Травильный раствор

Изобретение относится к составам растворов для травления листового стекла. Травильный раствор содержит, мас.%: HF 3,5-4,0; H2SO4 73,5-74,5; Н2О 20,0-22,0; K2Cr2O7 1,0-1,5. Технический результат изобретения - повышение качества обработки поверхности стекла. 1 табл.

 

Изобретение относится к составам растворов для травления листового стекла.

Известен травильный раствор, содержащий, мас.%: HF 1,2-1,8; Н2SO4 69,0-71,0; H2O 27,8-29,2 [1]. При использовании такого травильного раствора на поверхности обрабатываемого стекла могут возникать дефекты, например, вследствие недостаточно полного ее обезжиривания.

Задача изобретения состоит в повышении качества обработки поверхности стекла.

Технический результат достигается тем, что травильный раствор, содержащий HF,

Н24, H2O, дополнительно содержит K2Сr2O7 при следующем соотношении компонентов, мac.%: HF 3,5-4,0; H2SO4 73,5-74,5; H2O 20,0-22,0; K2Cr2O7 1,0-1,5.

В таблице приведены составы травильного раствора.

Компоненты Состав, мас.%
1 2 3
HF 3,5 3,7 4,0
H2SO4 73,5 74,0 74,5
H2O 22,0 21,0 20,0
К2Cr2O7 1,0 1,3 1,5

Бихромат калия (K2Cr2O7) в сочетании с серной кислотой обезжиривает поверхность обрабатываемого стекла, способствуя равномерному травлению.

Для приготовления раствора компоненты дозируют в требуемых количествах. В HF вливают предварительно смешанные K2Cr2O7, H2SO4 и воду и перемешивают.

Стекло помещают в травильный раствор, где выдерживают при температуре 50°С. Продолжительность обработки выбирают в зависимости от глубины требуемого травления. После обработки поверхность стекла промывают. В результате получают стекло, поверхность которого имеет равномерное травление.

Источник информации

1. SU 655668, 1979.

Травильный раствор, содержащий HF, H2SO4, H2O, отличающийся тем, что дополнительно содержит K2Сr2O7 при следующем соотношении компонентов, мас.%: HF 3,5-4,0; H2SO4 73,5-74,5; Н2О 20,0-22,0; K2Сr2O7 1,0-1,5.



 

Похожие патенты:
Изобретение относится к составам растворов для обработки стекла. .
Изобретение относится к составам растворов для травления стекла. .
Изобретение относится к составам травильных растворов, используемых в стекольной промышленности. .
Изобретение относится к составам травильных растворов для обработки поверхности стекла, нанесения на нее маркировочных обозначений, рисунков и другого. .
Изобретение относится к составам растворов, применяемых для полировки изделий из стекла. .

Изобретение относится к технологии изготовления макропористых стекол оптического качества из натриевоборосиликатного стекла типа ДВ-1 и может быть использовано для создания объемных микрогетерогенных сред как элементной базы в системах записи, хранения и обработки информации, в волоконно-оптических системах передачи информации, в голографии и лазерной технике.
Изобретение относится к технологии обработки стекла и изделий из него для получения декоративного эффекта в виде матового рисунка. .
Изобретение относится к обработке стекловолокнистых нитей, в частности к изготовлению микроканальных пластин МКП, и может быть использовано в электронно-оптических преобразователях.

Изобретение относится к областям регистрации информации путем литографического формирования рельефных микроструктур и может быть использовано в оптотехнике, голографии, электронной технике, полиграфии и прочее.

Изобретение относится к технологии обработки кварцевого стекла, в частности кварцевого стекла

Изобретение относится к материалам для обработки поверхностей стекла, ситалла и кварца и может быть использовано в оптико-электронной промышленности при изготовлении оптических деталей

Изобретение относится к волоконной оптике, в частности к технологии химического травления труб из кварцевого стекла, используемых для производства волоконных световодов (ВС) модифицированным методом химического парофазного осаждения (MCVD)

Изобретение относится к производству высококачественных оптических материалов, в частности материалов, обладающих стойкостью к оптическому повреждению. Способ предотвращения повреждения, наносимого оптическим компонентам высокоинтенсивными источниками света, включает травление оптического компонента в травильном растворе, содержащем фтористо-водородную кислоту, фторид-ионы и бифторид-ионы. Способ также включает мегазвуковое и ультразвуковое перемешивание травильного раствора в ходе процесса с последующим промыванием оптического компонента в промывочной ванне и струйным промыванием. Техническим результатом изобретения является повышение стойкости оптических материалов из плавленого кварца к облучению с высокой плотностью энергии, в частности в ультрафиолетовой области спектра. 10 з.п. ф-лы. 3 ил.

Изобретение относится к технологии мультиферроиков. Технический результат - получение нанокомпозитов со свойствами мультиферроиков. Способ получения композитного мультиферроика включает термообработку железосодержащего щелочноборосиликатного стекла, выдержку двухфазного стекла в 3 М растворе минеральных кислот (HCl, HNO3) при температуре 50÷100°С без либо с дополнительной выдержкой в 0.5 М растворе КОН при 20°С в течение 0.5-6 часов, многостадийную промывку в дистиллированной воде и комбинированную сушку в воздушной атмосфере при температуре 20÷120°С. В поровое пространство матриц, содержащих Fe3O4 (магнетит) с размерами кристаллитов 5÷20 нм, внедряют сегнетоэлектрик из насыщенного при температуре 20°С водного солевого раствора. Осуществляют пропитку образцов при температуре 80°С с окончательной сушкой при температуре 120÷150°С. Затем проводят тепловую обработку композитов в режиме «нагрев-охлаждение» в интервале температур 20÷200°С для формирования сегнетоэлектрической фазы за счет фазовых переходов в режиме нагрева и в режиме охлаждения. 4 з.п. ф-лы, 4 ил.
Изобретение относится к технологии производства крупногабаритных силикатных стеклозаготовок 3D-формы. Технический результат изобретения заключается в уменьшении шероховатости шлифованной поверхности изделий, сокращении времени обработки силикатных 3D-оболочек до оптического качества. На начальной стадии шлифовку осуществляют порошком марки М60 на глубину 120-150 мкм в течение 4-6 ч, затем шлифованную поверхность подвергают воздействию травильного раствора при температуре раствора 10-25°С и продолжительности травления 2-7,5 мин с последующей промывкой водой с температурой 40°С в течение 10 мин. Далее на промежуточной стадии стекло шлифуют микропорошком марки М28 на глубину 20-30 мкм в течение 8-10 ч, после чего шлифованную поверхность подвергают травлению в травильном растворе в течение 2,5-5,5 мин, с последующей промывкой водой с температурой 40°С в течение 10 мин. На окончательной стадии стекло шлифуют микропорошком марки М14 на глубину 10-15 мкм в течение 15-18 ч, после чего шлифованную поверхность подвергают многократному травлению в травильном растворе при температуре 20°С с общей продолжительностью травления 24-51 мин, после каждого цикла травления стекло промывают водой с температурой 40°С в течение 5 мин, затем стекло подвергают окончательной полировке в течение 100-120 часов. Травильный раствор содержит компоненты в следующих соотношениях, мас.%: HF - 15, H2SO4 - 10, H2O - 75.

Изобретение относится к изготовлению полой трехмерной структуры в объеме пластины фоточувствительного стекла. Технический результат изобретения заключается в сокращении длительности изготовления полой трехмерной структуры в объеме пластины стекла и повышении производительности. Прообраз будущей структуры создают перемещением пластины стекла относительно сфокусированного пучка лазерного излучения со сверхкороткой длительностью импульса в плоскости формирования прообраза будущей структуры. Структура формируется в виде непрерывной линии дефектов с размером дефекта не более 100 мкм и не менее 1 мкм с перекрытием сечения пучка не менее 0.85 и не более 0.98 от размера дефекта, с плотностью мощности излучения в плоскости формирования непрерывной линии дефектов не ниже 5·1011 Вт/см2 и не выше 700·1011 Вт/см2. Термическую обработку пластины с прообразом будущей структуры осуществляют расходящимся пучком излучения СО2 лазера с размером площади сечения пучка на поверхности пластины, превышающей 50% площади ее поверхности, с плотностью средней мощности излучения не ниже 1.5 Вт/см2 и не выше 3.0 Вт/см2. Длительность термообработки не более 400 с и не менее 15 с. После термической обработки осуществляют химическое травление в водном растворе HF с концентрацией раствора не ниже 5% и не выше 10% при комнатной температуре при содействии ультразвука до полного устранения кристаллической фазы. 16 ил.

Изобретение относится к составам травильных растворов, которые могут быть использованы для обработки стекол. Травильный раствор для обработки стекла, содержащий фтористоводородную кислоту, азотную кислоту, полиакриламид, воду, дополнительно содержит соляную кислоту и глицерин при следующем соотношении компонентов, мас.%: фтористоводородная кислота 50,0-60,0; азотная кислота 20,0-30,0; полиакриламид 2,0-3,0; соляная кислота 9,0-11,0; глицерин 1,0-2,0; вода 5,0-7,0. Технический результат - увеличение скорости процесса травления. 1 табл.

Травильный раствор для обработки поверхности стеклянных изделий, содержащий бифторид аммония, кремнефтористоводородную кислоту, воду, дополнительно содержит глицерин при следующем соотношении компонентов, мас.%: бифторид аммония 35,0-40,0; кремнефтористоводородная кислота 15,0-20,0; глицерин 2,5-3,2; вода - остальное. Технический результат - увеличение скорости процесса травления. 1 табл.

Изобретение относится к химической обработке поверхности аморфных магнитомягких микропроводов диаметром до 35 мкм со стеклянной оболочкой до 10 мкм, предназначенных для изготовления ГМИ-датчиков, в частности к равномерному травлению стеклянной оболочки микропроводов. Гель содержит пропиленгликоль, воду, аммоний фтористый кислый, этиловый спирт, сахарозу. Предлагаемый гель для травления обладает малой токсичностью за счет снижения концентрации активных ионов фтора и относительно высокой равномерностью травления. Использование геля обеспечивает возможность травления стеклянной оболочки со скоростью - 0,52-0,56 мкм/ч до шероховатости не более 100 нм, а также полное снятие стеклянной оболочки без образования язв и неравномерного травления микропровода, при этом гель обладает меньшей токсичностью за счет снижения концентрации активных ионов фтора. 3 пр.
Наверх