательно замещенный С2-С6-алкенил, и т.д.; R3 представляет собой водород, C1-С6-алкил, С5-С6-циклоалкил, необязательно замещенный арил, необязательно замещенный гетероарил; включающему: (а) конденсацию замещенного альдегида (A'-CHO) (17), где А' представляет собой А, такой как определено выше, когда В представляет собой водород; или В, такой как определено выше, когда А представляет собой водород, с производным 6-бромпенема структуры 16, где R представляет собой п-нитробензил, в присутствии кислоты Льюиса и мягкого основания при низкой температуре, которая приводит к образованию промежуточного альдольного продукта 18; (b) взаимодействие промежуточного соединения 18 с хлорангидридом или ангидридом кислоты формулы (R8)Cl или (R 8)2O или с тетрагалогенметаном формулы C(X1)4 и трифенилфосфином, где R8 представляет собой алкил-SO 2, арил-SO2, алкил-СО или арил-СО; X1 представляет собой Br, I или Cl; с образованием промежуточного соединения 19, где R9 представляет собой X1 или OR8; и (с) превращение промежуточного соединения 19 в целевое соединение формулы I.

Изобретение относится к способу лечения состояний, обусловленных р38-киназной активностью, который заключается во введении нуждающемуся в этом больному, по меньшей мере, одного соединения формулы (I): или его фармацевтически приемлемой соли или сольвата, где R3 обозначает водород, метил, перфторметил, метокси, галоген, циано или NH2; Х выбирают из -O-, -ОС(=O)-, -S-, -S(=O)-, -SO2-, -С(=O)-, -CO2-, -NR10 -, -NR10C(=O)-, -NR10 C(=O)NR11-, -NR10 CO2-, -NR10SO 2-, -NR10SO2 NR11-, -SO2NR 11-, -C(=O)NR10, галогена, нитро и циано или Х отсутствует, Z выбирают из О, S, N и CR 20, причем, когда Z обозначает CR20 , указанный атом углерода может образовывать с R 4 или R5 необязательно замещенный бициклический арил или гетероарил; R1 обозначает водород, -СН3, -ОН, -ОСН 3, -SH, -SCH3, -OC(=O)R 21, -S(=O)R22, -SO 2R22, -SO2NR 24R25, -CO2 R21, -C(=O)NR24R 25, -NH2, -NR24 R25, -NR2lSO 2NR24R25, -NR 2lSO2R22, -NR 24C(=O)R25, -NR24 CO2R25, -NR 21C(=O)NR24R25 , галоген, нитро или циано; R2 выбирают из группы: а) водород, при условии, что R2 не обозначает водород, если Х обозначает -S(=O)-, -SO 2-, -NR10CO2 - или -NR10SO2-; б) алкил, алкенил и алкинил, необязательно имеющий в качестве заместителей до четырех групп R26, или пентафторалкил; в) арил и гетероарил, необязательно имеющий в качестве заместителей до трех групп R27 ; и г)гетероцикло или циклоалкил, необязательно имеющий в качестве заместителей кетогруппу (=O), до трех групп R 27 и/или включающий углерод-углеродный мостик, содержащий 3-4 атома углерода; или д) R2 отсутствует, если Х обозначает галоген, нитро или циано; R 4 обозначает замещенный арил, арил, имеющий в качестве заместителя NHSO2алкил, замещенный гетероарил или необязательно замещенный бициклический 7-11-членный насыщенный или ненасыщенный карбоциклический или гетероциклический фрагмент, и R5 обозначает водород, алкил или замещенный алкил, за исключением тех случаев, когда Z обозначает О или S, тогда R5 отсутствует, или же R 4 и R5 вместе с Z образуют необязательно замещенный бициклический 7-11-членный арил или гетероарил; R 6 обозначает водород, алкил, замещенный алкил, арил, замещенный арил, гетероцикло, замещенный гетероцикло, -NR 7R8, -OR7 или галоген; R10 и R11 независимо выбирают из группы: водород, алкил, замещенный алкил, арил, замещенный арил, циклоалкил, замещенный циклоалкил, гетероцикло и замещенный гетероцикло; R7, R 8, R21, R24 и R25 независимо выбирают из группы: водород, алкил, замещенный алкил, арил, замещенный арил, гетероцикло и замещенный гетероцикло; R20 обозначает водород, низший алкил или замещенный алкил, или R 20 может отсутствовать, если атом углерода, с которым он связан, вместе с R4 и R 5 представляет собой часть бициклического арила или гетероарила; R22 обозначает алкил, замещенный алкил, арил, замещенный арил, гетероцикло или замещенный гетероцикло; R26 выбирают из группы: галоген, трифторметил, галоидалкокси, кето (=O), нитро, циано, -SR28 , -OR28, -NR28R 29, -NR28SO2 , -NR28SO2R 29, -SO2R28 , -SO2NR28R 29, -CO2R28 , -C(=O)R28, -C(=O)NR28 R29, -OC(=O)R28, -C(=O)NR28R29, -NR 28C(=O)R29, -NR28 CO2R29, =N-OH, =N-O-алкил; арил, необязательно имеющий в качестве заместителя от одной до трех групп R27; циклоалкил, необязательно имеющий в качестве заместителя кетогруппу (=O), от одной до трех групп R27, или содержащий углерод-углеродный мостик из 3-4 атомов углерода; и гетероцикло, необязательно имеющий в качестве заместителя кетогруппу (=O), от одной до трех групп R27 или включающий углерод-углеродный мостик, содержащий 3-4 атома углерода; причем R28 и R29, каждый, независимо выбирают из группы: водород, алкил, алкенил, арил, аралкил, С 3-7-циклоалкил и С3-7-гетероцикл, или могут вместе образовывать С3-7-гетероцикл; и каждый из R28 и R29 , в свою очередь, необязательно может содержать до двух заместителей, представляющих собой алкильные, алкенильные группы, атомы галогена, галоидалкильные группы, галоидалкокси, циано, нитро, амино, гидрокси, алкокси, алкилтио, фенил, бензил, фенилокси и бензилоксигруппы; и R27 выбирают из группы: алкил, R 32 и С1-4алкил, содержащий в качестве заместителей от одной до трех групп R32 , причем каждую из групп R32 независимо выбирают из группы: галоген, галоидалкил, галоидалкокси, нитро, циано, -SR30, -OR30 , -NR30R31, -NR 30SO2, -NR30 SO2R31, -SO 2R30, -SO2NR 30R31, -COR30 , -С(=O)R30, -C(=O)NR30 R31, -ОСС(=О)R30, -OC(=)NR30R31, -NR 30С(=O)R31, -NR30 CO2R31 и из 3-7-членного карбоциклического или гетероциклического кольца, необязательно содержащего в качестве заместителя алкил, галоген, гидрокси, алкокси, галоидалкил, галоидалкокси, нитро, амино или циано, причем R30 и R31 каждый независимо, выбирают из группы: водород, алкил, алкенил, арил, аралкил, С3-7циклоалкил и гетероцикл, или вместе они могут образовывать С3-7гетероцикл.

Изобретение относится к замещенным пиразолам, к фармацевтическим композициям, содержащим эти соединения, и способам их использования для лечения аутоиммунных заболеваний, медиатором которых является катепсин S.

Изобретение относится к химико-фармацевтической промышленности и касается способа получения нейрогормонального средства - абергина ( и -2-бром-эргокриптины). .

Изобретение относится к новым соединениям формулы I, их фармацевтически приемлемым солям и сложным эфирам. .
Наверх