Химический кислородно-йодный лазер с буферным газом

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при разработке технологических химических кислородно-йодных лазеров и лазеров специального назначения. Техническим результатом изобретения является уменьшение массогабаритных и стоимостных характеристик химического кислородно-йодного лазера за счет замены буферного газа азота на значительно более дешевый углекислый газ, а также за счет упрощения и удешевления системы прокачки газов по тракту лазера. Химический кислородно-йодный лазер содержит последовательно соединенные газопроводами генератор синглетного кислорода, систему подготовки и подачи паров йода с несущим их буферным газом, узел смешения газов, лазерную кювету с оптическим резонатором, криогенную ловушку и вакуумный насос. В лазере в качестве буферного газа используется углекислый газ. Химический кислородно-йодный лазер дополнительно содержит еще одну криогенную ловушку для вымораживания углекислого газа, йода и хлора и криогенный насос. Криогенные ловушки соединены трактом с узлом подготовки и подачи паров йода с несущим их буферным газом для повторного использования углекислого газа. 4 з.п. ф-лы, 2 ил.

 

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при разработке технологических химических кислородно-йодных лазеров и лазеров специального назначения.

Известна и в настоящее время широко распространена установка химический кислородно-йодный лазер (Загидуллин М.В., Николаев В.Д., Свистун М.И., Хватов Н.А. Сверхзвуковой кислородно-йодный лазер мощностью 1,4 кВт с длиной усиления 5 см и разбавлением активной среды азотом. Квантовая электроника, 2000, т.30, №2, с.161-166). Химический кислородно-йодный лазер действует на спин орбитальном переходе атомарного йода с длиной волны излучения 1,315 мкм. Лазерный переход инвертируется в ходе передачи электронной энергии от синглетного кислорода . Синглетный кислород нарабатывается в химической реакции хлорирования щелочного раствора перекиси водорода в газожидкостном генераторе 1 (Фиг.1). На выходе генератора 1 газовый поток содержит кислород и неутилизированный хлор. Атомарный йод нарабатывается в ходе диссоциации молекулярного йода в газовом потоке, содержащем синглетный кислород. Пары молекулярного йода захватываются буферным газом, прокачиваемым через парогенератор йода 2, и подаются в узел смешения газов 3. В качестве буферного газа используют, в частности, газообразный азот. На выходе из смесительного узла 3 в газовом потоке содержатся в основном азот, кислород, йод и остаточный хлор. В резонаторе 4 запасенная в синглетном кислороде энергия преобразуется в лазерное излучение. Для удаления токсичных компонент хлора и йода газовый поток прокачивается через криогенную ловушку 5, где токсичные компоненты вымораживаются на стенках ловушки. Прошедшие через ловушку азот и кислород выбрасываются в атмосферу вакуумным насосом 6. Оптимальные выходные характеристики достигаются при двукратном и более разбавлении кислорода азотом.

Также известна установка химический кислородно-йодный лазер (Yang Т.Т., Bhowmik A., Burde D., Clark R., Carroll S., Dickerson R.A., Eblen J., Gylys T., Hsia Y.C., Humphreys-JR R., Moon L., Hurlock S.C., Tomassian A., Proceedings of SPIE, 2002, Vol.4760, p.537-549), в которой также используется в качестве буферного газа азот с пятикратной разбавкой по буферному газу.

Данное техническое решение по технической сущности является наиболее близким к заявляемому изобретению и выбрано в качестве прототипа. Отличительными особенностями химического кислородно-йодного лазера являются относительно низкое давление активной среды, не превышающее 10 мм рт.ст., и сверхзвуковые скорости прокачки газового потока. В связи с этим общий к.п.д. системы определяется в основном затратами энергии на выхлоп отработанных газов в атмосферу. Стоимость расходуемого буферного газа также приводит к удорожанию лазерной установки химического кислородно-йодного лазера.

Задачей изобретения является уменьшение массогабаритных и стоимостных характеристик химического кислородно-йодного лазера за счет замены буферного газа азота на значительно более дешевый углекислый газ, а также за счет упрощения и удешевления системы прокачки газов по тракту лазера.

Это достигается тем, что в химическом кислородно-йодный лазере, содержащем последовательно соединенные газопроводами генератор 1 (фиг.2) синглетного кислорода, систему подготовки и подачи паров йода 2 с несущим их буферным газом, узел смешения газов 3, лазерную кювету 4 с оптическим резонатором, криогенную ловушку 5 и вакуумный насос 7, в нем в качестве буферного газа используется углекислый газ.

Кроме того, химический кислородно-йодный лазер содержит последовательно включенные криогенную ловушку 5 для вымораживания углекислого газа, йода и хлора и систему прокачки газа по тракту лазера.

Более того, химический кислородно-йодный лазер содержит криогенный насос в системе прокачки газов.

А также, химический кислородно-йодный лазер содержит, по крайней мере, две параллельно включенные криогенные ловушки 5 и 6.

К тому же, криогенные ловушки соединены трактом с узлом подготовки и подачи паров йода с несущим их буферным газом для повторного использования углекислого газа.

И, наконец, в химическом кислородно-йодном лазере щелочной раствор перекиси водорода из генератора синглетного кислорода подается по трубопроводу к теплообменникам, установленным в криогенных ловушках для охлаждения рабочего раствора.

Заявляемое изобретение соответствует критерию охраноспособности «изобретательский уровень». Это обосновано тем, что вместо традиционно используемого азота в качестве буферного газа в заявляемом изобретении используется более дешевый углекислый газ. Ранее ошибочно предполагалось, что использование углекислого газа будет приводить к замедлению скорости диссоциации йода и, как следствие этого, к ухудшению выходных характеристик лазера. Дело в том, что молекула СО2 является хорошим тушителем для электронно-возбужденного кислорода O2(bl∑), который, как полагали, вызывает диссоциацию йода. Однако в работе (Azyazov V.N., Heaven М.С. Role of O2(b) and I2(A',A) in chemical oxygen-iodine laser dissociation process., AIAA Journal, 2006, vol.44, p.1593-1600) показано, что О2(b1∑) играет незначительную роль в диссоциации молекулярного йода.

Другим важным преимуществом заявляемого изобретения при использовании углекислого газа является то, что оно позволяет упростить систему прокачки газов по тракту лазера. Углекислый газ легко улавливается криогенной ловушкой. При двукратном и более разбавлении кислорода углекислым газом криогенная ловушка работает как дополнительный насос, увеличивая производительность системы прокачки газов. Таким образом, криогенная ловушка выполняет две функции: улавливание токсичных компонент и прокачку газов по тракту лазера. При этом углекислый газ не выбрасывается в атмосферу и может быть использован повторно в лазере.

На фиг.1 схематично изображена принципиальная схема химический кислородно-йодный лазер с буферным газом по прототипу.

На фиг.2 изображена принципиальная схема заявляемого химического кислородно-йодного лазера с буферным газом и с системой откачки газов на основе криогенной ловушки и криогенного насоса.

Использование углекислого газа в химическом кислородно-йодном лазере позволяет применение в предлагаемом устройстве криогенного насоса. Высоко расходный буферный газ (углекислый газ) улавливается в криогенных ловушках 5 и 6, которые работают попеременно. Основная масса газа задерживается в криогенных ловушках. Производительность прокачки газов в схеме, как показано на фиг.2, по сравнению с прототипом в GCO2/GO2 раз выше, где GCO2 и GO2 расходы углекислого газа и кислорода соответственно. При прочих равных условиях производительность системы прокачки газов в заявляемом устройстве будет, по крайней мере, в два раза выше, чем в прототипе. Криогенная ловушка не способна абсорбировать эффективно кислород. На его выходе газовый поток содержит только кислород. Использование в химическом кислородно-йодном лазере криогенной ловушки и углекислого газа в качестве буферного газа дает дополнительные преимущества для использования криогенного насоса на последнем этапе системы прокачки газов. Поглотительная способность криогенной ловушки прямо пропорциональна давлению кислорода на его входе. Давление кислорода на выходе криогенной ловушки в GCO2/GO2 раз выше, нежели в зоне резонатора. Кроме того, газ, проходя через криогенную ловушку, охлаждается, что повышает как эффективность поглощения криогенного насоса, так и скорость прокачки газа по тракту из-за увеличившейся плотности газа. Емкость поглотителя в криогенном насосе используется для абсорбции только одного газа - кислорода, если в качестве буферного газа используется углекислый газ. В качестве насоса 7 могут быть использованы устройства различных типов, в том числе и криогенный. Использование углекислого газа позволяет упростить систему прокачки газов. Особенно это важно в автономных химических кислородно-йодных лазерах, монтируемых на мобильных установках и транспортных средствах.

В заявляемом устройстве предложено решение, позволяющее повторно использовать углекислый газ и производить охлаждение рабочего раствора (щелочной раствор перекиси водорода). Криогенные ловушки 5 и 6 работают попеременно. На фиг.2 показан пример подключения к тракту нижней ловушки 6. Верхняя ловушка перекрыта, а ее охлаждение не производится. Через теплообменник, установленный в ловушке, пропускается щелочной раствор перекиси водорода, который по трубопроводу транспортируется к ловушке (на фиг.2 не показан). Охлажденный таким образом раствор подается обратно в генератор синглетного кислорода 1. Поступающий теплый раствор нагревает ловушку, что приводит к испарению углекислого газа, который по газопроводу поступает в парогенератор йода для повторного его использования.

Заявляемое устройство значительно упрощает систему прокачки газа по тракту лазера, уменьшая ее весогабаритные и стоимостные характеристики. Заодно решается экологический вопрос о нейтрализации остаточного хлора и паров йода, которые поглощаются в криогенной ловушке.

1. Химический лазер, содержащий последовательно соединенные газопроводами генератор синглетного кислорода, систему подготовки и подачи паров йода с несущим их буферным газом, узел смешения газов, лазерную кювету с оптическим резонатором и систему выхлопа отработанных газов в атмосферу, отличающийся тем, что в качестве буферного газа используется углекислый газ.

2. Химический лазер по п.1, отличающийся тем, что он содержит последовательно включенные криогенную ловушку для вымораживания углекислого газа, йода и хлора и криогенный насос для абсорбции кислорода.

3. Химический лазер по п.2, отличающийся тем, что он содержит, по крайней мере, еще одну криогенную ловушку, причем криогенные ловушки включены в схему лазера параллельно по отношению друг к другу.

4. Химический лазер по п.3, отличающийся тем, что криогенные ловушки соединены с узлом подготовки и подачи паров йода с несущим их буферным газом для повторного использования газа.

5. Химический лазер по п.3 или 4, отличающийся тем, что щелочной раствор перекиси водорода из генератора синглетного кислорода подается по трубопроводу к теплообменникам, установленным в криогенных ловушках, для охлаждения рабочего раствора.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области приборостроения и может быть использовано при разработке и создании мощных и эффективных эксимерных лазеров с импульсом излучения длительностью 20-40 нс.

Изобретение относится к лазерной физике и может быть использовано для повышения мощности и эффективности генерации электроразрядных СО лазеров, а также для создания мощного компактного электроразрядного СО лазера или усилителя ИК-излучения.

Изобретение относится к области создания мощной лазерной техники для технологических целей, преимущественно фотоионизационных CO2(СО)-лазеров, а также лазеров на основе Ar:Хе, O2:I2, и может быть использовано при возбуждении плазмохимических сред и создании плазмохимических реакторов различного назначения.

Изобретение относится к области квантовой электроники и может быть использовано при разработке и создании эксимерных лазеров с импульсом излучения короткой длительности и малой расходимости.

Изобретение относится к области технической физики и может быть использовано в технологическом процессе изготовления активных элементов для лазеров. .

Изобретение относится к возбуждению и стабилизации плазмы газового разряда и может быть использовано в газовых лазерах, в системах типа «Токамак» и т.п. .

Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано для создания и поддержания требуемой концентрации галогеноводорода в активной области газоразрядной трубки.

Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано для создания и поддержания требуемой концентрации галогеноводорода в активной области газоразрядной трубки.

Изобретение относится к газовым лазерам и может быть использовано в научных целях, лазерных технологиях, медицине, в лазерной хирургии и косметологии. .

Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано для изготовления газовых лазеров. .

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при разработке активных элементов лазеров на парах галогенидов металлов, например, бромида меди

Изобретение относится к квантовой электронике, в частности к компактным импульсно-периодическим эксимерным лазерам с УФ предыонизацией

Изобретение относится к лазерной технике. Лазер на парах щелочных металлов с диодной накачкой содержит лазерную камеру с внутренней полостью с прозрачными торцевыми окнами, замкнутый герметичный контур для циркуляции активной среды, проходящий через внутреннюю полость камеры в направлении, поперечном к оптической оси камеры, источник излучения накачки на основе лазерных диодов и оптические средства формирования и фокусировки излучения накачки во внутреннюю полость камеры. Активная среда представляет собой смесь из буферного газа и пара щелочного металла. Источник излучения накачки расположен со стороны торцевого окна лазерной камеры таким образом, что направление формируемого им излучения накачки ориентировано продольно направлению оптической оси камеры. Оптические средства формирования и фокусировки излучения накачки выполнены и установлены с обеспечением построения в активной среде в одной и той же плоскости, поперечной оптической оси камеры, изображения излучающей зоны источника излучения накачки в направлении ее короткой стороны и Фурье-изображения излучающей зоны источника излучения накачки в направлении ее длинной стороны. Технический результат заключается в обеспечении более эффективного преобразования энергии накачки в лазерную энергию и в повышении КПД лазера. 4 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано для создания кислородно-йодных лазеров. Способ получения инверсной населенности на атомах йода заключается в оптической накачке газового потока. Оптическую накачку производят в два этапа, на первом этапе газовый поток облучают светом с длиной волны 490±10 нм, осуществляя частичную 1-10% диссоциацию молекул йода, с последующим облучением газового потока излучением с длиной волны 1315 нм до полной диссоциации молекул йода, а затем производят газодинамическое охлаждение. Основными достоинствами предлагаемого способа являются отсутствие необходимости использования опасных реагентов (таких как хлор) и возможность осуществления непрерывной прокачки рабочей среды. 1 ил.

Изобретение относится к устройству для возбуждения молекул и атомов газа в системах накачки газовых лазеров. Устройство представляет собой кювету в виде вытянутого параллелепипеда или цилиндра, имеющего внешний корпус из изоляционного материала. Внутри корпуса вдоль стен кюветы, параллельно друг другу, расположены сетчатые электроды - анод и катод. Пространство между электродами представляет собой разрядную камеру для осуществления горения тлеющего разряда. В зонах между каждой сеткой-электродом и внутренней поверхностью кюветы образованы камеры, выполняющие роль формирователя газового потока. В каждую из камер осуществляется индивидуальный подвод газа. При этом в одной из боковых стенок газовой кюветы выполнена щель для выпуска из разрядной камеры потока возбужденных молекул или атомов газа в область резонатора, генерирующего поток излучения. Технический результат - снижение габаритов и мощности устройства при сохранении энерговклада. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к лазерной технике. В оптический резонатор излучателя на парах металлов и их соединений установлено две или более соосных друг другу газоразрядных трубок таким образом, что зеркала резонатора оптически связаны друг с другом через объемы газоразрядных трубок, в каждой из упомянутых трубок содержится своя активная среда на парах металлов или их соединений, при этом активные среды и материалы выходного зеркала и окон газоразрядных трубок взаимно прозрачны для генерируемых длин волн, а электроды каждой трубки электрически связаны с выходом своего импульсного высоковольтного источника питания. Технический результат заключается в обеспечении возможности увеличения числа и диапазона длин волн генерации за счет внесения в оптический резонатор нескольких активных сред. 4 з.п. ф-лы, 1 ил.

Активный элемент лазера на парах щелочных металлов содержит камеру с активной средой и оптические окна, прозрачные для лазерного излучения. В стенках камеры установлены трубчатые концевые секции, отделяющие оптические окна от стенок. Каждая концевая секция выполнена металлической с ребристой внутренней поверхностью и снабжена рубашкой охлаждения, охватывающей внешнюю поверхность секции. Внутри каждой секции установлены металлические диафрагмы с отверстиями, диаметр которых согласован с размером поперечного сечения пучка лазерного излучения. Активная среда представляет собой смесь по меньшей мере одного буферного газа и пара щелочного металла. Рубашка охлаждения секции содержит кольцевой канал, в котором обеспечена циркуляция хладагента (охлаждающей жидкости или газа). Технический результат - уменьшение вероятности оседания паров щелочных металлов на окнах кюветы и взаимодействия их с материалами окон и просветляющих покрытий. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

Способ создания активной среды KrF лазера включает в себя зажигание объемного разряда в лазерной смеси после подачи импульсного напряжения на разрядный промежуток, включение искровой предыонизации, создающей предварительную ионизацию газа в разрядном промежутке, и пробой разрядного промежутка. Объемный разряд зажигают биполярным импульсом разрядного тока с общей длительностью 70-85 нс, передним фронтом 8-10 нс и максимальной удельной мощностью накачки (3.5-4.5) МВт/см3, тем самым создают активную среду с большей длительностью существования, что позволяет повышать эффективность и энергию лазерного излучения. 2 ил.
Наверх