Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство

Изобретение раскрывает электрографический фоточувствительный элемент, содержащий основу, электропроводный слой, сформированный на основе, и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, при этом электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, частицы оксида олова, легированного фосфором, и связующий материал; и если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как V_1P и общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V_2P, величины V_T, V_1P и V_2P удовлетворяют следующим выражениям: 2≤{(V_2P/V_T)/V_1P/V_T)}×100≤25 и 15≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤45. Также раскрываются технологический картридж и электрофотографическое устройство, которые содержат указанный выше электрофотографический фоточувствительный элемент. Технический результат заключается в получении электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффекта памяти рисунка практически не происходит и практически не происходит возникновения трещин в электропроводном слое. 7 н. и 15 з.п. ф-лы, 5 ил., 74 табл., 1 пр.

 

Область техники

Данное изобретение относится к электрофотографическому фоточувствительному элементу, и технологическому картриджу и электрофотографическому устройству, включающим электрофотографический фоточувствительный элемент.

Предшествующий уровень техники

В отношении электрофотографического фоточувствительного элемента с применением органического фотопроводящего материала (органического электрофотографического фоточувствительного элемента) в последние годы проводились интенсивные исследования и разработки.

Электрофотографический фоточувствительный элемент в основном включает основу и фоточувствительный слой, сформированный на основе. Фактически, тем не менее, различные слои располагают во многих случаях между основой и фоточувствительным слоем с целью, например, покрывания дефектов на поверхности основы, защиты фоточувствительного слоя от электрического разрушения, улучшения поляризуемости и улучшения способности к блокированию инжекции зарядов от основы к фоточувствительному слою.

Из слоев, располагаемых между основой и фоточувствительным слоем, слой, содержащий частицы оксида металла, известен как слой, предоставляемый с целью покрывания дефектов на поверхности основы. Слой, содержащий частицы оксида металла, обычно обладает высокой электропроводностью (например, первоначальным объемным удельным сопротивлением от 1,0×10⁸ Ом·см до 2,0×10¹³ Ом·см) по сравнению с ее величиной для слоя, не содержащего частицы оксида металла, и даже если толщина слоя увеличена, возрастание остаточного потенциала во время формирования изображения затруднено. Поэтому, слой, содержащий частицы оксида металла, легко покрывает дефекты на поверхности основы. Когда такой слой, обладающий высокой электропроводностью (далее в данном документе называемый как «электропроводный слой») предоставлен между основой и фоточувствительным слоем, чтобы покрывать дефекты на поверхности основы, допустимый интервал дефектов на поверхности основы увеличен. В результате, допустимый интервал используемой основы увеличивается. Соответственно, обеспечивается преимущество в улучшении производительности электрофотографического фоточувствительного элемента.

Патентный документ 1 описывает технологию, включающую применение в электропроводном слое между основой и фоточувствительным слоем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором или вольфрамом. Кроме того, Патентный документ 2 описывает технологию, включающую применение в электропроводном слое между основой и фоточувствительным слоем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, вольфрамом или фтором.

Кроме того, Патентный документ 3 описывает технологию, содержащую включение в нижний слой электрофотографического фоточувствительного элемента, полученного последовательным наслаиванием нижнего слоя, промежуточного слоя и фоточувствительного слоя на электропроводную основу, двух видов частиц оксида металла, имеющих разные средние диаметры частиц. Кроме того, Патентный документ 4 описывает следующую технологию. Два или более вида электропроводных частиц, имеющих разные диаметры первичных частиц, включают в промежуточный слой электрофотографического фоточувствительного элемента, полученного наслаиванием промежуточного слоя и фоточувствительного слоя на электропроводную основу в указанном порядке, отношение «A:B» между средними диаметрами первичных частиц A, имеющих наибольший средний диаметр частиц из электропроводных частиц, и первичных частиц B имеющих наименьший средний диаметр частиц из электропроводных частиц устанавливают от 12:1 до 30:1, и средний диаметр частиц первичных частиц B устанавливают при 0,05 мкм или менее. Кроме того, Патентный документ 4 описывает технологию, включающую применение частиц оксида олова, легированного танталом, в промежуточном слое электрофотографического фоточувствительного элемента.

Кроме того, Патентный документы 5 и 6 описывают каждый технологию, включающую применение частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое или промежуточном слое между основой и фоточувствительным слоем.

Список ссылок

Патентные документы

Патентный документ 1: Выложенная заявка на патент Японии № 2012-18371

Патентный документ 2: Выложенная заявка на патент Японии № 2012-18370

Патентный документ 3: Выложенная заявка на патент Японии № 2007-187771

Патентный документ 4: Выложенная заявка на патент Японии № 2004-151349

Патентный документ 5: Выложенная заявка на патент Японии № H01-248158

Патентный документ 6: Выложенная заявка на патент Японии № H01-150150

Сущность изобретения

Техническая проблема

В последние годы увеличивается следующая возможность: большое число изображений, идентичных одно другому, выводят из одного и того же электрофотографического фоточувствительного элемента в течение короткого периода времени.

В таком случае, направление перемещения среды для печати (такой как материал для переноса (например, бумага) или промежуточный передающий элемент) в электрофотографическом фоточувствительном элементе и вертикальное направление (продольное направление, когда электрофотографический фоточувствительный элемент является цилиндрическим) не отклоняются одно от другого. Соответственно, например, когда сплошное черное изображение или полутоновое изображение выводят после того, как было выведено непрерывным образом большое число изображений, каждое из которых включает вертикальные линии 306 (линии, параллельные направлению перемещения среды для печати), подобно изображению 301 на Фиг. 4, эффект, называемый памятью рисунка, имеет место на участках, на которых формировались вертикальные линии. Более конкретно, по существу, выводят сплошное черное изображение, подобное изображению 302 на Фиг. 4, и выводят полутоновое изображение, подобное изображению 303 на Фиг. 4. Однако когда сплошное черное изображение выводят после того, как было выведено непрерывным образом большое число изображений, каждое из которых включает вертикальные линии 306, подобно изображению 301 на Фиг. 4, выводимое изображение может быть изображением 304 с вертикальными линиями 307, являющимися следствием повторяющегося гистерезиса вертикальных линий 306 изображения 301 на Фиг. 4. Также в случае полутонового изображения, как и в случае сплошного черного изображения, выводимое изображение может быть изображением 305 с вертикальными линиями 308, являющимися следствием повторяющегося гистерезиса вертикальных линий 306 изображения 301 на Фиг. 4. Часть изображения, где проявляется повторяющийся гистерезис, подобно этим вертикальным линиям 307 и 308, называют памятью рисунка.

В частности, увеличивается следующая возможность по сравнению с прошлым временем в связи с увеличением срока службы электрофотографического фоточувствительного элемента: большое число изображений, идентичных одно другому, выводят из одного и того же электрофотографического фоточувствительного элемента в течение короткого периода времени. Соответственно, также и в случае обычного электрофотографического фоточувствительного элемента, который ранее мог быть использован в достаточной мере, начала проявляться ситуация, когда память рисунка имеет место при выведении большого числа изображений, идентичных одно другому, в течение короткого периода времени. В связи с этим, каждый из электрофотографических фоточувствительных элементов, включающих обычные электропроводные слои, описанных в Патентных документах с 1 по 6, вовлекался иногда в обстоятельства, когда имеет место эффект памяти рисунка.

С другой стороны, в случае электропроводного слоя, содержащего связующий материал и частицы оксида металла, возможно возникновение трещин в электропроводном слое, даже когда объемное удельное сопротивление электропроводного слоя уменьшено лишь посредством увеличения содержания частиц оксида металла в электропроводном слое, с тем, чтобы могло сдерживаться увеличение остаточного потенциала во время формирования изображения. Соответственно, возникает настоятельная потребность в подавлении возникновения эффекта памяти рисунка и подавлении увеличения остаточного потенциала наряду с подавлением возникновения трещин в электропроводном слое.

Принимая во внимание вышеуказанное, данное изобретение направлено на предоставление электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и практически не происходит возникновение трещин в электропроводном слое, и технологического картриджа и электрофотографического устройства, включающих такой электрофотографический фоточувствительный элемент.

Решение проблемы

В соответствии с одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, частицы оксида олова, легированного фосфором, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как V_1P, и общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V_2P, величины V_T, V_1P и V_2P удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2).

2≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤25 (1)

15≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤45 (2)

В соответствии с другим аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, частицы оксида олова, легированного вольфрамом, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V_1W, и общий объем частиц оксида олова, легированного вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V_2W, величины V_T, V_1W и V_2W удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7).

2≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤25 (6)

15≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤45 (7)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, частицы оксида олова, легированного фтором, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, в электропроводном слое представлен как V_1F, и общий объем частиц оксида олова, легированного фтором, в электропроводном слое представлен как V_2F, величины V_T, V_1F и V_2F удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12).

2≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤25 (11)

15≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤45 (12)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, частицы оксида олова, легированного ниобием, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, в электропроводном слое представлен как V_1Nb, и общий объем частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое представлен как V_2Nb, величины V_T, V_1Nb и V_2Nb удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17).

2≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/VT)}×100≤25 (16)

15≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/VT)}×100≤45 (17)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, частицы оксида олова, легированного танталом, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, в электропроводном слое представлен как V_1Ta, и общий объем частиц оксида олова, легированного танталом, в электропроводном слое представлен как V_2Ta, величины V_T, V_1Ta и V_2Ta удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22).

2≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤25 (21)

15≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤45 (22)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется технологический картридж, присоединяемый с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства, при этом технологический картридж интегрированным образом поддерживает: вышеописанный электрофотографический фоточувствительный элемент; и по меньшей мере один узел, выбранный из группы, состоящей из узла для зарядки, узла для проявления, узла для переноса и узла для очистки.

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографическое устройство, содержащее: вышеописанный электрофотографический фоточувствительный элемент; узел для зарядки; узел для экспонирования; узел для проявления; и узел для переноса.

Преимущества данного изобретения

В соответствии с данным изобретением, предоставлен электрофотографический фоточувствительный элемент, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и практически не происходит возникновение трещин в электропроводном слое, и технологический картридж и электрофотографическое устройство, включающие такой электрофотографический фоточувствительный элемент.

Другие особенности данного изобретения станут очевидными из представленного ниже описания типичных вариантов осуществления со ссылками на приложенные чертежи.

Краткое описание чертежей

Фиг. 1 представляет собой вид, иллюстрирующий пример схематической конструкции электрофотографического устройства, включающего технологический картридж, имеющий электрофотографический фоточувствительный элемент по данному изобретению.

Фиг. 2 представляет собой вид (вид сверху) для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.

Фиг. 3 представляет собой вид (вид поперечного сечения) для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.

Фиг. 4 представляет собой вид (пример изображения) для иллюстрирования эффекта памяти рисунка.

Фиг. 5 представляет собой вид, иллюстрирующий изображение с одноточечным рисунком с шахматным расположением.

Описание вариантов осуществления

Электрофотографический фоточувствительный элемент по данному изобретению представляет собой электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий основу, проводящий слой, сформированный на основе, и фоточувствительный слой, сформированный на проводящем слое.

Фоточувствительный слой может быть однослойным фоточувствительным слоем, полученным включением вещества, генерирующего заряды, и вещества, переносящего заряды, в единственный слой, или может быть многослойным фоточувствительным слоем, полученным наслаиванием слоя для генерации зарядов, содержащего вещество, генерирующее заряды, и слоя для переноса зарядов, содержащего вещество, переносящее заряды. Кроме того, в случае необходимости, промежуточный слой может быть предоставлен между электропроводным слоем и фоточувствительным слоем, сформированными на основе.

Основа, обладающая электропроводностью, (электропроводная основа) является предпочтительной в качестве основы, и, например, может быть использована металлическая основа, сформированная из металла, такого как алюминий, алюминиевый сплав или нержавеющая сталь. В случае применения алюминия или алюминиевого сплава, может быть использована алюминиевая труба, изготовленная способом производства, включающим процесс с экструзией и процесс с волочением, или алюминиевая труба, изготовленная способом производства, включающим процесс экструзии и процесс вытяжки с утонением. Такая алюминиевая труба предоставляет хорошую точность размеров и хорошую чистоту поверхности без резки ее поверхности и является выгодной также с точки зрения затрат. Однако на необработанной поверхности алюминиевой трубы возможны выступающие дефекты в виде задиров. Соответственно, является особенно эффективным предоставление электропроводного слоя.

В электрофотографическом фоточувствительном элементе по данному изобретению любую из представленных ниже комбинаций частиц оксида металла, а также связующий материал используют в электропроводном слое, подлежащем формированию на основе:

(p) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, и частицы оксида олова, легированного фосфором;

(w) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, и частицы оксида олова, легированного вольфрамом;

(f) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, и частицы оксида олова, легированного фтором;

(nb) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, и частицы оксида олова, легированного ниобием, и

(ta) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, и частицы оксида олова, легированного танталом.

Один из признаков заключается в том, что в каждой из комбинаций (p), (w), (f), (nb) и (ta) частиц оксида металла, фосфор (P), вольфрам (W), фтор (F), ниобий (Nb) или тантал (Ta) является общим с элементом, которым легирован оксид олова. Следует заметить, что частицы оксида титана являются частицами оксида титана (TiO₂), и частицы оксида олова являются частицами оксида олова (SnO₂).

Далее в данном документе, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, также называются как «частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного фосфором также называются как «частицы P-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, также называются как «частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного вольфрамом также называются как «частицы W-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, также называются как «частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного фтором также называются как «частицы F-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, также называются как «частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного ниобием, также называются как «частицы Nb-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, также называются как «частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного танталом также называются как «частицы Ta-легированного оксида олова».

Кроме того, в электрофотографическом фоточувствительном элементе по данному изобретению, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (p), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1P, и объем частиц P-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2P, величины V_T, V_1P, и V_2P удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2).

2≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤25 (1)

15≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤45 (2)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (w), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1W, и объем частиц W-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2W, величины V_T, V_1W, и V_2W удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7).

2≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤25 (6)

15≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤45 (7)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (f), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1F, и объем частиц F-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2F, величины V_T, V_1F, и V_2F удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12).

2≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤25 (11)

15≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤45 (12)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (nb), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1Nb, и объем частиц Nb-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2Nb, величины V_T, V_1Nb, и V_2Nb удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17).

2≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/VT)}×100≤25 (16)

15≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/VT)}×100≤45 (17)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (ta), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1Ta, и объем частиц Ta-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2Ta, величины V_T, V_1Ta, и V_2Ta удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22).

2≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤25 (21)

15≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤45 (22)

Далее в данном документе, V_1P, V_1W, V_1F, V_1Nb, и V_1Ta в собирательном значении также представлены как «V₁», и V_2P, V_2W, V_2F, V_2Nb, и V_2Ta в собирательном значении также представлены как «V₂». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, и частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова в собирательном значении также представлены как «первые частицы оксида металла», и частицы P-легированного оксида олова, частицы W-легированного оксида олова, частицы F-легированного оксида олова, частицы Nb-легированного оксида олова и частицы Ta-легированного оксида олова в собирательном значении также представлены как «вторые частицы оксида металла».

Авторы данного изобретения провели интенсивные исследования в отношении предотвращения возникновения памяти рисунка. В результате, авторы данного изобретения нашли, что эффект памяти рисунка подавляется посредством формирования в электропроводном слое хорошо проводящего пути на протяжении широкого интервала, иными словами, посредством равномерного перемещения зарядов в электропроводном слое. Это, вероятно, обусловлено тем, что локальное задерживание или удерживание зарядов в электропроводном слое практически не происходит. Однако задерживание или удерживание зарядов может не коррелировать в значительной степени с объемным удельным сопротивлением или электрическим сопротивлением электропроводного слоя, поскольку задерживание или удерживание является локальным эффектом. Формирование хорошо проводящего пути в электропроводном слое для подавления эффекта памяти рисунка требует формирования проводящего пути, который проходит как через первые частицы оксида металла, так и через вторые частицы оксида металла. С этой целью, следующая потребность может возникать для подавления эффекта памяти рисунка: вместо формирования электропроводного слоя, содержащего лишь первые частицы оксида металла, или электропроводного слоя, содержащего лишь вторые частицы оксида металла, первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла включают в электропроводный слой при определенном соотношении, и в таком случае образуется проводящий путь, который проходит как через первые частицы оксида металла, так и через вторые частицы оксида металла. А именно, может потребоваться удовлетворение выражению (1), (6), (11), (16) или (21). Когда величина для {(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100 составляет менее чем 2, отношение количества вторых частиц оксида металла к количеству первых частиц оксида металла становится недостаточным. Соответственно, полагают, что ситуация становится близкой к той, что имеет место в случае электропроводного слоя, содержащего лишь первые частицы оксида металла, и поэтому проводящий путь, пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, не может быть сформирован. С другой стороны, когда величина для {(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100 составляет более чем 25, отношение количества вторых частиц оксида металла к количеству первых частиц оксида металла становится чрезмерным. Соответственно, полагают, что ситуация становится близкой к той, что имеет место в случае электропроводного слоя, содержащего лишь вторые частицы оксида металла, и поэтому проводящий путь, пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, не может быть сформирован. Когда удовлетворяется приведенное ниже выражение (3), (8), (13), (18) или (23), становится дополнительно существенным подавление эффекта возникновения памяти рисунка, поскольку соотношение между первыми частицами оксида металла и вторыми частицами оксида металла становится соотношением, при котором может быть сформирован проводящий путь, дополнительно пригодный для подавления возникновения памяти рисунка.

5≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤20 (3)

5≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤20 (8)

5≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤20 (13)

5≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/V_T)}×100≤20 (18)

5≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤20 (23)

Кроме того, формирование проводящего пути, который проходит через первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла, в электропроводном слое может требовать, чтобы сумма величин содержания первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла в электропроводном слое находилась в определенном интервале. А именно, может потребоваться удовлетворение выражению (2), (7), (12), (17) или (22). Когда величина для {(V₁+V₂)/V_T}×100 составляет менее чем 15, склонно происходить задерживание или удерживание зарядов в электропроводном слое, и, следовательно, увеличение остаточного потенциала склонно быть большим в случае повторяющегося применения электрофотографического фоточувствительного элемента. Величина для {(V₁+V₂)/V_T}×100 составляет более предпочтительно 20 или более. С другой стороны, когда величина для {(V₁+V₂)/V_T}×100 составляет более чем 45, количество связующего материала становится слишком малым, и, следовательно, возникновение трещин склонно происходить в электропроводном слое. Величина для {(V₁+V₂)/V_T}×100 составляет более предпочтительно 40 или менее. А именно, более предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (4), (9), (14), (19) или (24).

20≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤40 (4)

20≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤40 (9)

20≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤40 (14)

20≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/V_T)}×100≤40 (19)

20≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤40 (24)

Как описано выше, необходимо удовлетворение выражениям (1) и (2) одновременно, удовлетворение выражениям (6) и (7) одновременно, удовлетворение выражениям (11) и (12) одновременно, удовлетворение выражениям (16) и (17) одновременно или удовлетворение выражениям (21) и (22) одновременно для получения электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и образование трещин в электропроводном слое практически не происходит.

Что касается данного изобретения, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включенная в электропроводный слой, является, например, комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным сурьмой, и частиц оксида олова, легированного сурьмой, или комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, обедненным кислородом, и частиц оксида олова, обедненного кислородом, подавление эффекта возникновения памяти рисунка ухудшается по сравнению с тем случаем, когда комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, представляет собой комбинацию (p), (w), (f), (nb) или (ta).

Кроме того, даже когда компонентом (легирующей примесью), включаемым для легирования оксида олова, является фосфор, вольфрам, фтор, ниобий или тантал, в случае, в котором компонент, включаемый для легирования оксида олова первых частиц оксида металла, и компонент, включаемый для легирования оксида олова вторых частиц оксида металла, отличаются один от другого, например, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, и частиц оксида олова, легированного вольфрамом, подавление эффекта возникновения памяти рисунка аналогичным образом ухудшается по сравнению со случаем комбинации (p), (w), (f), (nb) или (ta), в которой легирующие компоненты идентичны один другому. Это, вероятно, обусловлено, следующей причиной: когда компоненты, включаемые для легирования оксида олова первых частиц оксида металла, и компоненты, включаемые для легирования оксида олова вторых частиц оксида металла, идентичны один другому, электрические свойства, поверхностные свойства и рабочие функции первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла становятся по физическим свойствам, близкими в полном объеме друг к другу, и, следовательно, облегчается перемещение зарядов равномерным образом в электропроводном слое.

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (p), когда отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, представлено как R_1P [ат.%], и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова представлено как R_2P [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (5).

0,9≤R_2P/R_1P≤1,1 (5)

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (w), когда отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, представлено как R_1W [ат.%], и отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах W-легированного оксида олова представлено как R_2W [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (10).

0,9≤R_2W/R_1W≤1,1 (10)

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (f), когда отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, представлено как R_1F [ат.%], и отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах F-легированного оксида олова представлено как R_2F [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (15).

0,9≤R_2F/R_1F≤1,1 (15)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (nb), когда отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, представлено как R_1Nb [ат.%], и отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах Nb-легированного оксида олова представлено как R_2Nb [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (20).

0,9≤R_2Nb/R_1Nb≤1,1 (20)

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (ta), когда отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова, представлено как R_1Ta [ат.%], и отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах Ta-легированного оксида олова представлено как R_2Ta [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (25).

0,9≤R_2Ta/R_1Ta≤1,1 (25)

Далее в данном документе, R_1P, R_1W, R_1F, R_1Nb и R_1Ta в собирательном значении также представлены как «R₁», и R_2P, R_2W, R_2F, R_2Nb и R_2Ta в собирательном значении также представлены как «R₂».

Как представлено выражением (5), (10), (15), (20) или (25), величины относительного содержания фосфора, вольфрама, фтора, ниобия или тантала в оксиде олова первых частиц оксида металла и в оксиде олова вторых частиц оксида металла являются предпочтительно как можно более близкими одна к другой. Иными словами, отношение R₂/R₁ является предпочтительно как можно более близким к 1.0, и конкретно, отношение составляет предпочтительно от 0,9 или более до 1,1 или менее. Когда отношение R₂/R₁ составляет от 0,9 или более до 1,1 или менее, образуется проводящий путь, дополнительно пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, и, следовательно, подавление эффекта возникновения памяти рисунка становится более значительным.

Измерение R₁ и R₂ может быть выполнено посредством сканирующей просвечивающей электронной микроскопии с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) после отбора образца электропроводного слоя электрофотографического фоточувствительного элемента в соответствии с методом с применением фокусированного ионного пучка (FIB). Кроме того, измерение V₁ и V₂ может быть выполнено методом Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM) после отбора образца электропроводного слоя электрофотографического фоточувствительного элемента в соответствии с методом с применением фокусированного ионного пучка (FIB).

Вначале описывается измерение R₁ и R₂.

Отбор образцов для анализа сканирующей просвечивающей электронной микроскопией с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) выполняли, как описано ниже.

Отбор образцов выполняют с помощью поддерживающего основания, изготовленного из меди (Cu) в соответствии с методом отбора образцов FIB-µ. Прибором, использованным авторами данного изобретения, является FB-2000A µ-Sampling System (торговое наименование) производства компании Hitachi High-Technologies Corporation. Отбор образцов выполняли таким образом, что горизонтальные и продольные размеры образца становились такими размерами, что интервал измерения мог быть обеспечен, и толщина образца становилась 150 нм.

Анализ сканирующей просвечивающей электронной микроскопией с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) выполняли, как описано ниже.

Авторы данного изобретения выполняли анализ с помощью автоэмиссионного электронного микроскопа высокого разрешения (HRTEM) (торговое наименование: JEM2100F) производства компании JEOL Ltd. и JED-2300T (торговое наименование) (имеющего разрешение 133 эВ или менее) (энергорассеивающего рентгеновского спектроскопа) производства компании JEOL Ltd. в качестве части для энергодисперсионного рентгеноспектрального микроанализа (EDX).

Условия анализа устанавливали, как описано ниже.

Система: Станция проведения анализа (Analysis Station)

Получение изображений: Цифровой микрограф (Digital Micrograph)

Условия измерения: Ускоряющее напряжение: 200 кВ, диаметр пучка (диаметр): 1,0 нм, время измерения: 50 секунд (в точечном анализе) и 40 минут (в анализе методом площадей)

Интервал измерения: длина 3,6 мкм × ширина 3,4 мкм × толщина 150 нм.

Отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова, отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах W-легированного оксида олова, отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах F-легированного оксида олова, отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах Nb-легированного оксида олова, отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах Ta-легированного оксида олова, или отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова может быть определено из атомного отношения, поскольку идентификация элемента может быть выполнена посредством сканирующей просвечивающей электронной микроскопии с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX).

Отбор образцов выполняли подобным образом десять раз, чтобы предоставить десять образцов с последующим их измерением. Среднее значение для суммарных десяти R₁ и среднее значение для суммарных десяти R₂ определяли каждое как величину для R₁ или R₂ в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения.

Далее описано измерение отношений (V₁/V_T) и (V₂/V_T).

Объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и объем частиц P-легированного оксида олова, и их соотношения, в электропроводном слое могут быть определены посредством идентификации оксида олова, легированного фосфором, и оксида титана на основании их разницы в контрасте в методе Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM). Когда компонентом, включаемым для легирования в оксид олова, является элемент, иной, чем фосфор, такой как вольфрам, фтор, ниобий или тантал, объемы и соотношения в электропроводном слое могут быть определены аналогичным образом.

Условия для выполнения метода Slice & View в данном изобретении были установлены такие, как описано ниже.

Отбор образцов для анализа: метод с применением фокусированного ионного пучка (FIB)

Прибор для обработки и обследования: NVision 40 производства компании SII-Zeiss

Интервал между срезами: 10 нм

Условия обследования:

Ускоряющее напряжение: 1,0 кВ

Наклон образца: 54°

WD: 5 мм

Детектор: детектор BSE

Апертура: 60 мкм, высокий ток

Автоматическое регулирование яркости (ABC): ВКЛ

Разрешение изображения: 1,25 нм/пиксель

Анализ выполняют в области измерения 2 мкм шириной и 2 мкм длиной, информацию для каждого поперечного сечения интегрируют, и определяют объемы V₁ и V₂ для пространства измерения шириной 2 мкм, длиной 2 мкм и толщиной 2 мкм (V_T=8 мкм³). Кроме того, измерение выполняют в окружающей среде с температурой 23°C и давлением 1×10^-4 Па. Следует заметить, что Strata 400S (наклон образца: 52°) производства FEI Company может также быть использован в качестве прибора для обработки и обследования.

Отбор образцов выполняли подобным образом десять раз, чтобы предоставить десять образцов с последующим их измерением. Величину, полученную делением среднего значения для суммарных десяти объемов V₁ для 8 мкм³ на V_T (8 мкм³), определяли как отношение (V₁/V_T) в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения. Кроме того, величину, полученную делением среднего значения для суммарных десяти объемов V₂ для 8 мкм³ на V_T (8 мкм³), определяли как величину отношения (V₂/V_T) в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения.

Следует заметить, что площади идентифицированных оксида олова, легированного фосфором, и оксида титана получали из информации на каждом поперечном сечении посредством анализа изображения. Анализ изображения выполняли с помощью указанного ниже программного обеспечения для обработки изображения.

Программное обеспечение для обработки изображения: Image-Pro Plus производства компании Media Cybernetics

Из частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, первые частицы оксида металла имеют покровный слой, образованный оксидом олова, легированным фосфором, вольфрамом, фтором, ниобием или танталом, и сердцевину частицы, образованную оксидом титана. Кроме того, первые частицы оксида металла имеют такую структуру, что сердцевина частицы покрыта покровным слоем.

Доля (доля покровного слоя) оксида олова (SnO₂) в первых частицах оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 10 до 60% по массе. Исходный материал для олова, необходимый для получения оксида олова (SnO₂), требуется смешивать во время изготовления первых частиц оксида металла для регулирования доли покровного слоя оксида олова (SnO₂). Например, когда хлорид олова (SnCl₄) используют в качестве исходного материала для олова, смешивание требуется выполнять, принимая во внимание количество оксида олова (SnO₂), получаемого из хлорида олова (SnCl₄). Хотя оксид олова (SnO₂), образующий покровный слой каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, легируют фосфором (P), вольфрамом (W), фтором (F), ниобием (Nb) или танталом (Ta), доля покровного слоя является величиной, вычисленной из массы оксида олова (SnO₂) по отношению к общей массе оксида олова (SnO₂) и оксида титана (TiO₂) без учета массы фосфора (P), вольфрама (W), фтора (F), ниобия (Nb) или тантала (Ta), которым легируют оксид олова (SnO₂).

Кроме того, предпочтительно, чтобы оксид олова (SnO₂) в первых частицах оксида металла или вторых частицы оксида металла был легирован фосфором (P), вольфрамом (W), фтором (F), ниобием (Nb) или танталом (Ta) в количестве (при степени легирования) от 0,1 до 10 масс.% по отношению к оксиду олова (SnO₂) (в расчете на массу оксида олова, не содержащего фосфор (P), вольфрам (W), фтор (F), ниобий (Nb) и тантал (Ta)).

Следует заметить, что способ изготовления первых частиц оксида металла (частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, или частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова) также описан в выложенной заявке на патент Японии № H06-207118 и выложенной заявке на патент Японии № 2004-349167.

Кроме того, способ изготовления вторых частиц оксида металла (частиц P-легированного оксида олова, частиц W-легированного оксида олова, частиц F-легированного оксида олова, частиц Nb-легированного оксида олова или частиц Ta-легированного оксида олова) также описан в патенте Японии № 3365821, выложенной заявке на патент Японии № H02-197014, выложенной заявке на патент Японии № H09-278445 и выложенной заявке на патент Японии № H10-53417.

Корпускулярная форма, сферическая форма, игольчатая форма, волокнистая форма, столбчатая форма, стержневая форма, веретенообразная форма, пластинчатая форма и другие аналогичные формы могут быть использованы как форма частицы оксида титана (TiO₂) в качестве сердцевины частицы в каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении. Из них, сферическая форма является предпочтительной с той точки зрения, что дефекты изображения, такие как черные пятна, практически не возникают.

Кроме того, любая из кристаллических форм, таких как рутил, анатаз, брукит, и аморфных форм может быть использована в качестве кристаллической формы частицы оксида титана (TiO₂) в качестве сердцевины частицы в каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении. Кроме того, любой способ изготовления, такой как способ с применением серной кислоты и способ с применением хлористоводородной кислоты, может быть применен в качестве способа изготовления.

Первая причина, почему в данном изобретении используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO₂)), описана ниже. Оксид олова (SnO₂), образующий покровный слой каждой из первых частиц оксида металла, имеет более высокую удельную электропроводность, чем оксид титана (TiO₂), образующий каждую сердцевину частицы, и заряд, воспринятый вторыми частицами оксида металла, содержащими оксид олова (SnO₂), распространяется в основном через покровный слой, содержащий оксид олова (SnO₂), в каждой из первых частиц оксида металла, т.е. перенос заряда в основном выполняется между оксидом олова (SnO₂), и, следовательно, перенос заряда между первыми частицами оксида металла и вторыми частицами оксида металла становится плавным, и заряд перемещается равномерным образом в электропроводном слое.

Вторая причина, почему используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO₂)), заключается в том, что достигается улучшение дисперсности вторых частиц оксида металла в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя. Когда вторые частицы оксида металла используют без применения первых частиц оксида металла, склонно происходить агрегирование вторых частиц оксида металла в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, что увеличивает средний диаметр этих частиц, и, следовательно, выступающие дефекты в виде сыпи возникают на поверхности формируемого электропроводного слоя, или стабильность раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя уменьшается в некоторых случаях. Кроме того, подавление эффекта памяти рисунка не достигается достаточным образом.

Третья причина, почему используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO₂)), заключается в том, что частицы оксида титана(TiO₂), используемые в качестве сердцевин первых частиц оксида металла, имеют каждая низкую прозрачность в качестве частицы, и, следовательно, легко покрывают дефекты на поверхности основы. В противоположность этому, например, когда частицы сульфата бария используют в качестве сердцевин частиц, каждая из частиц имеет высокую прозрачность в качестве частицы, и, следовательно, может требоваться отдельный материал для покрывания дефектов на поверхности основы.

Диаметр каждой из частиц оксида титана (TiO₂) в качестве сердцевины первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 0,05 мкм или более до 0,40 мкм или менее с точки зрения регулирования среднего диаметра первых частиц оксида металла до предпочтительного интервала, описанного далее.

Удельное сопротивление порошка первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 1,0×10¹ Ом·см или более до 1,0×10⁶ Ом·см или менее, более предпочтительно от 1,0×10² Ом·см или более до 1,0×10⁵ Ом·см или менее.

Удельное сопротивление порошка вторых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 1,0×10⁰ Ом·см или более до 1,0×10⁵ Ом·см или менее, более предпочтительно от 1,0×10¹ Ом·см или более до 1,0×10⁴ Ом·см или менее.

Удельное сопротивление порошка первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, предпочтительно меньше, чем удельное сопротивление порошка частиц оксида титана (TiO₂) используемых в качестве сердцевин первых частиц оксида металла.

Метод измерения удельного сопротивления порошка частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла, используемых в данном изобретении, описан ниже.

Удельное сопротивление порошка частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла, используемые в данном изобретении, или сердцевин составных частиц, таких как первые частицы оксида металла, используемые в данном изобретении, измеряют в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)). В данном изобретении, прибор для измерения сопротивления производства компании Mitsubishi Chemical Corporation (торговое наименование: Loresta GP (Hiresta UP, когда удельное сопротивление порошка превышало 1,0×10⁷ Ом·см)) использовали в качестве измерительного прибора. Частицы оксида металла в качестве объектов измерения спрессовывали в образец в виде таблетки для измерения при давлении 500 кг/см². Прикладывали напряжение 100 В. Частицы, используемые в качестве сердцевин, подвергали измерению перед формированием покровного слоя.

Электропроводный слой может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя, содержащего растворитель, связующий материал, и первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла на основу, и сушки и/или отверждения результирующей покровной пленки.

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя может быть приготовлен посредством диспергирования первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла вместе со связующим материалом в растворителе. В качестве метода диспергирования, используют, например, методы с применением вибромиксера для краски, песчаной мельницы, шаровой мельницы и высокоскоростного диспергатора со столкновением с жидкостью.

Примеры связующего материала, используемого в электропроводном слое, включают смолы, такие как фенольная смола, полиуретан, полиамид, полиимид, полиамид-имид, поливиниацеталь, эпоксидная смола, акриловая смола, меламиновая смола и полиэфирная смола. Эти смолы могут быть использованы в отдельности или в комбинации двух или более их видов. Кроме того, из таких смол, с точки зрения, например, подавления миграции (растворения) в другой слой, способности прилипания к основе, диспергируемости и стабильности дисперсии частиц по данному изобретению и устойчивости к растворителям после формирования слоя, предпочтительной является отверждаемая смола, и более предпочтительной является термоотверждающаяся смола. Кроме того, из термоотверждающихся смол термоотверждающаяся фенольная смола и термоотверждающийся полиуретан являются предпочтительными. В случае применения отверждаемой смолы в качестве связующего материала в электропроводном слое, связующий материал, содержащийся в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, является мономером и/или олигомером отверждаемой смолы.

Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, включают, спирты, такие как метанол, этанол и изопропанол, кетоны, такие как ацетон, метилэтилкетон и циклогексанон, эфиры, такие как тетрагидрофуран, диоксан, монометиловый эфир этиленгликоля и монометиловый эфир пропиленгликоля, сложные эфиры, такие как метилацетат и этилацетат, и ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол.

Кроме того, огрубляющий материал для придания шероховатости поверхности электропроводного слоя может быть включен в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя для того, чтобы предотвратить образование интерференционных полос на выводимом изображении вследствие интерференции света, отраженного на поверхности электропроводного слоя. Частицы смолы, имеющие средний диаметр от 1 мкм или более до 5 мкм или менее являются предпочтительными в качестве материала для придания шероховатости поверхности. Примеры частиц смолы включают частицы отверждаемых смол, таких как отверждаемый каучук, полиуретан, эпоксидная смола, алкидная смола, фенольная смола, сложный полиэфир, кремнийорганическая смола и акрилмеламиновая смола. Из них, частицы кремнийорганической смолы, которые практически не агрегируют, являются предпочтительными. Плотность (от 0,5 до 2 г/см³) частиц смолы является малой по сравнению с плотностями (от 4 до 8 г/см³) первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, и, следовательно, поверхности электропроводного слоя может быть эффективным образом придана шероховатость во время формирования электропроводного слоя. При этом, однако, когда содержание материала для придания шероховатости поверхности в электропроводном слое увеличивается, объемное удельное сопротивление электропроводного слоя имеет тенденцию к увеличению в некоторых случаях. Соответственно, содержание материала для придания шероховатости поверхности в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 1 до 80% по массе по отношению к связующему материалу в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя для регулирования объемного удельного сопротивления электропроводного слоя до 2,0×10¹³ Ом·см или менее. В данном изобретении, плотности [г/см³] первых частиц оксида металла, вторых частиц оксида металла, связующего материала (при условии, что, когда связующий материал являлся жидкостью, его отвержденный продукт был подвергнут измерению), частиц кремнийорганической смолы, и т.п. определяли с помощью автоматического денсиметра сухого типа, как описано ниже. Продувку газообразным гелием выполняли десять раз в качестве предварительной обработки для частиц в качестве объектов измерения при температуре 23°C и максимальном давлении 19,5 фунтов на кв. дюйм изб. давления (134 кПа) с помощью автоматического денсиметра сухого типа производства компании Shimadzu Corporation (торговое наименование: Accupyc 1330) и сосуда, имеющего объем 10 см³. После этого, колебание в давлении в камере для образца 0,0050 фунта на кв. дюйм изб. давления/мин (34,47 Па/мин) использовали в качестве показателя величины, определяющей равновесное состояние давления, который указывает, достигло ли давление внутри сосуда равновесия. Когда колебание было равно указанной величине или менее, давление определяли как находящееся в равновесном состоянии, и затем инициировали измерение, чтобы измерять любую такую плотность [г/см³] автоматически.

Кроме того, выравнивающий агент для улучшения поверхностных свойств электропроводного слоя может быть включен в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя. Кроме того, частицы пигмента могут быть включены в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя для дополнительного улучшения покрытия электропроводного слоя.

Кроме того, средний диаметр частиц первых частиц оксида металла (частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, или частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова) в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 0,10 мкм или более до 0,45 мкм или менее, более предпочтительно от 0,15 мкм или более до 0,40 мкм или менее. Когда средний диаметр частиц составляет менее чем 0,10 мкм, склонно происходить повторное агрегирование первых частиц оксида металла после приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя, и, следовательно, стабильность раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя может уменьшаться. Когда средний диаметр частиц составляет более чем 0,45 мкм, поверхность электропроводного слоя огрубляется, что промотирует возникновение локальной инжекции электрических зарядов в фоточувствительный слой, и, следовательно, черные пятна на белом фоне выводимого изображения могут становиться заметными.

Кроме того, средний диаметр частиц вторых частиц оксида металла (частиц P-легированного оксида олова, частиц W-легированного оксида олова, частиц F-легированного оксида олова, частиц Nb-легированного оксида олова или Ta-легированного оксида олова) в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 0,01 мкм или более до 0,45 мкм или менее, более предпочтительно от 0,01 мкм или более до 0,10 мкм или менее.

Средний диаметр частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла, в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя может быть определен посредством представленного ниже метода жидкофазного осаждения или обследованием изображений поперечного сечения, полученных сканирующей электронной микроскопией (SEM).

Вначале раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя разбавляют растворителем, используемым для его приготовления, таким образом, что его прозрачность может находиться в интервале от 0,8 до 1,0. Затем создают гистограмму среднего диаметра частиц (объемного среднего диаметра частиц) и распределения по размеру частиц оксида металла с помощью ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру. В данном изобретении, измерение выполняли с помощью ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру (торговое наименование: CAPA 700) производства компании HORIBA, Ltd. в качестве ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру при скорости вращения 3000 об/мин.

С точки зрения покрывания дефектов поверхности основы, толщина электропроводного слоя составляет предпочтительно от 10 мкм или более до 40 мкм или менее, более предпочтительно от 15 мкм или более до 35 мкм или менее.

Следует заметить, что, в данном изобретении, в качестве прибора для измерения толщины каждого слоя электрофотографического фоточувствительного элемента, включающего электропроводный слой, был использован FISHERSCOPE mms производства компании Fisher Instruments K.K.

Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляет предпочтительно от 1,0×10⁸ Ом·см или более до 2,0×10¹³ Ом·см или менее. Когда слой, имеющий объемное удельное сопротивление 2,0×10¹³ Ом·см или менее, предоставлен на основе в качестве слоя для покрывания дефектов на поверхности основы, поток зарядов практически не прерывается во время формирования изображения, и, следовательно, остаточный потенциал практически не увеличивается. В то же время, когда объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляет 1,0×10⁸ Ом·см или более, количество зарядов, протекающих в электропроводном слое во время зарядки электрофотографического фоточувствительного элемента, не становится чрезмерно большим, и, следовательно, вуалирование вследствие увеличения истощения темной области электрофотографического фоточувствительного элемента практически не происходит.

Метод измерения объемного удельного сопротивления проводящего слоя электрофотографического фоточувствительного элемента описан при ссылках на Фиг. 2 и 3. Фиг. 2 представляет собой вид сверху для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя, и Фиг. 3 представляет собой вид в поперечном разрезе для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.

Объемное удельное сопротивление проводящего слоя измеряют в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)). Медную ленту 203 (производства компании Sumitomo 3M Limited, тип №1181) прикрепляют к поверхности электропроводного слоя 202 и используют в качестве электрода на стороне передней поверхности электропроводного слоя 202. Кроме того, основу 201 используют в качестве электрода на тыльной стороне электропроводного слоя 202. Источник питания 206 для приложения электрического напряжения между медной лентой 203 и основой 201 и токоизмерительный прибор 207 для измерения тока, протекающего между медной лентой 203 и основой 201, размещают соответствующим образом. Кроме того, медную проволоку 204 размещают на медной ленте 203 для приложения напряжения к медной ленте 203 и затем медную проволоку 204 закрепляют на медной ленте 203 посредством присоединения медной ленты 205 аналогичным образом к медной ленте 203 поверх медной проволоки 204 таким образом, что медная проволока 204 не выступает от медной ленты 203. Напряжение прикладывают к медной ленте 203 посредством медной проволоки 204.

Когда величину фонового тока в случае, в котором напряжение не приложено между медной лентой 203 и основой 201, обозначают как I₀ [A], величину тока в случае, в котором прикладывают напряжение -1 В, образованное лишь напряжением постоянного тока (компонентом постоянного тока), обозначают как I [А], толщину электропроводного слоя 202 обозначают как d [см], и площадь электрода (медной ленты 203) на стороне передней поверхности электропроводного слоя 202 обозначают как S [см²], величину, представленную приведенным ниже выражением (26), определяют как объемное удельное сопротивление ρ [Ом·см] электропроводного слоя 202.

ρ=1/(I-I₀)×S/d [Ом·см] (26)

Это измерение предпочтительно выполняют с помощью прибора, способного к измерению очень малой величины тока в качестве прибора 207 для измерения тока, поскольку очень малый ток, абсолютная величина которого составляет 1×10^-6 A или менее, измеряют в данном измерении. Примеры такого прибора включают измеритель пА (торговое наименование: 4140B) производства компании Yokogawa Hewlett-Packard и измеритель высокого сопротивления (торговое наименование: 4339B) производства компании Agilent Technologies.

Следует заметить, что объемное удельное сопротивление электропроводного слоя, измеренное в состоянии, в котором лишь электропроводный слой сформирован на основе, и измерении в состоянии, в котором лишь электропроводный слой оставлен на основе посредством удаления каждого слоя (такого как фоточувствительный слой) на электропроводном слое с электрофотографического фоточувствительного элемента, показывает такую же величину.

Для того, чтобы предотвратить инжекцию зарядов из электропроводного слоя в фоточувствительный слой, промежуточный слой (барьерный слой), обладающий свойствами электрического барьера, может быть предоставлен между электропроводным слоем и фоточувствительным слоем.

Промежуточный слой может быть сформирован посредством нанесения на электропроводный слой покрытия из раствора материала покрытия для формирования промежуточного слоя, содержащего смолу (связующий материал), и сушки результирующей покровной пленки.

Примеры смолы (связующего материала), используемой в промежуточном слое, включают поливиниловый спирт, поливинилметилэфир, полиакриловые кислоты, метилцеллюлозу, этилцеллюлозу, полиглутаминовую кислоту, казеин, крахмал, и другие водорастворимые смолы, полиамид, полиимид, полиамидимид, полиамидокислоту, меламиновую смолу, эпоксидную смолу, полиуретан и полиглутамат. Из них термопластичные смолы являются предпочтительными, чтобы эффективным образом проявлять свойства электрического барьера промежуточного слоя. Из термопластичных смол предпочтительной является термопластичная полиамидная смола. Полиамид предпочтительно является сополимеризованным нейлоном.

Толщина промежуточного слоя составляет предпочтительно от 0,1 мкм или более до 2,0 мкм или менее.

Кроме того, вещество для переноса электронов (электроноакцепторное вещество, такое как акцептор) может быть включено в промежуточный слой, чтобы предотвращать прерывание потока зарядов в промежуточном слое.

Примеры вещества для переноса электронов включают электроноакцепторные вещества, такие как 2,4,7-тринитрофлуоренон, 2,4,5,7-тетранитрофлуоренон, хлоранил и тетрацианохинодиметан, и полимеры таких электроноакцепторных веществ.

Фоточувствительный слой формируют на электропроводном слое (промежуточном слое).

Примеры вещества, генерирующего заряды, используемого в фоточувствительном слое, включают: азопигменты, такие как моноазопигменты, диазопигменты и триазопигменты; фталоцианиновые пигменты, такие как фталоцианин металла и неметаллический фталоцианинный комплекс; индиговые пигменты, такие как индиго и тиоиндиго; периленовые пигменты, такие как ангидрид периленовой кислоты и имид периленовой кислоты; полициклические хиноновые пигменты, такие антрахинон и пиренхинон; скварилиевые красители; пирилиевые соли и тиапирилиевые соли; трифенилметановые красители; хинакридоновые пигменты; пигменты на основе солей азуления; цианиновые красители; ксантеновые красители; хинониминовые красители; и стириловые красители. Из них предпочтительными являются фталоцианины металлов, такие как фталоцианин оксититана, фталоцианин гидроксигаллия и фталоцианин хлоргаллия.

Когда фоточувствительный слой является ламинированным фоточувствительным слоем, слой для генерации зарядов может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов, который приготавливают диспергированием вещества, генерирующего заряды, в растворителе вместе со связующим материалом и последующей сушкой полученной покровной пленки. В качестве метода диспергирования, используют, например, методы с применением гомогенизатора, ультразвуковой волны, шаровой мельницы, песочной мельницы, аттритора и валковой мельницы.

Примеры связующего материала, используемого в слое для генерации зарядов, включают поликарбонат, сложный полиэфир, полиарилат, бутиральную смолу, полистирол, поливинилацеталь, диаллилфталатную смолу, акриловую смолу, метакриловую смолу, винилацетатную смолу, фенольную смолу, кремнийорганическую смолу, полисульфон, стирол-бутадиеновый сополимер, алкидную смолу, эпоксидную смолу, полимочевину и сополимер винилхлорида-винилацетата. Эти связующие материалы могут быть использованы в отдельности или в виде смеси или сополимера двух или более их видов.

Отношение вещества, генерирующего заряды, к связующему материалу (вещество, генерирующее заряды : связующий материал) находится в пределах интервала предпочтительно от 10:1 до 1:10 (массовое отношение), более предпочтительно от 5:1 до 1:1 (массовое отношение).

Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов, включают спирт, сульфоксид, кетон, простой эфир, сложный эфир, алифатический галогенированный углеводород и ароматическое соединение.

Толщина слоя для генерации зарядов составляет предпочтительно 5 мкм или менее, более предпочтительно от 0,1 мкм или более до 2 мкм или менее.

Кроме того, любой из различных сенсибилизаторов, антиоксидантов, УФ абсорберов, пластификаторов и т.п. может быть добавлен к слою для генерации зарядов, в случае необходимости. Кроме того, вещество для переноса электронов (электроноакцепторное вещество, такое как акцептор) может быть включено в слой для генерации зарядов, чтобы предотвращать прерывание потока зарядов в слое для генерации зарядов.

Примеры вещества для переноса электронов включают электроноакцепторные вещества, такие как 2,4,7-тринитрофлуоренон, 2,4,5,7-тетранитрофлуоренон, хлоранил и тетрацианохинодиметан, и полимеры таких электроноакцепторных веществ.

Примеры вещества, переносящего заряды, используемого в фоточувствительном слое включают триариламиновое соединение, гидразоновое соединение, стириловое соединение, стильбеновое соединение, пиразолиновое соединение, оксазоловое соединение, тиазоловое соединение и триарилметановое соединение.

Когда фоточувствительный слой является ламинированным фоточувствительным слоем, слой для переноса зарядов может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов, который приготавливают растворением вещества, переносящего заряды, и связующего материала в растворителе и последующей сушкой полученной покровной пленки.

Примеры связующего материала, используемого в слое для переноса зарядов, включают акриловую смолу, стирольную смолу, сложный полиэфир, поликарбонат, полиарилат, полисульфон, полифениленоксид, эпоксидную смолу, полиуретан, алкидную смолу и ненасыщенную смолу. Эти связующие материалы могут быть использованы в отдельности или в виде смеси или сополимера двух или более их видов.

Отношение вещества, переносящего заряды, к связующему материалу (вещество, переносящее заряды : связующий материал) предпочтительно находится в пределах интервала от 2:1 до 1:2 (массовое отношение).

Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов, включают: кетоны, такие как ацетон и метилэтилкетон, сложные эфиры, такие как метилацетат и этилацетат, эфиры, такие как диметоксиметан и диметоксиэтан, ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол, и углеводороды, замещенные атомом галогена, такие как хлорбензол, хлороформ и четыреххлористый углерод.

Толщина слоя для переноса зарядов составляет предпочтительно от 3 мкм или более до 40 мкм или менее, более предпочтительно от 4 мкм или более до 30 мкм или менее с точки зрения равномерности зарядки и воспроизводимости изображения.

Кроме того, антиоксидант, УФ абсорбер или пластификатор могут быть добавлены к слою для переноса зарядов, в случае необходимости.

Когда фоточувствительный слой является однослойным фоточувствительным слоем, однослойный фоточувствительный слой может быть сформирован нанесением раствора материала покрытия для формирования однослойного фоточувствительного слоя, содержащего вещество, генерирующее заряды, вещество, переносящее заряды, связующий материал и растворитель, и последующей сушкой результирующей покровной пленки. В качестве вещества, генерирующего заряды, вещества, переносящего заряды, связующего материала и растворителя могут быть использованы, например, те материалы, различные виды которых были описаны выше.

Кроме того, защитный слой может быть сформирован на фоточувствительном слое, чтобы защитить фоточувствительный слой. Защитный слой может быть образован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования защитного слоя, содержащего смолу (связующий материал), и последующей сушки и/или отверждения результирующей покровной пленки.

Толщина защитного слоя составляет предпочтительно от 0,5 мкм или более до 10 мкм или менее, более предпочтительно от 1 мкм или более до 8 мкм или менее.

При нанесении каждого из растворов материала покрытия для формирования соответствующих слоев, могут быть использованы такие методы нанесения покрытия, как нанесение покрытия погружением, нанесение покрытия распылением, нанесение покрытия центрифугированием, валковое нанесение покрытия, нанесение покрытия стержнем Мейера и ракельное нанесения покрытия.

Фиг. 1 иллюстрирует в схематическом виде пример конструкции электрофотографического устройства, включающего технологический картридж, имеющий электрофотографический фоточувствительный элемент.

На Фиг. 1 электрофотографический фоточувствительный элемент 1, имеющий форму барабана (цилиндрическую форму), приводится во вращение вокруг оси 2 в направлении, указанном стрелкой, при заданной окружной скорости.

Периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1, приводимого во вращение, равномерно заряжается положительным или отрицательным заданным потенциалом посредством узла 3 для зарядки (такого как первичный узел для зарядки или зарядный ролик) и затем принимает экспонирующий свет (свет, передающий изображение) 4, эмитируемым из узла для экспонирования (не показан), такого как узел для щелевого экспонирования или экспонирования сканированием лазерным лучом. Таким образом, электростатические скрытые изображения, соответствующие целевым изображениям, формируются на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1. Напряжение, прикладываемое к узлу 3 для зарядки, может быть лишь напряжением постоянного тока или может быть напряжением постоянного тока с наложением электрического напряжения переменного тока.

Электростатические скрытые изображения, сформированные на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, преобразуются в изображения из тонера посредством проявления тонером узла 5 для проявления. После этого изображения из тонера, сформированные на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, переносятся на передающий материал (например, бумагу) P посредством смещения для переноса от узла 6 для переноса (такого как передаточный валик). Передающий материал P подается из узла для подачи материала для переноса (не показан) к участку (участку прилегания) между электрофотографическим фоточувствительным элементом 1 и узлом 6 для переноса синхронно с вращением электрофотографического светочувствительного элемента 1.

Передающий материал P, который принял передачу тонерных изображений, отделяется от периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, вводится в фиксирующий узел 8, подвергается фиксированию изображения и затем выводится в качестве продукта со сформированным изображением (отпечатка или копии) из устройства.

Периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1 после переноса тонерных изображений подвергается удалению тонера, оставшегося после переноса, узлом 7 для очистки (таким как очистной ракельный нож). Кроме того, периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1 подвергается процессу нейтрализации с помощью предэкспозиционного света 11 от узла для предварительного экспонирования (не показан), и после этого повторно используется для формирования изображения. Следует заметить, что, когда узел для зарядки является узлом для контактной зарядки, таким как зарядный ролик, предварительное экспонирование не всегда требуется. Также следует заметить, что, когда электрофотографическое устройство является системой без очистителя, узел для очистки не всегда требуется.

Электрофотографический фоточувствительный элемент 1 и по меньшей мере один конструктивный элемент, выбранный из узла 3 для зарядки, узла 5 для проявления, узла 6 для переноса, узла 7 для очистки и т.п., могут быть размещены в кассете и затем поддерживаться объединенным образом в качестве технологического картриджа. Кроме того, технологический картридж может быть присоединен с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства. На Фиг. 1, электрофотографический фоточувствительный элемент 1 и узел 3 для зарядки, узел 5 для проявления и узел 7 для очистки поддерживаются объединенным образом в качестве картриджа, образуя тем самым технологический картридж 9, который присоединен с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства посредством применения направляющего узла 10, такого как полозки основного корпуса электрофотографического устройства. Кроме того, электрофотографическое устройство может иметь конструкцию, включающую электрофотографический фоточувствительный элемент 1, и узел 3 для зарядки, узел для экспонирования, узел 5 для проявления и узел 6 для переноса.

Пример

Далее в данном документе, данное изобретение описано более подробно посредством конкретных примеров, однако данное изобретение не ограничивается ими. Следует заметить, что термин «часть(и)» в каждом из Примеров и Сравнительных примеров означает «часть(и) по массе», термин «средний диаметр частиц» означает «средний диаметр первичных частиц», единица измерения «%» доли покровного слоя в каждой таблице означает «% по массе», и единица измерения «%» степени легирования (доли легирующего элемента) означает «% по массе». В дополнение к этому, каждая из плотностей в Примерах и таблицах является величиной, определенной представленным выше методом, и каждая из них представлена при единице измерения «г/см³».

<Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя>

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1)

112,00 частей частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 230 нм, удельное сопротивление порошка: 5000 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 4,50% по массе, доля покровного слоя: 45% по массе, плотность: 5,1 г/см³) в качестве первых частиц оксида металла, 3,00 части частиц P-легированного оксида олова (средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельное сопротивление порошка: 300 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 3,60% по массе, плотность: 6,8 г/см³) в качестве вторых частиц оксида металла, 266,67 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 120 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 465 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4,5 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 5,00 частей частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,30 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, с CP-141 по CP-233, с CP-281 по CP-373, с CP-421 по CP-513 и с CP-561 по CP-653)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, с CP-141 по CP-233, с CP-281 по CP-373, с CP-421 по CP-513 и с CP-561 по CP-653 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид (включая долю покровного слоя, степень легирования и плотность, то же самое относится к последующему) и количество первых частиц оксида металла, вид (включая степень легирования и плотность, то же самое относится к последующему) и количество вторых частиц оксида металла, и количество связующего материала изменяли таким образом, как показано в Таблицах с 1 по 3, с 8 по 10, с 15 по 17, с 44 по 46 и с 49 по 51.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-7, CP-13, CP-19, CP-24, CP-29, CP-35, CP-40, CP-45, CP-50, CP-55, CP-61, CP-66, CP-71, CP-77, CP-83 и CP-89, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-2, CP-8, CP-14, CP-20, CP-25, CP-30, CP-36, CP-41, CP-46, CP-51, CP-56, CP-62, CP-67, CP-72, CP-78, CP-84 и CP-90, имели удельное сопротивление порошка 250 Ом·см. Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-3, CP-6, CP-9, CP-12, CP-15, CP-18, CP-21, CP-26, CP-31, CP-34, CP-37, CP-42, CP-47, CP-52, CP-57, CP-60, CP-63, CP-68, CP-73, CP-76, CP-79, CP-82, CP-85, CP-88 и CP-91, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-4, CP-10, CP-16, CP-22, CP-27, CP-32, CP-38, CP-43, CP-48, CP-53, CP-58, CP-64, CP-69, CP-74, CP-80, CP-86 и CP-92, имели удельное сопротивление порошка 150 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-5, CP-11, CP-17, CP-23, CP-28, CP-33, CP-39, CP-44, CP-49, CP-54, CP-59, CP-65, CP-70, CP-75, CP-81, CP-87 и CP-93, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-141 по CP-233, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-141, CP-147, CP-153, CP-159, CP-164, CP-169, CP-175, CP-180, CP-185, CP-190, CP-195, CP-201, CP-206, CP-211, CP-217, CP-223 и CP-229, имели удельное сопротивление порошка 180 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-142, CP-148, CP-154, CP-160, CP-165, CP-170, CP-176, CP-181, CP-186, CP-191, CP-196, CP-202, CP-207, CP-212, CP-218, CP-224 и CP-230, имели удельное сопротивление порошка 140 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-143, CP-146, CP-149, CP-152, CP-155, CP-158, CP-161, CP-166, CP-171, CP-174, CP-177, CP-182, CP-187, CP-192, CP-197, CP-200, CP-203, CP-208, CP-213, CP-216, CP-219, CP-222, CP-225, CP-228 и CP-231, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-144, CP-150, CP-156, CP-162, CP-167, CP-172, CP-178, CP-183, CP-188, CP-193, CP-198, CP-204, CP-209, CP-214, CP-220, CP-226 и CP-232, имели удельное сопротивление порошка 70 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-145, CP-151, CP-157, CP-163, CP-168, CP-173, CP-179, CP-184, CP-189, CP-194, CP-199, CP-205, CP-210, CP-215, CP-221, CP-227 и CP-233, имели удельное сопротивление порошка 30 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-281 по CP-373, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-281, CP-287, CP-293, CP-299, CP-304, CP-309, CP-315, CP-320, CP-325, CP-330, CP-335, CP-341, CP-346, CP-351, CP-357, CP-363 и CP-369, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-282, CP-288, CP-294, CP-300, CP-305, CP-310, CP-316, CP-321, CP-326, CP-331, CP-336, CP-342, CP-347, CP-352, CP-358, CP-364 и CP-370, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-283, CP-286, CP-289, CP-292, CP-295, CP-298, CP-301, CP-306, CP-311, CP-314, CP-317, CP-322, CP-327, CP-332, CP-337, CP-340, CP-343, CP-348, CP-353, CP-356, CP-359, CP-362, CP-365, CP-368 и CP-371, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-284, CP-290, CP-296, CP-302, CP-307, CP-312, CP-318, CP-323, CP-328, CP-333, CP-338, CP-344, CP-349, CP-354, CP-360, CP-366 и CP-372, имели удельное сопротивление порошка 170 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-285, CP-291, CP-297, CP-303, CP-308, CP-313, CP-319, CP-324, CP-329, CP-334, CP-339, CP-345, CP-350, CP-355, CP-361, CP-367 и CP-373, имели удельное сопротивление порошка 130 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-421 по CP-513, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-421, CP-427, CP-433, CP-439, CP-444, CP-449, CP-455, CP-460, CP-465, CP-470, CP-475, CP-481, CP-486, CP-491, CP-497, CP-503 и CP-509, имели удельное сопротивление порошка 400 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-422, CP-428, CP-434, CP-440, CP-445, CP-450, CP-456, CP-461, CP-466, CP-471, CP-476, CP-482, CP-487, CP-492, CP-498, CP-504 и CP-510, имели удельное сопротивление порошка 360 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-423, CP-426, CP-429, CP-432, CP-435, CP-438, CP-441, CP-446, CP-451, CP-454, CP-457, CP-462, CP-467, CP-472, CP-477, CP-480, CP-483, CP-488, CP-493, CP-496, CP-499, CP-502, CP-505, CP-508 и CP-511, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-424, CP-430, CP-436, CP-442, CP-447, CP-452, CP-458, CP-463, CP-468, CP-473, CP-478, CP-484, CP-489, CP-494, CP-500, CP-506 и CP-512, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-425, CP-431, CP-437, CP-443, CP-448, CP-453, CP-459, CP-464, CP-469, CP-474, CP-479, CP-485, CP-490, CP-495, CP-501, CP-507 и CP-513, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-561 по CP-653, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-561, CP-567, CP-573, CP-579, CP-584, CP-589, CP-595, CP-600, CP-605, CP-610, CP-615, CP-621, CP-626, CP-631, CP-637, CP-643 и CP-649, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-562, CP-568, CP-574, CP-580, CP-585, CP-590, CP-596, CP-601, CP-606, CP-611, CP-616, CP-622, CP-627, CP-632, CP-638, CP-644 и CP-650, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-563, CP-566, CP-569, CP-572, CP-575, CP-578, CP-581, CP-586, CP-591, CP-594, CP-597, CP-602, CP-607, CP-612, CP-617, CP-620, CP-623, CP-628, CP-633, CP-636, CP-639, CP-642, CP-645, CP-648 и CP-651, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-564, CP-570, CP-576, CP-582, CP-587, CP-592, CP-598, CP-603, CP-608, CP-613, CP-618, CP-624, CP-629, CP-634, CP-640, CP-646 и CP-652, имели удельное сопротивление порошка 110 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-565, CP-571, CP-577, CP-583, CP-588, CP-593, CP-599, CP-604, CP-609, CP-614, CP-619, CP-625, CP-630, CP-635, CP-641, CP-647 и CP-653, имели удельное сопротивление порошка 65 Ом·см.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, с CP-234 по CP-280, с CP-374 по CP-420, с CP-514 по CP-560 и с CP-654 по CP-700)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, с CP-234 по CP-280, с CP-374 по CP-420, с CP-514 по CP-560 и с CP-654 по CP-700 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла, количество связующего материала и количество частиц кремнийорганической смолы изменяли таким образом, как показано в Таблицах 3, 4, 11, 12, 18, 19, 46, 47, 52 и 53; и процедуру для диспергирующей обработки выполняли посредством добавления 30,00 частей непокрытых частиц оксида титана (удельное сопротивление порошка: 5,0×10⁷ Ом·см, средний диаметр частиц: 210 нм, плотность: 4,2 г/см³) во время процедуры для диспергирующей обработки. Следует заметить, что когда приготавливали растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-139, CP-279, CP-419, CP-559 и CP-699, скорость вращения диска и продолжительность диспергирующей обработки в условиях диспергирующей обработки изменяли до 2500 об/мин и 10 часов, соответственно. Кроме того, когда приготавливали растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-140, CP-280, CP-420, CP-560 и CP-700, скорость вращения диска и продолжительность диспергирующей обработки в условиях диспергирующей обработки изменяли до 2500 об/мин и 30 часов, соответственно.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-94, CP-99, CP-104, CP-109, CP-114, CP-119, CP-124, CP-129 и CP-134, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-95, CP-100, CP-105, CP-110, CP-115, CP-120, CP-125, CP-130 и CP-135, имели удельное сопротивление порошка 250 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-96, CP-101, CP-106, CP-111, CP-116, CP-121, CP-126, CP-131, CP-136, CP-139 и CP-140, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-97, CP-102, CP-107, CP-112, CP-117, CP-122, CP-127, CP-132 и CP-137, имели удельное сопротивление порошка 150 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-98, CP-103, CP-108, CP-113, CP-118, CP-123, CP-128, CP-133 и CP-138, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-234 по CP-280, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-234, CP-239, CP-244, CP-249, CP-254, CP-259, CP-264, CP-269 и CP-274, имели удельное сопротивление порошка 180 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-235, CP-240, CP-245, CP-250, CP-255, CP-260, CP-265, CP-270 и CP-275, имели удельное сопротивление порошка 140 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-236, CP-241, CP-246, CP-251, CP-256, CP-261, CP-266, CP-271, CP-276, CP-279 и CP-280, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-237, CP-242, CP-247, CP-252, CP-257, CP-262, CP-267, CP-272 и CP-277, имели удельное сопротивление порошка 70 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-238, CP-243, CP-248, CP-253, CP-258, CP-263, CP-268, CP-273 и CP-278, имели удельное сопротивление порошка 30 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-374 по CP-420, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-374, CP-379, CP-384, CP-389, CP-394, CP-399, CP-404, CP-409 и CP-414, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-375, CP-380, CP-385, CP-390, CP-395, CP-400, CP-405, CP-410 и CP-415, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-376, CP-381, CP-386, CP-391, CP-396, CP-401, CP-406, CP-411, CP-416, CP-419 и CP-420, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-377, CP-382, CP-387, CP-392, CP-397, CP-402, CP-407, CP-412 и CP-417, имели удельное сопротивление порошка 170 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-378, CP-383, CP-388, CP-393, CP-398, CP-403, CP-408, CP-413 и CP-418, имели удельное сопротивление порошка 130 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-514 по CP-560, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-514, CP-519, CP-524, CP-529, CP-534, CP-539, CP-544, CP-549 и CP-554, имели удельное сопротивление порошка 400 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-515, CP-520, CP-525, CP-530, CP-535, CP-540, CP-545, CP-550 и CP-555, имели удельное сопротивление порошка 360 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-516, CP-521, CP-526, CP-531, CP-536, CP-541, CP-546, CP-551, CP-556, CP-559 и CP-560, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-517, CP-522, CP-527, CP-532, CP-537, CP-542, CP-547, CP-552 и CP-557, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-518, CP-523, CP-528, CP-533, CP-538, CP-543, CP-548, CP-553 и CP-558, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-654 по CP-700, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-654, CP-659, CP-664, CP-669, CP-674, CP-679, CP-684, CP-689 и CP-694, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-655, CP-660, CP-665, CP-670, CP-675, CP-680, CP-685, CP-690 и CP-695, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-656, CP-661, CP-666, CP-671, CP-676, CP-681, CP-686, CP-691, CP-696, CP-699 и CP-700, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-657, CP-662, CP-667, CP-672, CP-677, CP-682, CP-687, CP-692 и CP-697, имели удельное сопротивление порошка 110 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-658, CP-663, CP-668, CP-673, CP-678, CP-683, CP-688, CP-693 и CP-698, имели удельное сопротивление порошка 65 Ом·см.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C22, с CP-C42 по CP-C63, с CP-C76 по CP-C97, с CP-C107 по CP-C128 и с CP-C129 по CP-C150)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C22, с CP-C42 по CP-C63, с CP-C76 по CP-C97, с CP-C107 по CP-C128 и с CP-C129 по CP-C150 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла и количество связующего материала изменяли (включая изменение в отношении того, были ли использованы первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла или нет, то же самое относится к последующему), как представлено в Таблицах 5, 13, 20, 48 и 54.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C9 и с CP-C13 по CP-C22, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C4 по CP-C22, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C42 по CP-C50 и с CP-C54 по CP-C63, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C45 по CP-C63, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C76 по CP-C84 и с CP-C88 по CP-C97, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C79 по CP-C97, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C107 по CP-C115 и с CP-C119 по CP-C128, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C110 по CP-C128, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C129 по CP-C137 и с CP-C141 по CP-C150, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C132 по CP-C150, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C35, с CP-C64 по CP-C71, с CP-C98 по CP-C105, с CP-C151 по CP-C178 и CP-C179)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C35, с CP-C64 по CP-C71, с CP-C98 по CP-C105 и с CP-C151 по CP-C179 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла и количество связующего материала изменяли таким образом, как показано в Таблицах 6, 7, 14, 21 и с 55 по 58. Следует заметить, что в таблицах, например, частицы оксида титана, которые покрыты оксидом олова, обедненным кислородом, (частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом) не соответствуют первым частицам оксида металла в соответствии с данным изобретением, и частицы оксида олова, обедненного кислородом, не соответствуют вторым частицам оксида металла в соответствии с данным изобретением, однако данные частицы были показаны в соответствующих колонках для удобства использования в качестве примеров, сравниваемых с данным изобретением. То же самое относится к последующему.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C26 по CP-C28, с CP-C31 по CP-C32, CP-C153 и CP-C154, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C35, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C25, CP-C29, CP-C30, CP-C35, CP-151 и CP-152, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C67 по CP-C69, CP-C104, CP-C157 и CP-C158, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C71, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C31, с CP-C64 по CP-C66, CP-C70, CP-C71, CP-C155 и CP-C156, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C30, CP-C70, с CP-C101 по CP-C103, CP-C161 и CP-C162, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C105, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C32, CP-C159 и CP-C160, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C151, CP-C155, CP-C159, с CP-C166 по CP-C168 и CP-C170, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C171, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C153, CP-C157, CP-C161, с CP-C163 по CP-C165, CP-C169 и CP-C171, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C152, CP-C156, CP-C160, CP-C169 и с CP-C175 по CP-C177, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C178, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C154, CP-C158, CP-C162, CP-C170, с CP-C172 по CP-C174 и CP-C178, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C23, CP-C64, CP-C98, CP-C163 и CP-C172, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C24, CP-C33, CP-C65, CP-C99, CP-C164, CP-C173 и CP-C179, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C25, CP-C34, CP-C66, CP-C100, CP-C165 и CP-C174, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частиц оксида олова, обедненного кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C26, CP-C33, CP-C67, CP-C101, CP-C166, CP-C175 и CP-C179, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида индия-олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C27, CP-C68, CP-C102, CP-C167 и CP-C176, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида олова, легированного Sb, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C28, CP-C34, CP-C69, CP-C103, CP-C168 и CP-C177, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36)

Жидкий материал покрытия для формирования промежуточного слоя Примера 1, описанного в Патентном документе 4, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36.

А именно, 20 частей частиц сульфата бария, покрытых оксидом олова, обедненным кислородом, (доля покровного слоя: 50% по массе, средний диаметр первичных частиц: 600 нм, удельный вес: 5,1 (плотность=5,1 г/см³)), 100 частей частиц оксида олова, легированного сурьмой, (торговое наименование: T-1, производства компании Mitsubishi Materials Corporation, средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельное сопротивление порошка: 5 Ом·см, удельный вес: 6,6 (плотность=6,6 г/см³)), 70 частей фенольной смолы резольного типа (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60%) в качестве связующего материала, и 100 частей 2-метокси-1-пропанола загружали в шаровую мельницу и затем подвергали диспергирующей обработке в течение 20 часов, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C37)

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C37 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36, за исключением того, что частицы оксида олова, легированного сурьмой, заменяли на частицы оксида олова, легированного танталом (средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельный вес: 6,1 (плотность=6,1 г/см³)).

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-7, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38.

А именно, 46 частей частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 220 нм, удельное сопротивление порошка: 100 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-21, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39.

А именно, 44 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 40 нм, удельное сопротивление порошка: 500 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 8% по массе, доля покровного слоя: 20%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 1, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 40 Ом·см, доля покровного слоя: 35% по массе, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 3% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 4, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 500 Ом·см, доля покровного слоя: 35% по массе, количество (степень легирования) фосфора (P), легирующего оксид олова (SnO₂): 0,05% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-10, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72.

А именно, 53 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 220 нм, удельное сопротивление порошка: 150 Ом·см, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-22, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73.

А именно, 46 частей частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 40 нм, удельное сопротивление порошка: 550 Ом·см, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 8% по массе, доля покровного слоя: 20%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-22, описанный в Патентном документе 2.

Данный раствор материала покрытия определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 10, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 25 Ом·см, доля покровного слоя: 33% по массе, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 3% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 13, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 69 Ом·см, доля покровного слоя: 33% по массе, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 0,1% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-30, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106.

А именно, 60 частей частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 75 нм, удельное сопротивление порошка: 300 Ом·см, количество (степень легирования) фтора, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106.

Таблица 1
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-1	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	112,00	Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	3,60	6,8	3,00	1,3	266,67	1,3	5,00	Нет
CP-2		45	4,50	5,1	112,00		4,05	6,7	2,95	1,3	266,75	1,3	5,00
CP-3		45	4,50	5,1	112,00		4,50	6,7	2,95	1,3	266,75	1,3	5,00
CP-4		45	4,50	5,1	112,00		4,95	6,7	2,95	1,3	266,75	1,3	5,00
CP-5		45	4,50	5,1	112,00		5,40	6,7	2,95	1,3	266,75	1,3	5,00
CP-6		45	4,50	5,1	108,50		4,50	6,7	7,15	1,3	265,58	1,3	5,00
CP-7		45	4,50	5,1	99,80		3,60	6,8	17,30	1,3	263,17	1,3	5,00
CP-8		45	4,50	5,1	99,90		4,05	6,7	17,06	1,3	263,40	1,3	5,00
CP-9		45	4,50	5,1	99,90		4,50	6,7	17,06	1,3	263,40	1,3	5,00
CP-10		45	4,50	5,1	99,90		4,95	6,7	17,06	1,3	263,40	1,3	5,00
CP-11		45	4,50	5,1	99,90		5,40	6,7	17,06	1,3	263,40	1,3	5,00
CP-12	45	4,50	5,1	93,50	4,50	6,7	24,60	1,3	261,50	1,3	5,00
CP-13		45	4,50	5,1	89,30		3,60	6,8	29,80	1,3	259,83	1,3	5,00
CP-14		45	4,50	5,1	89,40		4,05	6,7	29,40	1,3	260,33	1,3	5,00
CP-15		45	4,50	5,1	89,40		4,50	6,7	29,40	1,3	260,33	1,3	5,00
CP-16		45	4,50	5,1	89,40		4,95	6,7	29,40	1,3	260,33	1,3	5,00
CP-17		45	4,50	5,1	89,40		5,40	6,7	29,40	1,3	260,33	1,3	5,00
CP-18		45	4,50	5,1	135,50		4,50	6,7	3,60	1,3	226,50	1,3	5,00
CP-19		45	4,50	5,1	131,00		3,60	6,8	8,75	1,3	225,42	1,3	5,00
CP-20		45	4,50	5,1	131,10		4,05	6,7	8,65	1,3	225,42	1,3	5,00
CP-21		45	4,50	5,1	131,10		4,50	6,7	8,65	1,3	225,42	1,3	5,00
CP-22		45	4,50	5,1	131,10		4,95	6,7	8,65	1,3	225,42	1,3	5,00
CP-23		45	4,50	5,1	131,10		5,40	6,7	8,65	1,3	225,42	1,3	5,00
CP-24		45	4,50	5,1	120,50		3,60	6,8	20,90	1,3	222,67	1,3	5,00
CP-25		45	4,50	5,1	120,60		4,05	6,7	20,60	1,3	223,00	1,3	5,00
CP-26		45	4,50	5,1	120,60		4,50	6,7	20,60	1,3	223,00	1,3	5,00
CP-27		45	4,50	5,1	120,60		4,95	6,7	20,60	1,3	223,00	1,3	5,00
CP-28		45	4,50	5,1	120,60		5,40	6,7	20,60	1,3	223,00	1,3	5,00
CP-29		45	4,50	5,1	112,50		3,60	6,8	30,00	1,3	220,83	1,3	5,00
CP-30		45	4,50	5,1	112,60		4,05	6,7	29,60	1,3	221,33	1,3	5,00
CP-31		45	4,50	5,1	112,60		4,50	6,7	29,60	1,3	221,33	1,3	5,00
CP-32		45	4,50	5,1	112,60		4,95	6,7	29,60	1,3	221,33	1,3	5,00
CP-33		45	4,50	5,1	112,60		5,40	6,7	29,60	1,3	221,33	1,3	5,00
CP-34		45	4,50	5,1	107,60		4,50	6,7	35,35	1,3	220,08	1,3	5,00
CP-35		45	4,50	5,1	171,50		3,60	6,8	4,60	1,3	164,83	1,3	5,00
CP-36		45	4,50	5,1	171,50		4,05	6,7	4,50	1,3	165,00	1,3	5,00
CP-37		45	4,50	5,1	171,50		4,50	6,7	4,50	1,3	165,00	1,3	5,00
CP-38		45	4,50	5,1	171,50		4,95	6,7	4,50	1,3	165,00	1,3	5,00
CP-39		45	4,50	5,1	171,50		5,40	6,7	4,50	1,3	165,00	1,3	5,00
CP-40	45	4,50	5,1	165,60	3,60	6,8	11,05	1,3	163,92	1,3	5,00

Таблица 2
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-41	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	165,70	Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,05	6,7	10,90	1,3	164,00	1,3	5,00	Нет
CP-42		45	4,50	5,1	165,70		4,50	6,7	10,90	1,3	164,00	1,3	5,00
CP-43		45	4,50	5,1	165,70		4,95	6,7	10,90	1,3	164,00	1,3	5,00
CP-44		45	4,50	5,1	165,70		5,40	6,7	10,90	1,3	164,00	1,3	5,00
CP-45		45	4,50	5,1	151,80		3,60	6,8	26,35	1,3	161,42	1,3	5,00
CP-46		45	4,50	5,1	151,95		4,05	6,7	25,95	1,3	161,83	1,3	5,00
CP-47		45	4,50	5,1	151,95		4,50	6,7	25,95	1,3	161,83	1,3	5,00
CP-48		45	4,50	5,1	151,95		4,95	6,7	25,95	1,3	161,83	1,3	5,00
CP-49		45	4,50	5,1	151,95		5,40	6,7	25,95	1,3	161,83	1,3	5,00
CP-50		45	4,50	5,1	141,40		3,60	6,8	37,70	1,3	159,83	1,3	5,00
CP-51	45	4,50	5,1	141,70	4,05	6,7	37,25	1,3	160,08	1,3	5,00
CP-52		45	4,50	5,1	141,70		4,50	6,7	37,25	1,3	160,08	1,3	5,00
CP-53		45	4,50	5,1	141,70		4,95	6,7	37,25	1,3	160,08	1,3	5,00
CP-54		45	4,50	5,1	141,70		5,40	6,7	37,25	1,3	160,08	1,3	5,00
CP-55		45	4,50	5,1	134,80		3,60	6,8	45,00	1,3	158,67	1,3	5,00
CP-56		45	4,50	5,1	135,15		4,05	6,7	44,40	1,3	159,08	1,3	5,00
CP-57		45	4,50	5,1	135,15		4,50	6,7	44,40	1,3	159,08	1,3	5,00
CP-58		45	4,50	5,1	135,15		4,95	6,7	44,40	1,3	159,08	1,3	5,00
CP-59		45	4,50	5,1	135,15		5,40	6,7	44,40	1,3	159,08	1,3	5,00
CP-60		45	4,50	5,1	197,70		4,50	6,7	5,20	1,3	120,17	1,3	5,00
CP-61		45	4,50	5,1	190,70		3,60	6,8	12,75	1,3	119,25	1,3	5,00
CP-62		45	4,50	5,1	190,85		4,05	6,7	12,55	1,3	119,33	1,3	5,00
CP-63		45	4,50	5,1	190,85		4,50	6,7	12,55	1,3	119,33	1,3	5,00
CP-64		45	4,50	5,1	190,85		4,95	6,7	12,55	1,3	119,33	1,3	5,00
CP-65		45	4,50	5,1	190,85		5,40	6,7	12,55	1,3	119,33	1,3	5,00
CP-66		45	4,50	5,1	174,40		3,60	6,8	30,30	1,3	117,17	1,3	5,00
СР-67		45	4,50	5,1	174,70		4,05	6,7	29,90	1,3	117,33	1,3	5,00
СР-68		45	4,50	5,1	174,70		4,50	6,7	29,90	1,3	117,33	1,3	5,00
СР-69		45	4,50	5,1	174,70		4,95	6,7	29,90	1,3	117,33	1,3	5,00
СР-70		45	4,50	5,1	174,70		5,40	6,7	29,90	1,3	117,33	1,3	5,00
СР-71		45	4,50	5,1	162,30		3,60	6,8	43,30	1,3	115,67	1,3	5,00
СР-72		45	4,50	5,1	162,70		4,05	6,7	42,75	1,3	115,92	1,3	5,00
СР-73		45	4,50	5,1	162,70		4,50	6,7	42,75	1,3	115,92	1,3	5,00
СР-74		45	4,50	5,1	162,70		4,95	6,7	42,75	1,3	115,92	1,3	5,00
СР-75		45	4,50	5,1	162,70		5,40	6,7	42,75	1,3	115,92	1,3	5,00
СР-76		45	4,50	5,1	155,05		4,50	6,7	50,95	1,3	115,00	1,3	5,00
СР-77		45	4,50	5,1	208,30		3,60	6,8	5,60	1,3	101,83	1,3	5,00
СР-78		45	4,50	5,1	208,25		4,05	6,7	5,56	1,3	101,98	1,3	5,00
СР-79		45	4,50	5,1	208,25		4,50	6,7	5,56	1,3	101,98	1,3	5,00
СР-80	45	4,50	5,1	208,25	4,95	6,7	5,56	1,3	101,98	1,3	5,00

Таблица 3
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической молы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-81	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	208,25	Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	5,40	6,7	5,56	1,3	101,98	1,3	5,00	Нет
CP-82		45	4,50	5,1	201,10		4,50	6,7	13,20	1,3	101,17	1,3	5,00
CP-83		45	4,50	5,1	183,55		3,60	6,8	31,90	1,3	99,25	1,3	5,00
CP-84		45	4,50	5,1	183,90		4,05	6,7	31,40	1,3	99,50	1,3	5,00
CP-85		45	4,50	5,1	183,90		4,50	6,7	31,40	1,3	99,50	1,3	5,00
CP-86		45	4,50	5,1	183,90		4,95	6,7	31,40	1,3	99,50	1,3	5,00
CP-87		45	4,50	5,1	183,90		5,40	6,7	31,40	1,3	99,50	1,3	5,00
CP-88		45	4,50	5,1	171,10		4,50	6,7	45,00	1,3	98,17	1,3	5,00
CP-89		45	4,50	5,1	162,50		3,60	6,8	54,20	1,3	97,17	1,3	5,00
CP-90	45	4,50	5,1	163,00	4,05	6,7	53,55	1,3	97,42	1,3	5,00
CP-91		45	4,50	5,1	163,00		4,50	6,7	53,55	1,3	97,42	1,3	5,00
CP-92		45	4,50	5,1	163,00		4,95	6,7	53,55	1,3	97,42	1,3	5,00
CP-93		45	4,50	5,1	163,00		5,40	6,7	53,55	1,3	97,42	1,3	5,00
CP-94		45	4,50	5,1	135,40		3,60	6,8	9,05	1,3	159,25	1,3	40,00	Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)	4,2	30,00
CP-95		45	4,50	5,1	135,40		4,05	6,7	8,90	1,3	159,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-96		45	4,50	5,1	135,40		4,50	6,7	8,90	1,3	159,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-97		45	4,50	5,1	135,40		4,95	6,7	8,90	1,3	159,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-98		45	4,50	5,1	135,40		5,40	6,7	8,90	1,3	159,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-99		45	4,50	5,1	124,50		3,60	6,8	21,60	1,3	156,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-100		45	4,50	5,1	124,50		4,05	6,7	21,30	1,3	157,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-101		45	4,50	5,1	124,50		4,50	6,7	21,30	1,3	157,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-102		45	4,50	5,1	124,50		4,95	6,7	21,30	1,3	157,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-103		45	4,50	5,1	124,50		5,40	6,7	21,30	1,3	157,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-104		45	4,50	5,1	116,20		3,60	6,8	31,00	1,3	154,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-105		45	4,50	5,1	116,40		4,05	6,7	30,60	1,3	155,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-106		45	4,50	5,1	116,40		4,50	6,7	30,60	1,3	155,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-107		45	4,50	5,1	116,40		4,95	6,7	30,60	1,3	155,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-108		45	4,50	5,1	116,40		5,40	6,7	30,60	1,3	155,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-109		45	4,50	5,1	171,10		3,60	6,8	11,40	1,3	95,83	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-110		45	4,50	5,1	171,20		4,05	6,7	11,25	1,3	95,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-111		45	4,50	5,1	171,20		4,50	6,7	11,25	1,3	95,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-112		45	4,50	5,1	171,20		4,95	6,7	11,25	1,3	95,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-113		45	4,50	5,1	171,20		5,40	6,7	11,25	1,3	95,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-114		45	4,50	5,1	156,80		3,60	6,8	27,20	1,3	93,33	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-115		45	4,50	5,1	157,00		4,05	6,7	26,85	1,3	93,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-116		45	4,50	5,1	157,00		4,50	6,7	26,85	1,3	93,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-117		45	4,50	5,1	157,00		4,95	6,7	26,85	1,3	93,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-118		45	4,50	5,1	157,00		5,40	6,7	26,85	1,3	93,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-119		45	4,50	5,1	146,10		3,60	6,8	39,00	1,3	91,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-120	45	4,50	5,1	146,40	4,05	6,7	38,50	1,3	91,83	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 4
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-121	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	146,40	Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,7	38,50	1,3	91,83	1,3	40,00	Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)	4,2	30,00
CP-122		45	4,50	5,1	146,40		4,95	6,7	38,50	1,3	91,83	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-123		45	4,50	5,1	146,40		5,40	6,7	38,50	1,3	91,83	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-124		45	4,50	5,1	197,05		3,60	6,8	13,15	1,3	49,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-125		45	4,50	5,1	197,20		4,05	6,7	13,00	1,3	49,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-126		45	4,50	5,1	197,20		4,50	6,7	13,00	1,3	49,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-127		45	4,50	5,1	197,20		4,95	6,7	13,00	1,3	49,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-128		45	4,50	5,1	197,20		5,40	6,7	13,00	1,3	49,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-129		45	4,50	5,1	180,20		3,60	6,8	31,30	1,3	47,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-130		45	4,50	5,1	180,50		4,05	6,7	30,85	1,3	47,75	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-131		45	4,50	5,1	180,50		4,50	6,7	30,85	1,3	47,75	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-132	45	4,50	5,1	180,50	4,95	6,7	30,85	1,3	47,75	1,3	40,00	4,2	30,00
CP-133		45	4,50	5,1	180,50		5,40	6,7	30,85	1,3	47,75	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-134		45	4,50	5,1	167,65		3,60	6,8	44,75	1,3	46,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-135		45	4,50	5,1	168,05		4,05	6,7	44,16	1,3	46,32	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-136		45	4,50	5,1	168,05		4,50	6,7	44,16	1,3	46,32	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-137		45	4,50	5,1	168,05		4,95	6,7	44,16	1,3	46,32	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-138		45	4,50	5,1	168,05		5,40	6,7	44,16	1,3	46,32	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-139		45	4,50	5,1	157,00		4,50	6,7	26,85	1,3	93,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-140	45	4,50	5,1	161,00	4,50	6,7	22,85	1,3	93,58	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 5
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-C1	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	114,60	Нет	1,3	267,33	1,3	5,00	Нет
CP-C2		45	4,50	5,1	175,60		1,3	165,67	1,3	5,00
CP-C3		45	4,50	5,1	213,50		1,3	102,50	1,3	5,00
CP-C4		45	4,50	5,1	113,25	Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,7	1,49	1,3	267,10	1,3	5,00
CP-C5		45	4,50	5,1	173,50		4,50	6,7	2,27	1,3	165,38	1,3	5,00
CP-C6		45	4,50	5,1	210,90		4,50	6,7	2,80	1,3	102,17	1,3	5,00
CP-C7		45	4,50	5,1	85,60		4,50	6,7	33,75	1,3	259,42	1,3	5,00
CP-C8		45	4,50	5,1	129,20		4,50	6,7	50,95	1,3	158,08	1,3	5,00
CP-C9		45	4,50	5,1	155,65		4,50	6,7	61,35	1,3	96,67	1,3	5,00
CP-C10	Нет		4,50	6,7	133,40	1,3	236,00	1,3	5,00
CP-C11			4,50	6,7	192,80	1,3	137,00	1,3	5,00
CP-C12			4,50	6,7	226,40	1,3	81,00	1,3	5,00
CP-C13	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	83,20		4,50	6,7	2,20	1,3	316,00	1,3	5,00
CP-C14		45	4,50	5,1	80,60		4,50	6,7	5,30	1,3	315,17	1,3	5,00
CP-C15		45	4,50	5,1	74,50		4,50	6,7	12,75	1,3	312,92	1,3	5,00
CP-C16		45	4,50	5,1	69,75		4,50	6,7	18,35	1,3	311,50	1,3	5,00
CP-C17		45	4,50	5,1	66,70		4,50	6,7	21,92	1,3	310,63	1,3	5,00
CP-C18		45	4,50	5,1	217,70		4,50	6,7	5,75	1,3	85,92	1,3	5,00
CP-C19		45	4,50	5,1	210,05		4,50	6,7	13,80	1,3	85,25	1,3	5,00
CP-C20		45	4,50	5,1	191,95		4,50	6,7	32,80	1,3	83,75	1,3	5,00
CP-C21		45	4,50	5,1	178,50		4,50	6,7	46,95	1,3	82,58	1,3	5,00
CP-C22		45	4,50	5,1	169,98		4,50	6,7	55,85	1,3	81,95	1,3	5,00

Таблица 6
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-C23	Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	-	5,1	152,00	Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,7	26,00	1,3	161,67	1,3	5,00	Нет
CP-C24	Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	-	5,1	152,00		4,50	6,7	26,00	1,3	161,67	1,3	5,00
CP-C25	Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	152,00		4,50	6,7	26,00	1,3	161,67	1,3	5,00
СР-С26	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	152,20	Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)	-	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00
СР-С27	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	151,10	Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,1	27,35	1,3	160,92	1,3	5,00
СР-С28		45	4,50	5,1	152,20	Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00
СР-С29	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	153,30	Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,7	25,70	1,3	160,00	1,3	5,00

Таблица 7

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя

(1) Первые частицы оксида металла

(2) Вторые частицы оксида металла

(3) Связующий материал (фенольная смола)

(4) Частицы кремнийорганической смолы

(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)

Вид

Доля покровного слоя [%]

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Вид

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Плотность

Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)

Плотность

Количество [части]

Вид

Плотность

Количество [части]

CP-C30

Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)

45

4,50

5,0

150,60

Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)

4,50

6,7

26,25

1,3

163,58

1,3

5,00

Нет

CP-C31	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	150,20	Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,5	28,80	1,3	160,00	1,3	5,00
CP-C32		45	4,50	5,1	152,20	Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00
CP-C33	Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	-	5,1	152,20	Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)	-	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00

СР-С34	Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	152,20	Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00
СР-С35	Частицы сульфата бария, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	151,90	Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,7	26,00	1,3	161,83	1,3	5,00

Таблица 8
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-141	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	113,20	Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	3,60	7,4	3,22	1,3	264,30	1,3	5,00	Нет
CP-142		45	4,50	5,2	113,20		4,05	7,5	3,26	1,3	264,23	1,3	5,00
CP-143		45	4,50	5,2	113,20		4,50	7,5	3,26	1,3	264,23	1,3	5,00
CP-144		45	4,50	5,2	113,20		4,95	7,6	3,31	1,3	264,15	1,3	5,00
CP-145		45	4,50	5,2	113,20		5,40	7,6	3,31	1,3	264,15	1,3	5,00
CP-146		45	4,50	5,2	109,40		4,50	7,5	7,90	1,3	262,83	1,3	5,00
CP-147		45	4,50	5,2	100,50		3,60	7,4	18,60	1,3	259,83	1,3	5,00
CP-148		45	4,50	5,2	100,50		4,05	7,5	18,85	1,3	259,42	1,3	5,00
CP-149		45	4,50	5,2	100,50		4,50	7,5	18,85	1,3	259,42	1,3	5,00
CP-150		45	4,50	5,2	100,40		4,95	7,6	19,10	1,3	259,17	1,3	5,00
CP-151	45	4,50	5,2	100,40	5,40	7,6	19,10	1,3	259,17	1,3	5,00

CP-152		45	4,50	5,2	93,70		4,50	7,5	27,05	1,3	257,08	1,3	5,00
CP-153		45	4,50	5,2	89,55		3,60	7,4	31,86	1,3	255,98	1,3	5,00
CP-154		45	4,50	5,2	89,48		4,05	7,5	32,26	1,3	255,43	1,3	5,00
CP-155		45	4,50	5,2	89,48		4,50	7,5	32,26	1,3	255,43	1,3	5,00
CP-156		45	4,50	5,2	89,30		4,95	7,6	32,65	1,3	255,08	1,3	5,00
CP-157		45	4,50	5,2	89,30		5,40	7,6	32,65	1,3	255,08	1,3	5,00
CP-158		45	4,50	5,2	136,65		4,50	7,5	3,97	1,3	223,97	1,3	5,00
CP-159		45	4,50	5,2	132,00		3,60	7,4	9,40	1,3	222,67	1,3	5,00
CP-160		45	4,50	5,2	132,00		4,05	7,5	9,55	1,3	222,42	1,3	5,00
CP-161		45	4,50	5,2	132,00		4,50	7,5	9,55	1,3	222,42	1,3	5,00
CP-162		45	4,50	5,2	131,90		4,95	7,6	9,65	1,3	222,42	1,3	5,00
CP-163		45	4,50	5,2	131,90		5,40	7,6	9,65	1,3	222,42	1,3	5,00
CP-164		45	4,50	5,2	121,00		3,60	7,4	22,40	1,3	219,33	1,3	5,00
СР-165		45	4,50	5,2	120,85		4,05	7,5	22,67	1,3	219,13	1,3	5,00
СР-166		45	4,50	5,2	120,85		4,50	7,5	22,67	1,3	219,13	1,3	5,00
СР-167		45	4,50	5,2	120,70		4,95	7,6	22,95	1,3	218,92	1,3	5,00
СР-168		45	4,50	5,2	120,70		5,40	7,6	22,95	1,3	218,92	1,3	5,00
СР-169		45	4,50	5,2	112,75		3,60	7,4	32,10	1,3	216,92	1,3	5,00
СР-170		45	4,50	5,2	112,55		4,05	7,5	32,50	1,3	216,58	1,3	5,00
СР-171		45	4,50	5,2	112,55		4,50	7,5	32,50	1,3	216,58	1,3	5,00
СР-172		45	4,50	5,2	112,40		4,95	7,6	32,85	1,3	216,25	1,3	5,00
СР-173		45	4,50	5,2	112,40		5,40	7,6	32,85	1,3	216,25	1,3	5,00
СР-174		45	4,50	5,2	107,30		4,50	7,5	38,70	1,3	215,00	1,3	5,00
СР-175		45	4,50	5,2	172,50		3,60	7,4	4,90	1,3	162,67	1,3	5,00
СР-176		45	4,50	5,2	172,40		4,05	7,5	5,00	1,3	162,67	1,3	5,00
СР-177		45	4,50	5,2	172,40		4,50	7,5	5,00	1,3	162,67	1,3	5,00
СР-178		45	4,50	5,2	172,40		4,95	7,6	5,05	1,3	162,58	1,3	5,00
СР-179		45	4,50	5,2	172,40		5,40	7,6	5,05	1,3	162,58	1,3	5,00
СР-180	45	4,50	5,2	166,30	3,60	7,4	11,85	1,3	161,42	1,3	5,00

Таблица 9
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-181	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	166,20	Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,05	7,5	12,00	1,3	161,33	1,3	5,00	Нет
CP-182		45	4,50	5,2	166,20		4,50	7,5	12,00	1,3	161,33	1,3	5,00
CP-183		45	4,50	5,2	166,10		4,95	7,6	12,15	1,3	161,25	1,3	5,00
CP-184		45	4,50	5,2	166,10		5,40	7,6	12,15	1,3	161,25	1,3	5,00
CP-185		45	4,50	5,2	151,80		3,60	7,4	28,15	1,3	158,42	1,3	5,00
CP-186		45	4,50	5,2	151,60		4,05	7,5	28,45	1,3	158,25	1,3	5,00
CP-187		45	4,50	5,2	151,60		4,50	7,5	28,45	1,3	158,25	1,3	5,00
CP-188		45	4,50	5,2	151,45		4,95	7,6	28,80	1,3	157,92	1,3	5,00
CP-189		45	4,50	5,2	151,45		5,40	7,6	28,80	1,3	157,92	1,3	5,00
CP-190	45	4,50	5,2	141,10	3,60	7,4	40,20	1,3	156,17	1,3	5,00

CP-191		45	4,50	5,2	140,85		4,05	7,5	40,65	1,3	155,83	1,3	5,00
CP-192		45	4,50	5,2	140,85		4,50	7,5	40,65	1,3	155,83	1,3	5,00
CP-193		45	4,50	5,2	140,55		4,95	7,6	41,10	1,3	155,58	1,3	5,00
CP-194		45	4,50	5,2	140,55		5,40	7,6	41,10	1,3	155,58	1,3	5,00
CP-195		45	4,50	5,2	134,30		3,60	7,4	47,80	1,3	154,83	1,3	5,00
CP-196		45	4,50	5,2	134,05		4,05	7,5	48,35	1,3	154,33	1,3	5,00
CP-197		45	4,50	5,2	134,05		4,50	7,5	48,35	1,3	154,33	1,3	5,00
CP-198		45	4,50	5,2	133,70		4,95	7,6	48,90	1,3	154,00	1,3	5,00
CP-199		45	4,50	5,2	133,70		5,40	7,6	48,90	1,3	154,00	1,3	5,00
CP-200		45	4,50	5,2	198,40		4,50	7,5	5,75	1,3	118,08	1,3	5,00
CP-201		45	4,50	5,2	191,15		3,60	7,4	13,60	1,3	117,08	1,3	5,00
CP-202		45	4,50	5,2	191,00		4,05	7,5	13,80	1,3	117,00	1,3	5,00
CP-203		45	4,50	5,2	191,00		4,50	7,5	13,80	1,3	117,00	1,3	5,00
CP-204		45	4,50	5,2	190,90		4,95	7,6	13,95	1,3	116,92	1,3	5,00
СР-205		45	4,50	5,2	190,90		5,40	7,6	13,95	1,3	116,92	1,3	5,00
СР-206		45	4,50	5,2	174,10		3,60	7,4	32,20	1,3	114,50	1,3	5,00
СР-207		45	4,50	5,2	173,76		4,05	7,5	32,60	1,3	114,40	1,3	5,00
СР-208		45	4,50	5,2	173,76		4,50	7,5	32,60	1,3	114,40	1,3	5,00
СР-209		45	4,50	5,2	173,50		4,95	7,6	33,00	1,3	114,17	1,3	5,00
СР-210		45	4,50	5,2	173,50		5,40	7,6	33,00	1,3	114,17	1,3	5,00
СР-211		45	4,50	5,2	161,45		3,60	7,4	45,95	1,3	112,67	1,3	5,00
СР-212		45	4,50	5,2	161,05		4,05	7,5	46,50	1,3	112,42	1,3	5,00
СР-213		45	4,50	5,2	161,05		4,50	7,5	46,50	1,3	112,42	1,3	5,00
СР-214		45	4,50	5,2	160,70		4,95	7,6	47,00	1,3	112,17	1,3	5,00
СР-215		45	4,50	5,2	160,70		5,40	7,6	47,00	1,3	112,17	1,3	5,00
СР-216		45	4,50	5,2	153,10		4,50	7,5	55,20	1,3	111,17	1,3	5,00
СР-217		45	4,50	5,2	208,90		3,60	7,4	6,00	1,3	100,17	1,3	5,00
СР-218		45	4,50	5,2	208,85		4,05	7,5	6,07	1,3	100,13	1,3	5,00
СР-219		45	4,50	5,2	208,85		4,50	7,5	6,07	1,3	100,13	1,3	5,00
СР-220	45	4,50	5,2	208,85	4,95	7,6	6,10	1,3	100,08	1,3	5,00

Таблица 10
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-221	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	208,85	Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	5,40	7,6	6,10	1,3	100,08	1,3	5,00	Нет
CP-222		45	4,50	5,2	201,00		4,50	7,5	14,50	1,3	99,17	1,3	5,00
CP-223		45	4,50	5,2	183,00		3,60	7,4	33,85	1,3	96,92	1,3	5,00
CP-224		45	4,50	5,2	182,65		4,05	7,5	34,30	1,3	96,75	1,3	5,00
CP-225		45	4,50	5,2	182,65		4,50	7,5	34,30	1,3	96,75	1,3	5,00
CP-226		45	4,50	5,2	182,35		4,95	7,6	34,70	1,3	96,58	1,3	5,00
CP-227		45	4,50	5,2	182,35		5,40	7,6	34,70	1,3	96,58	1,3	5,00
CP-228		45	4,50	5,2	169,20		4,50	7,5	48,80	1,3	95,00	1,3	5,00
CP-229		45	4,50	5,2	161,10		3,60	7,4	57,35	1,3	94,25	1,3	5,00
CP-230		45	4,50	5,2	160,67		4,05	7,5	57,95	1,3	93,97	1,3	5,00
CP-231		45	4,50	5,2	160,67		4,50	7,5	57,95	1,3	93,97	1,3	5,00
CP-232		45	4,50	5,2	160,25		4,95	7,6	58,55	1,3	93,67	1,3	5,00
CP-233	45	4,50	5,2	160,25	5,40	7,6	58,55	1,3	93,67	1,3	5,00

Таблица 11
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы Помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-234	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	136,40	Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	3,60	7,4	9,72	1,3	156,47	1,3	40,00	Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)	4,2	30,00
CP-235		45	4,50	5,2	136,40		4,05	7,5	9,85	1,3	156,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-236		45	4,50	5,2	136,40		4,50	7,5	9,85	1,3	156,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-237		45	4,50	5,2	136,30		4,95	7,6	9,98	1,3	156,20	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-238		45	4,50	5,2	136,30		5,40	7,6	9,98	1,3	156,20	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-239		45	4,50	5,2	125,00		3,60	7,4	23,15	1,3	153,08	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-240		45	4,50	5,2	124,90		4,05	7,5	23,44	1,3	152,77	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-241		45	4,50	5,2	124,90		4,50	7,5	23,44	1,3	152,77	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-242		45	4,50	5,2	124,70		4,95	7,6	23,70	1,3	152,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-243	45	4,50	5,2	124,70	5,40	7,6	23,70	1,3	152,67	1,3	40,00	4,2	30,00

CP-244		45	4,50	5,2	116,50		3,60	7,4	33,15	1,3	150,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-245		45	4,50	5,2	116,30		4,05	7,5	33,55	1,3	150,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-246		45	4,50	5,2	116,30		4,50	7,5	33,55	1,3	150,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-247		45	4,50	5,2	116,10		4,95	7,6	33,95	1,3	149,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-248		45	4,50	5,2	116,10		5,40	7,6	33,95	1,3	149,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-249		45	4,50	5,2	171,80		3,60	7,4	12,25	1,3	93,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-250		45	4,50	5,2	171,70		4,05	7,5	12,40	1,3	93,17	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-251		45	4,50	5,2	171,70		4,50	7,5	12,40	1,3	93,17	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-252		45	4,50	5,2	171,65		4,95	7,6	12,55	1,3	93,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-253		45	4,50	5,2	171,65		5,40	7,6	12,55	1,3	93,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-254		45	4,50	5,2	156,85		3,60	7,4	29,05	1,3	90,17	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-255		45	4,50	5,2	156,65		4,05	7,5	29,40	1,3	89,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-256		45	4,50	5,2	156,65		4,50	7,5	29,40	1,3	89,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-257		45	4,50	5,2	156,45		4,95	7,6	29,75	1,3	89,67	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-258		45	4,50	5,2	156,45		5,40	7,6	29,75	1,3	89,67	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-259		45	4,50	5,2	145,80		3,60	7,4	41,50	1,3	87,83	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-260		45	4,50	5,2	145,50		4,05	7,5	42,00	1,3	87,50	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-261		45	4,50	5,2	145,50		4,50	7,5	42,00	1,3	87,50	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-262		45	4,50	5,2	145,20		4,95	7,6	42,45	1,3	87,25	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-263		45	4,50	5,2	145,20		5,40	7,6	42,45	1,3	87,25	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-264		45	4,50	5,2	197,50		3,60	7,4	14,10	1,3	47,33	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-265		45	4,50	5,2	197,35		4,05	7,5	14,25	1,3	47,33	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-266		45	4,50	5,2	197,35		4,50	7,5	14,25	1,3	47,33	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-267		45	4,50	5,2	197,20		4,95	7,6	14,45	1,3	47,25	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-268		45	4,50	5,2	197,20		5,40	7,6	14,45	1,3	47,25	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-269		45	4,50	5,2	179,80		3,60	7,4	33,30	1,3	44,83	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-270	45	4,50	5,2	179,55	4,05	7,5	33,70	1,3	44,58	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 12

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя

(1) Первые частицы оксида металла

(2) Вторые частицы оксида металла

(3) Связующий материал (фенольная смола)

(4) Частицы кремнийорганической смолы

(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)

Вид

Доля покровного слоя [%]

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Вид

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Плотность

Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)

Плотность

Количество [части]

Вид

Плотность

Количество [части]

CP-271

Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова,

45

4,50

5,2

179,55

Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр

4,50

7,5

33,70

1,3

44,58

1,3

40,00

Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)

4,2

30,00

	(средний диаметр частиц: 230 нм)					частиц: 20 нм)
CP-272		45	4,50	5,2	179,30		4,95	7,6	34,10	1,3	44,33	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-273		45	4,50	5,2	179,30		5,40	7,6	34,10	1,3	44,33	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-274		45	4,50	5,2	166,75		3,60	7,4	47,50	1,3	42,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-275		45	4,50	5,2	166,40		4,05	7,5	48,00	1,3	42,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-276		45	4,50	5,2	166,40		4,50	7,5	48,00	1,3	42,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-277		45	4,50	5,2	166,05		4,95	7,6	48,55	1,3	42,33	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-278		45	4,50	5,2	166,05		5,40	7,6	48,55	1,3	42,33	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-279		45	4,50	5,2	156,65		4,50	7,5	29,40	1,3	89,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-280	45	4,50	5,2	160,55		4,50	7,5	25,50	1,3	89,92	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 13

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя

(1) Первые частицы оксида металла

(2) Вторые частицы оксида металла

(3) Связующий материал (фенольная смола)

(4) Частицы кремнийорганической смолы

(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)

Вид

Доля покровного слоя [%]

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Вид

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Плотность

Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)

Плотность

Количество [части]

Вид

Плотность

Количество [части]

CP-C42

Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:

45

4,50

5,2

115,85

Нет

1,3

265,25

1,3

5,00

Нет

	230 нм)
CP-C43		45	4,50	5,2	176,85		1,3	163,58	1,3	5,00
CP-C44		45	4,50	5,2	214,46		1,3	100,90	1,3	5,00
CP-C45		45	4,50	5,2	114,50	Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,5	1,65	1,3	264,75	1,3	5,00
CP-C46		45	4,50	5,2	174,62		4,50	7,5	2,51	1,3	163,12	1,3	5,00
CP-C47		45	4,50	5,2	211,63		4,50	7,5	3,05	1,3	100,53	1,3	5,00
CP-C48		45	4,50	5,2	85,50		4,50	7,5	37,00	1,3	254,17	1,3	5,00
CP-C49		45	4,50	5,2	127,80		4,50	7,5	55,30	1,3	153,17	1,3	5,00
CP-C50		45	4,50	5,2	153,01		4,50	7,5	66,21	1,3	92,97	1,3	5,00
CP-C51	Нет	4,50	7,5	141,25	1,3		222,92	1,3	5,00
CP-C52		4,50	7,5	199,36	1,3		126,07	1,3	5,00
CP-C53		4,50	7,5	231,05	1,3		73,25	1,3	5,00
CP-C54	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	84,25		4,50	7,5	2,43	1,3	313,87	1,3	5,00
CP-C55		45	4,50	5,2	81,50		4,50	7,5	5,88	1,3	312,70	1,3	5,00
CP-C56		45	4,50	5,2	75,05		4,50	7,5	14,07	1,3	309,80	1,3	5,00
CP-C57		45	4,50	5,2	70,20		4,50	7,5	20,25	1,3	307,58	1,3	5,00
CP-C58		45	4,50	5,2	67,10		4,50	7,5	24,19	1,3	306,18	1,3	5,00
CP-C59		45	4,50	5,2	218,08		4,50	7,5	6,30	1,3	84,37	1,3	5,00
CP-C60		45	4,50	5,2	209,80		4,50	7,5	15,12	1,3	83,47	1,3	5,00
CP-C61		45	4,50	5,2	190,47		4,50	7,5	35,72	1,3	81,35	1,3	5,00
CP-C62		45	4,50	5,2	176,27		4,50	7,5	50,85	1,3	79,80	1,3	5,00
CP-C63		45	4,50	5,2	167,35	4,50	7,5	60,35	1,3	78,83	1,3	5,00

Таблица 14

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя

(1) Первые частицы оксида металла

(2) Вторые частицы оксида металла

(3) Связующий материал (фенольная смола)

(4) Частицы кремнийорганической смолы

(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)

Вид

Доля покровного слоя [%]

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Вид

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Плотность

Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)

Плотность

Количество [части]

Вид

Плотность

Количество [части]

CP-C64

Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)

45

-

5,1

150,26

Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)

4,50

7,5

28,73

1,3

160,02

1,3

5,00

Нет

CP-C65	Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	-	5,1	150,26		4,50	7,5	28,73	1,3	160,02	1,3	5,00
CP-C66	Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	151,61		4,50	7,5	28,43	1,3	158,27	1,3	5,00

СР-С67	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	153,50	Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)	-	6,6	25,32	1,3	160,30	1,3	5,00
СР-С68	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	152,45	Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,1	27,05	1,3	159,17	1,3	5,00
СР-С69	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным	45	4,50	5,2	153,50	Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр	4,50	6,6	25,32	1,3	160,30	1,3	5,00

	оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)					частиц: 20 нм)
СР-С70	Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	148,90	Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,5	29,03	1,3	161,78	1,3	5,00

СР-С71

Частицы сульфата бария, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)

45

4,50

5,2

151,61

4,50

7,5

28,43

1,3

158,27

1,3

5,00

Таблица 15
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорга-нической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плот-ность	Количество [части]	Плотность	Коли-чество [части] (содер-жание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-281	Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	110,70	Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	3,60	6,7	2,97	1,3	268,88	1,3	5,00	Нет
CP-282		45	4,50	5,0	110,70		4,05	6,7	2,97	1,3	268,88	1,3	5,00
CP-283		45	4,50	5,0	110,70		4,50	6,6	2,93	1,3	268,95	1,3	5,00
CP-284		45	4,50	5,0	110,70		4,95	6,6	2,93	1,3	268,95	1,3	5,00
CP-285		45	4,50	5,0	110,70		5,40	6,6	2,93	1,3	268,95	1,3	5,00
CP-286		45	4,50	5,0	107,15		4,50	6,6	7,08	1,3	267,95	1,3	5,00
CP-287		45	4,50	5,0	98,70		3,60	6,7	17,20	1,3	265,17	1,3	5,00
CP-288		45	4,50	5,0	98,70		4,05	6,7	17,20	1,3	265,17	1,3	5,00
CP-289		45	4,50	5,0	98,70		4,50	6,6	16,95	1,3	265,58	1,3	5,00
CP-290		45	4,50	5,0	98,70		4,95	6,6	16,95	1,3	265,58	1,3	5,00
CP-291		45	4,50	5,0	98,70		5,40	6,6	16,95	1,3	265,58	1,3	5,00
CP-292		45	4,50	5,0	92,40		4,50	6,6	24,40	1,3	263,67	1,3	5,00
CP-293		45	4,50	5,0	88,20		3,60	6,7	29,55	1,3	262,08	1,3	5,00
CP-294		45	4,50	5,0	88,20		4,05	6,7	29,55	1,3	262,08	1,3	5,00
CP-295		45	4,50	5,0	88,30		4,50	6,6	29,15	1,3	262,58	1,3	5,00
CP-296		45	4,50	5,0	88,30		4,95	6,6	29,15	1,3	262,58	1,3	5,00
CP-297	45	4,50	5,0	88,30	5,40	6,6	29,15	1,3	262,58	1,3	5,00

CP-298		45	4,50	5,0	134,20		4,50	6,6	3,55	1,3	228,75	1,3	5,00
CP-299		45	4,50	5,0	129,70		3,60	6,7	8,70	1,3	227,67	1,3	5,00
CP-300		45	4,50	5,0	129,70		4,05	6,7	8,70	1,3	227,67	1,3	5,00
CP-301		45	4,50	5,0	129,73		4,50	6,6	8,57	1,3	227,83	1,3	5,00
CP-302		45	4,50	5,0	129,73		4,95	6,6	8,57	1,3	227,83	1,3	5,00
CP-303		45	4,50	5,0	129,73		5,40	6,6	8,57	1,3	227,83	1,3	5,00
CP-304		45	4,50	5,0	119,20		3,60	6,7	20,80	1,3	225,00	1,3	5,00
CP-305		45	4,50	5,0	119,20		4,05	6,7	20,80	1,3	225,00	1,3	5,00
СР-306		45	4,50	5,0	119,30		4,50	6,6	20,50	1,3	225,33	1,3	5,00
СР-307		45	4,50	5,0	119,30		4,95	6,6	20,50	1,3	225,33	1,3	5,00
СР-308		45	4,50	5,0	119,30		5,40	6,6	20,50	1,3	225,33	1,3	5,00
СР-309		45	4,50	5,0	111,40		3,60	6,7	29,85	1,3	222,92	1,3	5,00
СР-310		45	4,50	5,0	111,40		4,05	6,7	29,85	1,3	222,92	1,3	5,00
СР-311		45	4,50	5,0	111,45		4,50	6,6	29,45	1,3	223,50	1,3	5,00
СР-312		45	4,50	5,0	111,45		4,95	6,6	29,45	1,3	223,50	1,3	5,00
СР-313		45	4,50	5,0	111,45		5,40	6,6	29,45	1,3	223,50	1,3	5,00
СР-314		45	4,50	5,0	106,50		4,50	6,6	35,15	1,3	222,25	1,3	5,00
СР-315		45	4,50	5,0	170,20		3,60	6,7	4,57	1,3	167,05	1,3	5,00
СР-316		45	4,50	5,0	170,20		4,05	6,7	4,57	1,3	167,05	1,3	5,00
СР-317		45	4,50	5,0	170,20		4,50	6,6	4,50	1,3	167,17	1,3	5,00
СР-318		45	4,50	5,0	170,20		4,95	6,6	4,50	1,3	167,17	1,3	5,00
СР-319		45	4,50	5,0	170,20		5,40	6,6	4,50	1,3	167,17	1,3	5,00
СР-320	45	4,50	5,0	164,30	3,60	6,7	11,05	1,3	166,08	1,3	5,00

Таблица 16
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-321	Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	164,30	Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,05	6,7	11,05	1,3	166,08	1,3	5,00	Нет
CP-322		45	4,50	5,0	164,45		4,50	6,6	10,86	1,3	166,15	1,3	5,00
CP-323		45	4,50	5,0	164,45		4,95	6,6	10,86	1,3	166,15	1,3	5,00
CP-324		45	4,50	5,0	164,45		5,40	6,6	10,86	1,3	166,15	1,3	5,00
CP-325		45	4,50	5,0	150,60		3,60	6,7	26,25	1,3	163,58	1,3	5,00
CP-326		45	4,50	5,0	150,60		4,05	6,7	26,25	1,3	163,58	1,3	5,00
CP-327		45	4,50	5,0	150,80		4,50	6,6	25,90	1,3	163,83	1,3	5,00
CP-328		45	4,50	5,0	150,80		4,95	6,6	25,90	1,3	163,83	1,3	5,00
CP-329		45	4,50	5,0	150,80		5,40	6,6	25,90	1,3	163,83	1,3	5,00
CP-330	45	4,50	5,0	140,30	3,60	6,7	37,60	1,3	161,83	1,3	5,00

CP-331		45	4,50	5,0	140,30		4,05	6,7	37,60	1,3	161,83	1,3	5,00
CP-332		45	4,50	5,0	140,55		4,50	6,6	37,15	1,3	162,17	1,3	5,00
CP-333		45	4,50	5,0	140,55		4,95	6,6	37,15	1,3	162,17	1,3	5,00
CP-334		45	4,50	5,0	140,55		5,40	6,6	37,15	1,3	162,17	1,3	5,00
CP-335		45	4,50	5,0	133,80		3,60	6,7	44,82	1,3	160,63	1,3	5,00
CP-336		45	4,50	5,0	133,80		4,05	6,7	44,82	1,3	160,63	1,3	5,00
CP-337		45	4,50	5,0	134,10		4,50	6,6	44,25	1,3	161,08	1,3	5,00
CP-338		45	4,50	5,0	134,10		4,95	6,6	44,25	1,3	161,08	1,3	5,00
CP-339		45	4,50	5,0	134,10		5,40	6,6	44,25	1,3	161,08	1,3	5,00
CP-340		45	4,50	5,0	196,60		4,50	6,6	5,19	1,3	122,02	1,3	5,00
CP-341		45	4,50	5,0	189,70		3,60	6,7	12,74	1,3	120,93	1,3	5,00
CP-342		45	4,50	5,0	189,70		4,05	6,7	12,74	1,3	120,93	1,3	5,00
CP-343		45	4,50	5,0	189,75		4,50	6,6	12,55	1,3	121,17	1,3	5,00
CP-344		45	4,50	5,0	189,75		4,95	6,6	12,55	1,3	121,17	1,3	5,00
CP-345		45	4,50	5,0	189,75		5,40	6,6	12,55	1,3	121,17	1,3	5,00
CP-346		45	4,50	5,0	173,40		3,60	6,7	30,20	1,3	119,00	1,3	5,00
CP-347		45	4,50	5,0	173,40		4,05	6,7	30,20	1,3	119,00	1,3	5,00
CP-348		45	4,50	5,0	173,70		4,50	6,6	29,80	1,3	119,17	1,3	5,00
CP-349		45	4,50	5,0	173,70		4,95	6,6	29,80	1,3	119,17	1,3	5,00
СР-350		45	4,50	5,0	173,70		5,40	6,6	29,80	1,3	119,17	1,3	5,00
СР-351		45	4,50	5,0	161,30		3,60	6,7	43,25	1,3	117,42	1,3	5,00
СР-352		45	4,50	5,0	161,30		4,05	6,7	43,25	1,3	117,42	1,3	5,00
СР-353		45	4,50	5,0	161,70		4,50	6,6	42,70	1,3	117,67	1,3	5,00
СР-354		45	4,50	5,0	161,70		4,95	6,6	42,70	1,3	117,67	1,3	5,00
СР-355		45	4,50	5,0	161,70		5,40	6,6	42,70	1,3	117,67	1,3	5,00
СР-356		45	4,50	5,0	154,10		4,50	6,6	50,85	1,3	116,75	1,3	5,00
СР-357		45	4,50	5,0	207,30		3,60	6,7	5,56	1,3	103,57	1,3	5,00
СР-358		45	4,50	5,0	207,30		4,05	6,7	5,56	1,3	103,57	1,3	5,00
СР-359		45	4,50	5,0	207,35		4,50	6,6	5,48	1,3	103,62	1,3	5,00
СР-360	45	4,50	5,0	207,35	4,95	6,6	5,48	1,3	103,62	1,3	5,00

Таблица 17
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-361	Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	207,35	Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	5,40	6,6	5,48	1,3	103,62	1,3	5,00	Нет
CP-362		45	4,50	5,0	200,07		4,50	6,6	13,21	1,3	102,87	1,3	5,00
CP-363		45	4,50	5,0	182,62		3,60	6,7	31,82	1,3	100,93	1,3	5,00
CP-364		45	4,50	5,0	182,62		4,05	6,7	31,82	1,3	100,93	1,3	5,00
CP-365		45	4,50	5,0	182,95		4,50	6,6	31,40	1,3	101,08	1,3	5,00
CP-366		45	4,50	5,0	182,95		4,95	6,6	31,40	1,3	101,08	1,3	5,00
CP-367		45	4,50	5,0	182,95		5,40	6,6	31,40	1,3	101,08	1,3	5,00
CP-368		45	4,50	5,0	170,15		4,50	6,6	44,95	1,3	99,83	1,3	5,00
CP-369		45	4,50	5,0	161,65		3,60	6,7	54,18	1,3	98,62	1,3	5,00
CP-370		45	4,50	5,0	161,65		4,05	6,7	54,18	1,3	98,62	1,3	5,00
CP-371	45	4,50	5,0	162,10	4,50	6,6	53,50	1,3	99,00	1,3	5,00

CP-372		45	4,50	5,0	162,10		4,95	6,6	53,50	1,3	99,00	1,3	5,00
CP-373	45	4,50	5,0	162,10	5,40	6,6	53,50	1,3	99,00	1,3	5,00

Таблица 18

Раствор материала покрытия для формирования электропро-водного слоя

(1) Первые частицы оксида металла

(2) Вторые частицы оксида металла

(3) Связующий материал (фенольная смола)

(4) Частицы кремнийорганической смолы

(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)

Вид

Доля покровного слоя [%]

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Вид

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Плотность

Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)

Плотность

Количество [части]

Вид

Плотность

Количество [части]

CP-374

Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:

45

4,50

5,0

134,00

Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)

3,60

6,7

9,00

1,3

161,67

1,3

40,00

Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)

4,2

30,00

	230 нм)
CP-375		45	4,50	5,0	134,00		4,05	6,7	9,00	1,3	161,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-376		45	4,50	5,0	134,10		4,50	6,6	8,85	1,3	161,75	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-377		45	4,50	5,0	134,10		4,95	6,6	8,85	1,3	161,75	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-378		45	4,50	5,0	134,10		5,40	6,6	8,85	1,3	161,75	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-379		45	4,50	5,0	123,15		3,60	6,7	21,45	1,3	159,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-380		45	4,50	5,0	123,15		4,05	6,7	21,45	1,3	159,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-381		45	4,50	5,0	123,25		4,50	6,6	21,15	1,3	159,33	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-382		45	4,50	5,0	123,25		4,95	6,6	21,15	1,3	159,33	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-383		45	4,50	5,0	123,25		5,40	6,6	21,15	1,3	159,33	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-384		45	4,50	5,0	115,00		3,60	6,7	30,85	1,3	156,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-385		45	4,50	5,0	115,00		4,05	6,7	30,85	1,3	156,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-386		45	4,50	5,0	115,20		4,50	6,6	30,45	1,3	157,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-387		45	4,50	5,0	115,20		4,95	6,6	30,45	1,3	157,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-388		45	4,50	5,0	115,20		5,40	6,6	30,45	1,3	157,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-389		45	4,50	5,0	169,80		3,60	6,7	11,40	1,3	98,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-390		45	4,50	5,0	169,80		4,05	6,7	11,40	1,3	98,00	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-391		45	4,50	5,0	169,85		4,50	6,6	11,25	1,3	98,17	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-392		45	4,50	5,0	169,85		4,95	6,6	11,25	1,3	98,17	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-393		45	4,50	5,0	169,85		5,40	6,6	11,25	1,3	98,17	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-394		45	4,50	5,0	155,60		3,60	6,7	27,10	1,3	95,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-395		45	4,50	5,0	155,60		4,05	6,7	27,10	1,3	95,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-396		45	4,50	5,0	155,75		4,50	6,6	26,75	1,3	95,83	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-397		45	4,50	5,0	155,75		4,95	6,6	26,75	1,3	95,83	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-398		45	4,50	5,0	155,75		5,40	6,6	26,75	1,3	95,83	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-399		45	4,50	5,0	144,95		3,60	6,7	38,85	1,3	93,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-400		45	4,50	5,0	144,95		4,05	6,7	38,85	1,3	93,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-401		45	4,50	5,0	145,20		4,50	6,6	38,35	1,3	94,08	1,3	40,00	4,2	30,00

CP-402		45	4,50	5,0	145,20		4,95	6,6	38,35	1,3	94,08	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-403		45	4,50	5,0	145,20		5,40	6,6	38,35	1,3	94,08	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-404		45	4,50	5,0	195,90		3,60	6,7	13,15	1,3	51,58	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 19
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-405	Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	195,90	Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,05	6,7	13,15	1,3	51,58	1,3	40,00	Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)	4,2	30,00
CP-406		45	4,50	5,0	196,10		4,50	6,6	12,95	1,3	51,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-407	45	4,50	5,0	196,10		4,95	6,6	12,95	1,3	51,58	1,3	40,00	4,2	30,00

CP-408		45	4,50	5,0	196,10		5,40	6,6	12,95	1,3	51,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-409		45	4,50	5,0	179,15		3,60	6,7	31,20	1,3	49,42	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-410		45	4,50	5,0	179,15		4,05	6,7	31,20	1,3	49,42	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-411		45	4,50	5,0	179,45		4,50	6,6	30,80	1,3	49,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-412		45	4,50	5,0	179,45		4,95	6,6	30,80	1,3	49,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-413		45	4,50	5,0	179,45		5,40	6,6	30,80	1,3	49,58	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-414		45	4,50	5,0	166,60		3,60	6,7	44,70	1,3	47,83	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-415		45	4,50	5,0	166,60		4,05	6,7	44,70	1,3	47,83	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-416		45	4,50	5,0	167,05		4,50	6,6	44,10	1,3	48,08	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-417		45	4,50	5,0	167,05		4,95	6,6	44,10	1,3	48,08	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-418		45	4,50	5,0	167,05		5,40	6,6	44,10	1,3	48,08	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-419		45	4,50	5,0	155,75		4,50	6,6	26,75	1,3	95,83	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-420	45	4,50	5,0	159,00		4,50	6,6	23,20	1,3	96,33	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 20
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-C76	Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	113,20	Нет	1,3	269,67	1,3	5,00	Нет
CP-C77		45	4,50	5,0	174,30		1,3	167,83	1,3	5,00
CP-C78		45	4,50	5,0	212,50		1,3	104,17	1,3	5,00
CP-C79		45	4,50	5,0	112,00	Частицы F-легированного оксида олова (средний	4,50	6,6	1,48	1,3	269,20	1,3	5,00

						диаметр частиц: 20 нм)
CP-C80		45	4,50	5,0	172,20		4,50	6,6	2,29	1,3	167,52	1,3	5,00
CP-C81		45	4,50	5,0	209,90		4,50	6,6	2,78	1,3	103,87	1,3	5,00
CP-C82		45	4,50	5,0	84,60		4,50	6,6	33,50	1,3	261,50	1,3	5,00
CP-C83		45	4,50	5,0	128,20		4,50	6,6	50,76	1,3	160,07	1,3	5,00
CP-C84		45	4,50	5,0	154,80		4,50	6,6	61,30	1,3	98,17	1,3	5,00
CP-C85	Нет		4,50	6,6	132,30	1,3	237,83	1,3	5,00
CP-C86			4,50	6,6	191,85	1,3	138,58	1,3	5,00
CP-C87			4,50	6,6	225,67	1,3	82,22	1,3	5,00
CP-C88	Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	82,10		4,50	6,6	2,17	1,3	317,88	1,3	5,00
CP-C89		45	4,50	5,0	79,50		4,50	6,6	5,25	1,3	317,08	1,3	5,00
CP-C90		45	4,50	5,0	73,50		4,50	6,6	12,61	1,3	314,82	1,3	5,00
CP-C91		45	4,50	5,0	68,80		4,50	6,6	18,18	1,3	313,37	1,3	5,00
CP-C92		45	4,50	5,0	65,90		4,50	6,6	21,75	1,3	312,25	1,3	5,00
CP-C93		45	4,50	5,0	216,76		4,50	6,6	5,75	1,3	87,48	1,3	5,00
CP-C94		45	4,50	5,0	209,10		4,50	6,6	13,81	1,3	86,82	1,3	5,00
CP-C95		45	4,50	5,0	191,10		4,50	6,6	32,80	1,3	85,17	1,3	5,00
CP-C96		45	4,50	5,0	177,65		4,50	6,6	46,95	1,3	84,00	1,3	5,00
CP-C97		45	4,50	5,0	169,20		4,50	6,6	55,85	1,3	83,25	1,3	5,00

Таблица 21
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-C98	Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	-	5,1	152,20	Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00	Нет
CP-C99	Частицы	45	-	5,1	152,20		4,50	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00

	сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
CP-C100	Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	153,50		4,50	6,6	25,35	1,3	160,25	1,3	5,00
СР-С101	Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	150,75	Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)	-	6,6	25,90	1,3	163,92	1,3	5,00
CP-C102		45	4,50	5,0	149,72	Частицы оксида индия олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,1	27,63	1,3	162,50	1,3	5,00

CP-C103		45	4,50	5,0	150,76	Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,6	25,87	1,3	163,95	1,3	5,00
CP-C104	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	153,50	Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,6	25,32	1,3	160,30	1,3	5,00
CP-C105	Частицы сульфата бария, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	150,75		4,50	6,6	25,90	1,3	163,92	1,3	5,00

Таблица 44
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-421	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	111,95	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	3,60	7,0	3,07	1,3	266,63	1,3	5,00	Нет
CP-422		45	4,50	5,1	111,95		4,05	7,0	3,07	1,3	266,63	1,3	5,00
CP-423		45	4,50	5,1	111,95		4,50	7,0	3,07	1,3	266,63	1,3	5,00
CP-424		45	4,50	5,1	111,95		4,95	7,0	3,07	1,3	266,63	1,3	5,00
CP-425		45	4,50	5,1	111,95		5,40	7,0	3,07	1,3	266,63	1,3	5,00
CP-426		45	4,50	5,1	108,30		4,50	7,0	7,43	1,3	265,45	1,3	5,00
CP-427		45	4,50	5,1	99,60		3,60	7,0	17,77	1,3	262,72	1,3	5,00
CP-428		45	4,50	5,1	99,60		4,05	7,0	17,77	1,3	262,72	1,3	5,00
CP-429		45	4,50	5,1	99,60		4,50	7,0	17,77	1,3	262,72	1,3	5,00
CP-430		45	4,50	5,1	99,60		4,95	7,0	17,77	1,3	262,72	1,3	5,00
CP-431	45	4,50	5,1	99,60	5,40	7,0	17,77	1,3	262,72	1,3	5,00

CP-432		45	4,50	5,1	93,10		4,50	7,0	25,56	1,3	260,57	1,3	5,00
CP-433		45	4,50	5,1	88,92		3,60	7,0	30,51	1,3	259,28	1,3	5,00
CP-434		45	4,50	5,1	88,92		4,05	7,0	30,51	1,3	259,28	1,3	5,00
CP-435		45	4,50	5,1	88,92		4,50	7,0	30,51	1,3	259,28	1,3	5,00
CP-436		45	4,50	5,1	88,92		4,95	7,0	30,51	1,3	259,28	1,3	5,00
CP-437		45	4,50	5,1	88,92		5,40	7,0	30,51	1,3	259,28	1,3	5,00
CP-438		45	4,50	5,1	135,45		4,50	7,0	3,72	1,3	259,28	1,3	5,00
CP-439		45	4,50	5,1	130,90		3,60	7,0	8,98	1,3	225,20	1,3	5,00
CP-440		45	4,50	5,1	130,90		4,05	7,0	8,98	1,3	225,20	1,3	5,00
CP-441		45	4,50	5,1	130,90		4,50	7,0	8,98	1,3	225,20	1,3	5,00
CP-442		45	4,50	5,1	130,90		4,95	7,0	8,98	1,3	225,20	1,3	5,00
CP-443		45	4,50	5,1	130,90		5,40	7,0	8,98	1,3	225,20	1,3	5,00
CP-444		45	4,50	5,1	120,15		3,60	7,0	21,44	1,3	222,35	1,3	5,00
CP-445		45	4,50	5,1	120,15		4,05	7,0	21,44	1,3	222,35	1,3	5,00
CP-446		45	4,50	5,1	120,15		4,50	7,0	21,44	1,3	222,35	1,3	5,00
СР-447		45	4,50	5,1	120,15		4,95	7,0	21,44	1,3	222,35	1,3	5,00
СР-448		45	4,50	5,1	120,15		5,40	7,0	21,44	1,3	222,35	1,3	5,00
СР-449		45	4,50	5,1	112,08		3,60	7,0	30,77	1,3	220,25	1,3	5,00
СР-450		45	4,50	5,1	112,08		4,05	7,0	30,77	1,3	220,25	1,3	5,00
СР-451		45	4,50	5,1	112,08		4,50	7,0	30,77	1,3	220,25	1,3	5,00
СР-452		45	4,50	5,1	112,08		4,95	7,0	30,77	1,3	220,25	1,3	5,00
СР-453		45	4,50	5,1	112,08		5,40	7,0	30,77	1,3	220,25	1,3	5,00
СР-454		45	4,50	5,1	106,95		4,50	7,0	36,70	1,3	218,92	1,3	5,00
СР-455		45	4,50	5,1	171,35		3,60	7,0	4,70	1,3	164,92	1,3	5,00
СР-456		45	4,50	5,1	171,35		4,05	7,0	4,70	1,3	164,92	1,3	5,00
СР-457		45	4,50	5,1	171,35		4,50	7,0	4,70	1,3	164,92	1,3	5,00
СР-458		45	4,50	5,1	171,35		4,95	7,0	4,70	1,3	164,92	1,3	5,00
СР-459		45	4,50	5,1	171,35		5,40	7,0	4,70	1,3	164,92	1,3	5,00
СР-460	45	4,50	5,1	165,37	3,60	7,0	11,35	1,3	163,80	1,3	5,00

Таблица 45
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-461	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	165,37	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,05	7,0	11,35	1,3	163,80	1,3	5,00	Нет
CP-462		45	4,50	5,1	165,37		4,50	7,0	11,35	1,3	163,80	1,3	5,00
CP-463		45	4,50	5,1	165,37		4,95	7,0	11,35	1,3	163,80	1,3	5,00
CP-464		45	4,50	5,1	165,37		5,40	7,0	11,35	1,3	163,80	1,3	5,00
CP-465		45	4,50	5,1	151,30		3,60	7,0	27,00	1,3	161,17	1,3	5,00
CP-466		45	4,50	5,1	151,30		4,05	7,0	27,00	1,3	161,17	1,3	5,00
CP-467		45	4,50	5,1	151,30		4,50	7,0	27,00	1,3	161,17	1,3	5,00
CP-468		45	4,50	5,1	151,30		4,95	7,0	27,00	1,3	161,17	1,3	5,00
CP-469		45	4,50	5,1	151,30		5,40	7,0	27,00	1,3	161,17	1,3	5,00
CP-470		45	4,50	5,1	140,84		3,60	7,0	38,66	1,3	159,17	1,3	5,00
CP-471	45	4,50	5,1	140,84	4,05	7,0	38,66	1,3	159,17	1,3	5,00

CP-472		45	4,50	5,1	140,84		4,50	7,0	38,66	1,3	159,17	1,3	5,00
CP-473		45	4,50	5,1	140,84		4,95	7,0	38,66	1,3	159,17	1,3	5,00
CP-474		45	4,50	5,1	140,84		5,40	7,0	38,66	1,3	159,17	1,3	5,00
CP-475		45	4,50	5,1	134,20		3,60	7,0	46,05	1,3	157,92	1,3	5,00
CP-476		45	4,50	5,1	134,20		4,05	7,0	46,05	1,3	157,92	1,3	5,00
CP-477		45	4,50	5,1	134,20		4,50	7,0	46,05	1,3	157,92	1,3	5,00
CP-478		45	4,50	5,1	134,20		4,95	7,0	46,05	1,3	157,92	1,3	5,00
CP-479		45	4,50	5,1	134,20		5,40	7,0	46,05	1,3	157,92	1,3	5,00
CP-480		45	4,50	5,1	197,53		4,50	7,0	5,43	1,3	120,07	1,3	5,00
CP-481		45	4,50	5,1	190,45		3,60	7,0	13,08	1,3	119,12	1,3	5,00
CP-482		45	4,50	5,1	190,45		4,05	7,0	13,08	1,3	119,12	1,3	5,00
CP-483		45	4,50	5,1	190,45		4,50	7,0	13,08	1,3	119,12	1,3	5,00
CP-484		45	4,50	5,1	190,45		4,95	7,0	13,08	1,3	119,12	1,3	5,00
CP-485		45	4,50	5,1	190,45		5,40	7,0	13,08	1,3	119,12	1,3	5,00
CP-486		45	4,50	5,1	173,86		3,60	7,0	31,02	1,3	116,87	1,3	5,00
СР-487		45	4,50	5,1	173,86		4,05	7,0	31,02	1,3	116,87	1,3	5,00
СР-488		45	4,50	5,1	173,86		4,50	7,0	31,02	1,3	116,87	1,3	5,00
СР-489		45	4,50	5,1	173,86		4,95	7,0	31,02	1,3	116,87	1,3	5,00
СР-490		45	4,50	5,1	173,86		5,40	7,0	31,02	1,3	116,87	1,3	5,00
СР-491		45	4,50	5,1	161,54		3,60	7,0	44,35	1,3	115,18	1,3	5,00
СР-492		45	4,50	5,1	161,54		4,05	7,0	44,35	1,3	115,18	1,3	5,00
СР-493		45	4,50	5,1	161,54		4,50	7,0	44,35	1,3	115,18	1,3	5,00
СР-494		45	4,50	5,1	161,54		4,95	7,0	44,35	1,3	115,18	1,3	5,00
СР-495		45	4,50	5,1	161,54		5,40	7,0	44,35	1,3	115,18	1,3	5,00
СР-496		45	4,50	5,1	153,76		4,50	7,0	52,76	1,3	114,13	1,3	5,00
СР-497		45	4,50	5,1	208,14		3,60	7,0	5,72	1,3	101,90	1,3	5,00
СР-498		45	4,50	5,1	208,14		4,05	7,0	5,72	1,3	101,90	1,3	5,00
СР-499		45	4,50	5,1	208,14		4,50	7,0	5,72	1,3	101,90	1,3	5,00
СР-500	45	4,50	5,1	208,14	4,95	7,0	5,72	1,3	101,90	1,3	5,00

Таблица 46
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-501	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	208,14	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	5,40	7,0	5,72	1,3	101,90	1,3	5,00	Нет
CP-502		45	4,50	5,1	200,62		4,50	7,0	13,76	1,3	101,03	1,3	5,00
CP-503		45	4,50	5,1	182,95		3,60	7,0	32,64	1,3	99,02	1,3	5,00
CP-504		45	4,50	5,1	182,95		4,05	7,0	32,64	1,3	99,02	1,3	5,00
CP-505		45	4,50	5,1	182,95		4,50	7,0	32,64	1,3	99,02	1,3	5,00
CP-506		45	4,50	5,1	182,95		4,95	7,0	32,64	1,3	99,02	1,3	5,00
CP-507		45	4,50	5,1	182,95		5,40	7,0	32,64	1,3	99,02	1,3	5,00
CP-508		45	4,50	5,1	169,87		4,50	7,0	46,62	1,3	97,52	1,3	5,00
CP-509		45	4,50	5,1	161,62		3,60	7,0	55,45	1,3	96,55	1,3	5,00
CP-510		45	4,50	5,1	161,62		4,05	7,0	55,45	1,3	96,55	1,3	5,00
CP-511	45	4,50	5,1	161,62	4,50	7,0	55,45	1,3	96,55	1,3	5,00

CP-512		45	4,50	5,1	161,62		4,95	7,0	55,45	1,3	96,55	1,3	5,00
CP-513		45	4,50	5,1	161,62		5,40	7,0	55,45	1,3	96,55	1,3	5,00
CP-514		45	4,50	5,1	135,25		3,60	7,0	9,28	1,3	159,12	1,3	40,00	Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)	4,2	30,00
CP-515		45	4,50	5,1	135,25		4,05	7,0	9,28	1,3	159,12	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-516		45	4,50	5,1	135,25		4,50	7,0	9,28	1,3	159,12	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-517		45	4,50	5,1	135,25		4,95	7,0	9,28	1,3	159,12	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-518		45	4,50	5,1	135,25		5,40	7,0	9,28	1,3	159,12	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-519		45	4,50	5,1	124,13		3,60	7,0	22,15	1,3	156,20	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-520		45	4,50	5,1	124,13		4,05	7,0	22,15	1,3	156,20	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-521		45	4,50	5,1	124,13		4,50	7,0	22,15	1,3	156,20	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-522		45	4,50	5,1	124,13		4,95	7,0	22,15	1,3	156,20	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-523		45	4,50	5,1	124,13		5,40	7,0	22,15	1,3	156,20	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-524		45	4,50	5,1	115,80		3,60	7,0	31,79	1,3	154,02	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-525		45	4,50	5,1	115,80		4,05	7,0	31,79	1,3	154,02	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-526		45	4,50	5,1	115,80		4,50	7,0	31,79	1,3	154,02	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-527		45	4,50	5,1	115,80		4,95	7,0	31,79	1,3	154,02	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-528		45	4,50	5,1	115,80		5,40	7,0	31,79	1,3	154,02	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-529		45	4,50	5,1	170,85		3,60	7,0	11,72	1,3	95,72	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-530		45	4,50	5,1	170,85		4,05	7,0	11,72	1,3	95,72	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-531		45	4,50	5,1	170,85		4,50	7,0	11,72	1,3	95,72	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-532		45	4,50	5,1	170,85		4,95	7,0	11,72	1,3	95,72	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-533		45	4,50	5,1	170,85		5,40	7,0	11,72	1,3	95,72	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-534		45	4,50	5,1	156,32		3,60	7,0	27,90	1,3	92,97	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-535		45	4,50	5,1	156,32		4,05	7,0	27,90	1,3	92,97	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-536		45	4,50	5,1	156,32		4,50	7,0	27,90	1,3	92,97	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-537		45	4,50	5,1	156,32		4,95	7,0	27,90	1,3	92,97	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-538		45	4,50	5,1	156,32		5,40	7,0	27,90	1,3	92,97	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-539		45	4,50	5,1	145,50		3,60	7,0	39,95	1,3	90,92	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-540	45	4,50	5,1	145,50	4,05	7,0	39,95	1,3	90,92	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 47
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-541	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	145,50	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,0	39,95	1,3	90,92	1,3	40,00	Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)	4,2	30,00
CP-542	45	4,50	5,1	145,50		4,95	7,0	39,95	1,3	90,92	1,3	40,00	4,2	30,00

CP-543		45	4,50	5,1	145,50		5,40	7,0	39,95	1,3	90,92	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-544		45	4,50	5,1	196,78		3,60	7,0	13,50	1,3	49,53	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-545		45	4,50	5,1	196,78		4,05	7,0	13,50	1,3	49,53	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-546		45	4,50	5,1	196,78		4,50	7,0	13,50	1,3	49,53	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-547		45	4,50	5,1	196,78		4,95	7,0	13,50	1,3	49,53	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-548		45	4,50	5,1	196,78		5,40	7,0	13,50	1,3	49,53	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-549		45	4,50	5,1	179,62		3,60	7,0	32,05	1,3	47,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-550		45	4,50	5,1	179,62		4,05	7,0	32,05	1,3	47,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-551		45	4,50	5,1	179,62		4,50	7,0	32,05	1,3	47,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-552		45	4,50	5,1	179,62		4,95	7,0	32,05	1,3	47,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-553		45	4,50	5,1	179,62		5,40	7,0	32,05	1,3	47,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-554		45	4,50	5,1	166,90		3,60	7,0	45,82	1,3	45,47	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-555		45	4,50	5,1	166,90		4,05	7,0	45,82	1,3	45,47	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-556		45	4,50	5,1	166,90		4,50	7,0	45,82	1,3	45,47	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-557		45	4,50	5,1	166,90		4,95	7,0	45,82	1,3	45,47	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-558		45	4,50	5,1	166,90		5,40	7,0	45,82	1,3	45,47	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-559		45	4,50	5,1	156,32		4,50	7,0	27,90	1,3	92,97	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-560	45	4,50	5,1	159,70		4,50	7,0	24,15	1,3	93,58	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 48
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-C107	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	114,55	Нет	1,3	267,42	1,3	5,00	Нет
CP-C108		45	4,50	5,1	175,58		1,3	165,70	1,3	5,00
CP-C109		45	4,50	5,1	213,48		1,3	102,53	1,3	5,00
CP-C110		45	4,50	5,1	113,25	Частицы Nb-легированного	4,50	7,0	1,55	1,3	267,00	1,3	5,00

						оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
CP-C111		45	4,50	5,1	173,45		4,50	7,0	2,37	1,3	165,30	1,3	5,00
CP-C112		45	4,50	5,1	210,77		4,50	7,0	2,90	1,3	102,22	1,3	5,00
CP-C113		45	4,50	5,1	85,10		4,50	7,0	35,04	1,3	258,10	1,3	5,00
CP-C114		45	4,50	5,1	128,15		4,50	7,0	52,76	1,3	156,82	1,3	5,00
CP-C115		45	4,50	5,1	154,12		4,50	7,0	63,46	1,3	95,70	1,3	5,00
CP-C116	Нет		4,50	7,0	136,40	1,3	231,00	1,3	5,00
CP-C117			4,50	7,0	195,35	1,3	132,75	1,3	5,00
CP-C118			4,50	7,0	228,20	1,3	78,00	1,3	5,00
CP-C119	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	83,15		4,50	7,0	2,28	1,3	315,95	1,3	5,00
CP-C120		45	4,50	5,1	80,50		4,50	7,0	5,53	1,3	314,95	1,3	5,00
CP-C121		45	4,50	5,1	74,24		4,50	7,0	13,25	1,3	312,52	1,3	5,00
CP-C122		45	4,50	5,1	69,55		4,50	7,0	19,09	1,3	310,60	1,3	5,00
CP-C123		45	4,50	5,1	66,50		4,50	7,0	22,82	1,3	309,47	1,3	5,00
CP-C124		45	4,50	5,1	217,47		4,50	7,0	5,98	1,3	85,92	1,3	5,00
CP-C125		45	4,50	5,1	209,55		4,50	7,0	14,37	1,3	85,13	1,3	5,00
CP-C126		45	4,50	5,1	190,95		4,50	7,0	34,06	1,3	83,32	1,3	5,00
CP-C127		45	4,50	5,1	177,18		4,50	7,0	48,63	1,3	81,98	1,3	5,00
CP-C128		45	4,50	5,1	168,49		4,50	7,0	57,82	1,3	81,15	1,3	5,00

Таблица 49
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-561	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	113,20	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	3,60	7,3	3,18	1,3	264,37	1,3	5,00	Нет
CP-562		45	4,50	5,2	113,20		4,05	7,3	3,18	1,3	264,37	1,3	5,00
CP-563		45	4,50	5,2	113,20		4,50	7,4	3,22	1,3	264,30	1,3	5,00
CP-564		45	4,50	5,2	113,20		4,95	7,4	3,22	1,3	264,30	1,3	5,00
CP-565		45	4,50	5,2	113,20		5,40	7,5	3,26	1,3	264,23	1,3	5,00
CP-566		45	4,50	5,2	109,45		4,50	7,4	7,79	1,3	262,93	1,3	5,00
CP-567		45	4,50	5,2	100,60		3,60	7,3	18,36	1,3	260,07	1,3	5,00
CP-568		45	4,50	5,2	100,60		4,05	7,3	18,36	1,3	260,07	1,3	5,00
CP-569		45	4,50	5,2	100,50		4,50	7,4	18,59	1,3	259,85	1,3	5,00
CP-570		45	4,50	5,2	100,50		4,95	7,4	18,59	1,3	259,85	1,3	5,00
CP-571		45	4,50	5,2	100,43		5,40	7,5	18,83	1,3	259,57	1,3	5,00
CP-572	45	4,50	5,2	93,80	4,50	7,4	26,70	1,3	257,50	1,3	5,00

CP-573		45	4,50	5,2	89,70		3,60	7,3	31,48	1,3	256,37	1,3	5,00
CP-574		45	4,50	5,2	89,70		4,05	7,3	31,48	1,3	256,37	1,3	5,00
CP-575		45	4,50	5,2	89,57		4,50	7,4	31,87	1,3	255,93	1,3	5,00
CP-576		45	4,50	5,2	89,57		4,95	7,4	31,87	1,3	255,93	1,3	5,00
CP-577		45	4,50	5,2	89,42		5,40	7,5	32,24	1,3	255,57	1,3	5,00
CP-578		45	4,50	5,2	136,70		4,50	7,4	3,90	1,3	224,00	1,3	5,00
CP-579		45	4,50	5,2	132,05		3,60	7,3	9,27	1,3	222,80	1,3	5,00
CP-580		45	4,50	5,2	132,05		4,05	7,3	9,27	1,3	222,80	1,3	5,00
CP-581		45	4,50	5,2	132,00		4,50	7,4	9,40	1,3	222,67	1,3	5,00
CP-582		45	4,50	5,2	132,00		4,95	7,4	9,40	1,3	222,67	1,3	5,00
CP-583		45	4,50	5,2	131,95		5,40	7,5	9,52	1,3	222,55	1,3	5,00
CP-584		45	4,50	5,2	121,10		3,60	7,3	22,10	1,3	219,67	1,3	5,00
CP-585		45	4,50	5,2	121,10		4,05	7,3	22,10	1,3	219,67	1,3	5,00
CP-586		45	4,50	5,2	120,95		4,50	7,4	22,38	1,3	219,45	1,3	5,00
СР-587		45	4,50	5,2	120,95		4,95	7,4	22,38	1,3	219,45	1,3	5,00
СР-588		45	4,50	5,2	120,82		5,40	7,5	22,66	1,3	219,20	1,3	5,00
СР-589		45	4,50	5,2	112,88		3,60	7,3	31,70	1,3	217,37	1,3	5,00
СР-590		45	4,50	5,2	112,88		4,05	7,3	31,70	1,3	217,37	1,3	5,00
СР-591		45	4,50	5,2	112,70	4,50	7,4	32,08	1,3	217,03	1,3	5,00
СР-592		45	4,50	5,2	112,70		4,95	7,4	32,08	1,3	217,03	1,3	5,00
СР-593		45	4,50	5,2	112,52		5,40	7,5	32,45	1,3	216,72	1,3	5,00
СР-594		45	4,50	5,2	107,45		4,50	7,4	38,22	1,3	215,55	1,3	5,00
СР-595		45	4,50	5,2	172,50		3,60	7,3	4,85	1,3	162,75	1,3	5,00
СР-596		45	4,50	5,2	172,50		4,05	7,3	4,85	1,3	162,75	1,3	5,00
СР-597		45	4,50	5,2	172,48		4,50	7,4	4,90	1,3	162,70	1,3	5,00
СР-598		45	4,50	5,2	172,48		4,95	7,4	4,90	1,3	162,70	1,3	5,00
СР-599		45	4,50	5,2	172,42		5,40	7,5	4,98	1,3	162,67	1,3	5,00
СР-600	45	4,50	5,2	166,40		3,60	7,3	11,68	1,3	161,53	1,3	5,00

Таблица 50
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-601	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	166,40	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,05	7,3	11,68	1,3	161,53	1,3	5,00	Нет
CP-602		45	4,50	5,2	166,30		4,50	7,4	11,83	1,3	161,45	1,3	5,00
CP-603		45	4,50	5,2	166,30		4,95	7,4	11,83	1,3	161,45	1,3	5,00
CP-604		45	4,50	5,2	166,22		5,40	7,5	11,99	1,3	161,32	1,3	5,00
CP-605		45	4,50	5,2	152,02		3,60	7,3	27,75	1,3	158,72	1,3	5,00
CP-606		45	4,50	5,2	152,02		4,05	7,3	27,75	1,3	158,72	1,3	5,00
CP-607		45	4,50	5,2	151,83		4,50	7,4	28,09	1,3	158,47	1,3	5,00
CP-608		45	4,50	5,2	151,83		4,95	7,4	28,09	1,3	158,47	1,3	5,00
CP-609		45	4,50	5,2	151,61		5,40	7,5	28,43	1,3	158,27	1,3	5,00
CP-610		45	4,50	5,2	141,37		3,60	7,3	39,69	1,3	156,57	1,3	5,00
CP-611	45	4,50	5,2	141,37	4,05	7,3	39,69	1,3	156,57	1,3	5,00

CP-612		45	4,50	5,2	141,10		4,50	7,4	40,15	1,3	156,25	1,3	5,00
CP-613		45	4,50	5,2	141,10		4,95	7,4	40,15	1,3	156,25	1,3	5,00
CP-614		45	4,50	5,2	140,82		5,40	7,5	40,62	1,3	155,93	1,3	5,00
CP-615		45	4,50	5,2	134,60		3,60	7,3	47,24	1,3	155,27	1,3	5,00
CP-616		45	4,50	5,2	134,60		4,05	7,3	47,24	1,3	155,27	1,3	5,00
CP-617		45	4,50	5,2	134,30		4,50	7,4	47,78	1,3	154,87	1,3	5,00
CP-618		45	4,50	5,2	134,30		4,95	7,4	47,78	1,3	154,87	1,3	5,00
CP-619		45	4,50	5,2	133,98		5,40	7,5	48,31	1,3	154,52	1,3	5,00
CP-620		45	4,50	5,2	198,45		4,50	7,4	5,65	1,3	118,17	1,3	5,00
CP-621		45	4,50	5,2	191,27		3,60	7,3	13,43	1,3	117,17	1,3	5,00
CP-622		45	4,50	5,2	191,27		4,05	7,3	13,43	1,3	117,17	1,3	5,00
CP-623		45	4,50	5,2	191,15		4,50	7,4	13,60	1,3	117,08	1,3	5,00
CP-624		45	4,50	5,2	191,15		4,95	7,4	13,60	1,3	117,08	1,3	5,00
CP-625		45	4,50	5,2	191,00		5,40	7,5	13,78	1,3	117,03	1,3	5,00
CP-626		45	4,50	5,2	174,32		3,60	7,3	31,82	1,3	114,77	1,3	5,00
CP-627		45	4,50	5,2	174,32		4,05	7,3	31,82	1,3	114,77	1,3	5,00
CP-628		45	4,50	5,2	174,05		4,50	7,4	32,20	1,3	114,58	1,3	5,00
CP-629		45	4,50	5,2	174,05		4,95	7,4	32,20	1,3	114,58	1,3	5,00
CP-630		45	4,50	5,2	173,78		5,40	7,5	32,58	1,3	114,40	1,3	5,00
СР-631		45	4,50	5,2	161,77		3,60	7,3	45,42	1,3	113,02	1,3	5,00
СР-632		45	4,50	5,2	161,77		4,05	7,3	45,42	1,3	113,02	1,3	5,00
СР-633		45	4,50	5,2	161,42		4,50	7,4	45,95	1,3	112,72	1,3	5,00
СР-634		45	4,50	5,2	161,42		4,95	7,4	45,95	1,3	112,72	1,3	5,00
СР-635		45	4,50	5,2	161,07		5,40	7,5	46,46	1,3	112,45	1,3	5,00
СР-636		45	4,50	5,2	153,46		4,50	7,4	54,60	1,3	111,57	1,3	5,00
СР-637		45	4,50	5,2	209,00		3,60	7,3	5,87	1,3	100,22	1,3	5,00
СР-638		45	4,50	5,2	209,00		4,05	7,3	5,87	1,3	100,22	1,3	5,00
СР-639		45	4,50	5,2	208,92		4,50	7,4	5,96	1,3	100,20	1,3	5,00
СР-640	45	4,50	5,2	208,92	4,95	7,4	5,96	1,3	100,20	1,3	5,00

Таблица 51
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-641	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	208,87	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	5,40	7,5	6,03	1,3	100,17	1,3	5,00	Нет
CP-642		45	4,50	5,2	201,16		4,50	7,4	14,30	1,3	99,23	1,3	5,00
CP-643		45	4,50	5,2	183,27		3,60	7,3	33,45	1,3	97,13	1,3	5,00
CP-644		45	4,50	5,2	183,27		4,05	7,3	33,45	1,3	97,13	1,3	5,00
CP-645		45	4,50	5,2	182,97		4,50	7,4	33,85	1,3	96,97	1,3	5,00
CP-646		45	4,50	5,2	182,97		4,95	7,4	33,85	1,3	96,97	1,3	5,00
CP-647		45	4,50	5,2	182,67		5,40	7,5	34,25	1,3	96,80	1,3	5,00
CP-648		45	4,50	5,2	169,56		4,50	7,4	48,27	1,3	95,28	1,3	5,00
CP-649		45	4,50	5,2	161,58		3,60	7,3	56,71	1,3	94,52	1,3	5,00
CP-650		45	4,50	5,2	161,58		4,05	7,3	56,71	1,3	94,52	1,3	5,00
CP-651		45	4,50	5,2	161,13		4,50	7,4	57,32	1,3	94,25	1,3	5,00
CP-652		45	4,50	5,2	161,13		4,95	7,4	57,32	1,3	94,25	1,3	5,00
CP-653	45	4,50	5,2	160,68	5,40	7,5	57,94	1,3	93,97	1,3	5,00

Таблица 52
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-654	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	136,45	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	3,60	7,3	9,58	1,3	156,62	1,3	40,00	Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)	4,2	30,00
CP-655		45	4,50	5,2	136,45		4,05	7,3	9,58	1,3	156,62	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-656		45	4,50	5,2	136,40		4,50	7,4	9,70	1,3	156,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-657		45	4,50	5,2	136,40		4,95	7,4	9,70	1,3	156,50	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-658		45	4,50	5,2	136,34		5,40	7,5	9,83	1,3	156,38	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-659		45	4,50	5,2	125,10		3,60	7,3	22,83	1,3	153,45	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-660		45	4,50	5,2	125,10		4,05	7,3	22,83	1,3	153,45	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-661		45	4,50	5,2	124,95		4,50	7,4	23,12	1,3	153,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-662		45	4,50	5,2	124,95		4,95	7,4	23,12	1,3	153,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-663		45	4,50	5,2	124,82		5,40	7,5	23,40	1,3	152,97	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-664	45	4,50	5,2	116,60	3,60	7,3	32,73	1,3	151,12	1,3	40,00	4,2	30,00

CP-665		45	4,50	5,2	116,60		4,05	7,3	32,73	1,3	151,12	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-666		45	4,50	5,2	116,42		4,50	7,4	33,13	1,3	150,75	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-667		45	4,50	5,2	116,42		4,95	7,4	33,13	1,3	150,75	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-668		45	4,50	5,2	116,25		5,40	7,5	33,53	1,3	150,37	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-669		45	4,50	5,2"	171,92		3,60	7,3	12,06	1,3	93,37	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-670		45	4,50	5,2	171,92		4,05	7,3	12,06	1,3	93,37	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-671		45	4,50	5,2	171,82		4,50	7,4	12,23	1,3	93,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-672		45	4,50	5,2	171,82		4,95	7,4	12,23	1,3	93,25	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-673		45	4,50	5,2	171,72		5,40	7,5	12,38	1,3	93,17	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-674		45	4,50	5,2	157,08		3,60	7,3	28,67	1,3	90,42	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-675		45	4,50	5,2	157,08		4,05	7,3	28,67	1,3	90,42	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-676		45	4,50	5,2	156,85		4,50	7,4	29,02	1,3	90,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-677		45	4,50	5,2	156,85		4,95	7,4	29,02	1,3	90,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-678		45	4,50	5,2	156,64		5,40	7,5	29,37	1,3	89,98	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-679		45	4,50	5,2	146,04		3,60	7,3	41,00	1,3	88,27	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-680		45	4,50	5,2	146,04		4,05	7,3	41,00	1,3	88,27	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-681		45	4,50	5,2	145,76		4,50	7,4	41,48	1,3	87,93	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-682		45	4,50	5,2	145,76		4,95	7,4	41,48	1,3	87,93	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-683		45	4,50	5,2	145,48		5,40	7,5	41,96	1,3	87,60	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-684		45	4,50	5,2	197,62		3,60	7,3	13,86	1,3	47,53	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-685		45	4,50	5,2	197,62		4,05	7,3	13,86	1,3	47,53	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-686		45	4,50	5,2	197,48		4,50	7,4	14,05	1,3	47,45	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-687		45	4,50	5,2	197,48		4,95	7,4	14,05	1,3	47,45	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-688		45	4,50	5,2	197,36		5,40	7,5	14,22	1,3	47,37	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-689		45	4,50	5,2	180,09		3,60	7,3	32,87	1,3	45,07	1,3	40,00		4,2	30,00
СР-690	45	4,50	5,2	180,09	4,05	7,3	32,87	1,3	45,07	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 53

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя

(1) Первые частицы оксида металла

(2) Вторые частицы оксида металла

(3) Связующий материал (фенольная смола)

(4) Частицы кремнийорганической смолы

(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)

Вид

Доля покровного слоя [%]

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Вид

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Плотность

Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)

Плотность

Количество [части]

Вид

Плотность

Количество [части]

CP-691

Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)

45

4,50

5,2

179,82

Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)

4,50

7,4

33,26

1,3

44,87

1,3

40,00

Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)

4,2

30,00

CP-692		45	4,50	5,2	179,82		4,95	7,4	33,26	1,3	44,87	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-693		45	4,50	5,2	179,55		5,40	7,5	33,66	1,3	44,65	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-694		45	4,50	5,2	167,15		3,60	7,3	46,92	1,3	43,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-695		45	4,50	5,2	167,15		4,05	7,3	46,92	1,3	43,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-696		45	4,50	5,2	166,77		4,50	7,4	47,46	1,3	42,95	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-697		45	4,50	5,2	166,77		4,95	7,4	47,46	1,3	42,95	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-698		45	4,50	5,2	166,40		5,40	7,5	48,00	1,3	42,67	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-699		45	4,50	5,2	156,85		4,50	7,4	29,02	1,3	90,22	1,3	40,00		4,2	30,00
CP-700		45	4,50	5,2	160,36		4,50	7,4	25,10	1,3	90,90	1,3	40,00	4,2	30,00

Таблица 54
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-C129	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	115,85	Нет	1,3	265,25	1,3	5,00	Нет
CP-C130		45	4,50	5,2	176,85		1,3	163,58	1,3	5,00
CP-C131		45	4,50	5,2	214,46		1,3	100,90	1,3	5,00
CP-C132		45	4,50	5,2	114,50	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,4	1,63	1,3	264,78	1,3	5,00

CP-C133		45	4,50	5,2	174,63		4,50	7,4	2,48	1,3	163,15	1,3	5,00
CP-C134		45	4,50	5,2	211,67		4,50	7,4	3,00	1,3	100,55	1,3	5,00
CP-C135		45	4,50	5,2	85,65		4,50	7,4	36,57	1,3	254,63	1,3	5,00
CP-C136		45	4,50	5,2	128,12		4,50	7,4	54,70	1,3	153,63	1,3	5,00
CP-C137		45	4,50	5,2	153,49		4,50	7,4	65,53	1,3	93,30	1,3	5,00
CP-C138	Нет		4,50	7,4	140,30	1,3	224,50	1,3	5,00
CP-C139			4,50	7,4	198,60	1,3	127,33	1,3	5,00
CP-C140			4,50	7,4	230,50	1,3	74,17	1,3	5,00
CP-C141	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	84,25		4,50	7,4	2,40	1,3	313,92	1,3	5,00
CP-C142		45	4,50	5,2	81,56		4,50	7,4	5,80	1,3	312,73	1,3	5,00

CP-C143		45	4,50	5,2	75,10		4,50	7,4	13,89	1,3	310,02	1,3	5,00
CP-C144		45	4,50	5,2	70,28		4,50	7,4	20,00	1,3	307,87	1,3	5,00
CP-C145		45	4,50	5,2	67,19		4,50	7,4	23,90	1,3	306,57	1,3	5,00
CP-C146		45	4,50	5,2	218,17		4,50	7,4	6,20	1,3	84,38	1,3	5,00
CP-C147		45	4,50	5,2	209,94		4,50	7,4	14,95	1,3	83,52	1,3	5,00
CP-C148		45	4,50	5,2	190,80		4,50	7,4	35,30	1,3	81,50	1,3	5,00
CP-C149		45	4,50	5,2	176,69		4,50	7,4	50,30	1,3	80,02	1,3	5,00
CP-C150		45	4,50	5,2	167,83		4,50	7,4	59,72	1,3	79,08	1,3	5,00

Таблица 55
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-C151	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	151,95	Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,7	25,95	1,3	161,83	1,3	5,00	Нет
CP-C152	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным	45	4,50	5,2	153,28		4,50	6,7	25,68	1,3	160,07	1,3	5,00

	оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
CP-C153	Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	151,30	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,0	27,00	1,3	161,17	1,3	5,00
CP-C154		45	4,50	5,1	150,48	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,4	28,38	1,3	160,23	1,3	5,00
СР-С155	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	150,28	Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,5	28,73	1,3	159,98	1,3	5,00
СР-С156	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова,	45	4,50	5,2	151,63	4,50	7,5	28,43	1,3	158,23	1,3	5,00

	(средний диаметр частиц: 230 нм)
СР-С157	Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	152,65	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,0	26,72	1,3	159,38	1,3	5,00
СР-С158	45	4,50	5,2	151,83	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,4	28,08	1,3	158,48	1,3	5,00

Таблица 56
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	(1) Первые частицы оксида металла	(2) Вторые частицы оксида металла	(3) Связующий материал (фенольная смола)	(4) Частицы кремнийорганической смолы	(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
	Вид	Доля покровного слоя [%]	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Вид	Степень легирования [%]	Плотность	Количество [части]	Плотность	Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)	Плотность	Количество [части]	Вид	Плотность	Количество [части]
CP-C159	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	152,15	Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,6	25,60	1,3	162,08	1,3	5,00	Нет
CP-C160	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным	45	4,50	5,2	153,50		4,50	6,6	25,32	1,3	160,30	1,3	5,00

	оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
CP-C161	Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,0	149,93	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,0	27,29	1,3	162,97	1,3	5,00
CP-C162		45	4,50	5,0	149,10	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,4	28,68	1,3	162,03	1,3	5,00
СР-С163	Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова,	45	-	5,1	152,00	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,0	26,00	1,3	161,67	1,3	5,00

	обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
СР-С164	Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	-	5,1	152,00		4,50	7,0	26,00	1,3	161,67	1,3	5,00
СР-С165	Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	152,00	4,50	7,0	26,00	1,3	161,67	1,3	5,00

Таблица 57

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя

(1) Первые частицы оксида металла

(2) Вторые частицы оксида металла

(3) Связующий материал (фенольная смола)

(4) Частицы кремнийорганической смолы

(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)

Вид

Доля покровного слоя [%]

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Вид

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Плотность

Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)

Плотность

Количество [части]

Вид

Плотность

Количество [части]

CP-C166

Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)

45

4,50

5,1

152,20

Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)

-

6,6

25,60

1,3

162,00

1,3

5,00

Нет

CP-C167		45	4,50	5,1	151,10	Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,1	27,35	1,3	160,92	1,3	5,00
CP-C168		45	4,50	5,1	152,20	Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00
CP-C169	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	153,30	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,0	25,70	1,3	160,00	1,3	5,00

СР-С170	Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	150,60	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,4	26,25	1,3	163,58	1,3	5,00
СР-С171	Частицы сульфата бария, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	151,90	Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,0	26,00	1,3	161,83	1,3	5,00

Таблица 58

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя

(1) Первые частицы оксида металла

(2) Вторые частицы оксида металла

(3) Связующий материал (фенольная смола)

(4) Частицы кремнийорганической смолы

(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)

Вид

Доля покровного слоя [%]

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Вид

Степень легирования [%]

Плотность

Количество [части]

Плотность

Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)

Плотность

Количество [части]

Вид

Плотность

Количество [части]

CP-C172

Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)

45

-

5,1

152,00

Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)

4,50

7,4

26,00

1,3

161,67

1,3

5,00

Нет

CP-C173	Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	-	5,1	152,00		4,50	7,4	26,00	1,3	161,67	1,3	5,00
CP-C174	Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,1	152,00		4,50	7,4	26,00	1,3	161,67	1,3	5,00
СР-С175	Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	152,20	Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)	-	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00
СР-С176		45	4,50	5,2	151,10	Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,1	27,35	1,3	160,92	1,3	5,00

СР-С177		45	4,50	5,2	152,20	Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00
СР-С178	Частицы сульфата бария, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	4,50	5,2	151,90	Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)	4,50	7,0	26,00	1,3	161,83	1,3	5,00
СР-С179	Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)	45	-	5,1	152,20	Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)	-	6,6	25,60	1,3	162,00	1,3	5,00

(Пример 1 (пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента 1))

Алюминиевый цилиндр (JIS-A3003, алюминиевый сплав), имеющий длину 251,5 мм, диаметр 24 мм и толщину 1,0 мм, который был изготовлен способом производства, включающим процесс экструзии и процесс вытягивания, использовали в качестве основы (цилиндрической основы).

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1 наносили на основу в окружающей среде при 22°C/относительной влажности (RH) 55% методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили и термически отверждали в течение 30 минут при 140°C, чтобы сформировать электропроводный слой, имеющий толщину 20 мкм.

Измеренное объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляло 2,2×10¹³ Ом·см.

Затем 4,5 части N-метоксиметилированного нейлона (торговое название: Toresin EF-30T; производства компании Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) и 1,5 части сополимеризованной нейлоновой смолы (торговое название: Amilan CM8000; производства компании Toray Industries, Inc.) растворяли в смешанном растворителе из 65 частей метанола и 30 частей н-бутанола, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования промежуточного слоя. Раствор материала покрытия для формирования промежуточного слоя наносили на электропроводный слой методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили в течение 6 минут при 70°C, чтобы сформировать промежуточный слой, имеющий толщину 0,85 мкм.

После этого, 10 частей кристаллического фталоцианина гидроксигаллия (вещества, генерирующего заряды) в кристаллической форме, имеющего интенсивные пики при брэгговских углах (2θ0,2°) при дифракции CuKα-характеристического рентгеновского излучения, равных 7,5°, 9,9°, 16,3°, 18,6°, 25,1° и 28,3°, 5 частей поливинилбутираля (торговое наименование: S-LEC BX-1, производства компании SEKISUI CHEMICAL, CO., LTD.) и 250 частей циклогексанона загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 1 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при продолжительности диспергирующей обработки 3 часа. После диспергирующей обработки, 250 частей этилацетата добавляли к обработанному продукту, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов. Раствор материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов наносили на промежуточный слой методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку в течение 10 минут сушили при 100°C, чтобы сформировать слой для генерации зарядов, имеющий толщину 0,12 мкм.

Затем 56 частей аминового соединения (вещества, переносящего заряды), представленного приведенной ниже формулой (CT-1),

24 части аминового соединения (вещества, переносящего заряды), представленного приведенной ниже формулой (CT-2),

90 частей поликарбоната (торговое наименование: Z200, производства компании Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation), 10 частей поликарбоната, модифицированного силоксаном, имеющего повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-1), и повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-2), ((B-1):(B-2)=98:2 (молярное отношение)):

и 0,9 части поликарбоната, модифицированного силоксаном, имеющего повторяющееся структурное звено, представленне приведенной ниже формулой (B-3), и повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-4), и имеющего концевое структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-5), ((B-3):(B-4)=95:5 (молярное отношение)):

растворяли в смешанном растворителе из 300 частей о-ксилола, 250 частей диметоксиметана и 27 частей метилбензоата, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов. Раствор материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов наносили на слой для генерации зарядов методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили в течение 30 минут при 120°C, чтобы сформировать слой для переноса зарядов, имеющий толщину 18,5 мкм. Таким образом, получали электрофотографический фоточувствительный элемент 1, включающий слой для переноса заряда в качестве поверхностного слоя.

Что касается электрофотографического фоточувствительного элемента 1, отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова определяли каждое из атомного отношения представленным выше методом.

Затем, объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и объем частиц P-легированного оксида олова измеряли посредством идентификации частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и частиц P-легированного оксида олова на основании их разницы в контрасте в методе Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM) посредством применения представленного выше метода. То же самое относится к последующим примерам.

(Примеры с 2 по 700 и Сравнительные примеры с 1 по 179 (примеры изготовления электрофотографических фоточувствительных элементов с 2 по 700 и с C1 по C179))

Электрофотографические фоточувствительные элементы с 2 по 700 и с C1 по C179 изготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае Примера 1 (примера изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента 1), за исключением того, что раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя изменяли как представлено в Таблицах с 22 по 43 и Таблицах с 59 по 73.

(Оценка)

Оценку образования трещин выполняли посредством обследования поверхности электропроводного слоя на стадии формирования электропроводного слоя на основе с помощью оптического микроскопа и посредством обследования изображения, выведенного из электрофотографического устройства (лазерного принтера), оснащенного изготовленным электрофотографическим фоточувствительным элементом.

Обследование изображения выполняли, как описано ниже.

Изготовленный электрофотографический фоточувствительный элемент устанавливали в лазерный принтер производства компании Hewlett-Packard Company (торговое наименование: LaserJet P2055dn) в качестве устройства для выполнения оценки. Полученное устройство размещали в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)) и затем выводили сплошное черное изображение, сплошное белое изображение и полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением с последующим обследованием выведенных изображений. Полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением является полутоновым изображением рисунка, проиллюстрированного на Фиг. 5.

Степени наличия трещин классифицировали с разделением на категории на основании обследования изображений и последующего электропроводного слоя обследования под микроскопом, как описано ниже.

Случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа не могло подтвердить наличие каких-либо трещин, определяли как категорию 3. Кроме того, случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа было в состоянии подтвердить наличие трещин, однако дефекты изображения вследствие наличия трещин не наблюдались на любом из сплошного черного изображения, сплошного белого изображения и полутонового изображения с одноточечным рисунком с шахматным расположением, определяли как категорию 2. Кроме того, случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа было в состоянии подтвердить наличие трещин, и дефекты изображения, возможно вследствие наличия трещин, наблюдались на любом из сплошного черного изображения, сплошного белого изображения и полутонового изображения с одноточечным рисунком с шахматным расположением, определяли как категорию 1. Полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением является полутоновым изображением рисунка, проиллюстрированного на Фиг. 5.

Оценку для остаточного потенциала и оценку для памяти рисунка также выполняли с помощью лазерного принтера производства компании Hewlett-Packard Company (торговое наименование: LaserJet P2055dn) в качестве устройства для выполнения оценки.

Оценку для памяти рисунка выполняли описанным ниже образом.

Изготовленный электрофотографический фоточувствительный элемент устанавливали в лазерный принтер производства компании Hewlett-Packard Company. Полученное устройство размещали в окружающей среде с низкой температурой и низкой влажностью (15°C, 7% относительной влажности (RH)) и затем выполняли эксплуатационное испытание на долговечность, включающее непрерывное выведение 15000 изображений с рисунков в виде 3-точечных вертикальных линий со 100-точечным промежутком повторяющимся образом. Степень возникновения явления памяти рисунка классифицировали на шесть категорий, как показано в Таблице 74, таким образом, что вертикальные полосы, являющимися следствием гистерезиса вертикальных линий, обследовали на каждом из четырех видов полутоновых изображений и сплошном черном изображении, представленных в Таблице 74, выведенных после испытания. Номер категории становится больше, когда степень, до которой предотвращается память рисунка, улучшается. Следует заметить, что четыре вида полутоновых изображений являются полутоновым изображением с одноточечным рисунком с шахматным расположением, полутоновым изображением с поперечными одноточечными линиями с одноточечным промежутком, полутоновым изображением с поперечными двухточечными линиями с трехточечным промежутком, и полутоновым изображением с поперечными одноточечными линиями с двухточечным промежутком.

Оценку для остаточного потенциала выполняли описанным ниже образом.

Перед эксплуатационным испытанием на долговечность и после него, измеряли остаточные потенциалы после непрерывного вывода трех сплошных белых изображений и пяти сплошных черных изображений. Увеличение остаточного потенциала на 10 В или менее определяли как категорию 4. Кроме того, увеличение на более чем 10 В и 20 В или менее определяли как категорию 3. Кроме того, увеличение на более чем 20 В и 30 В или менее определяли как категорию 2. Кроме того, увеличение на более чем 30 В определяли как категорию 1.

Таблицы с 22 по 43 и Таблицы с 59 по 73 показывают результаты.

Таблица 22
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+(V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление проводящего слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 1	CP-1	1	2	15	0,8	2,2×1013	4	3	3
Пример 2	CP-2	2	2	15	0,9	2,2×1013	5	3	3
Пример 3	CP-3	3	2	15	1,0	2,2×1013	5	3	3
Пример 4	CP-4	4	2	15	1,1	2,2×1013	5	3	3
Пример 5	CP-5	5	2	15	1,2	2,2×1013	4	3	3
Пример 6	CP-6	6	5	15	1,0	2,1×1013	6	3	3
Пример 7	CP-7	7	13	15	0,8	2,0×1013	5	3	3
Пример 8	CP-8	8	13	15	0,9	2,0×1013	6	3	3
Пример 9	CP-9	9	13	15	1,0	2,0×1013	6	3	3
Пример 10	CP-10	10	13	15	1,1	2,0×1013	6	3	3
Пример 11	CP-11	11	13	15	1,2	2,0×1013	5	3	3
Пример 12	CP-12	12	20	15	1,0	1,9×1013	6	3	3
Пример 13	CP-13	13	25	15	0,8	1,8×1013	3	3	3
Пример 14	CP-14	14	25	15	0,9	1,8×1013	4	3	3
Пример 15	CP-15	15	25	15	1,0	1,8×1013	4	3	3
Пример 16	CP-16	16	25	15	1,1	1,8×1013	4	3	3
Пример 17	CP-17	17	25	15	1,2	1,8×1013	3	3	3

Пример 18	CP-18	18	2	20	1,0	6,6×1012	5	4	3
Пример 19	CP-19	19	5	20	0,8	6,3×1012	5	4	3
Пример 10	CP-20	20	5	20	0,9	6,3×1012	6	4	3
Пример 21	CP-21	21	5	20	1,0	6,3×1012	6	4	3
Пример 22	CP-22	22	5	20	1,1	6,3×1012	6	4	3
Пример 23	CP-23	23	5	20	1,2	6,3×1012	5	4	3
Пример 24	CP-24	24	13	20	0,8	5,8×1012	5	4	3
Пример 25	CP-25	25	13	20	0,9	5,8×1012	6	4	3
Пример 26	CP-26	26	13	20	1,0	5,8×1012	6	4	3
Пример 27	CP-27	27	13	20	1,1	5,8×1012	6	4	3
Пример 28	CP-28	28	13	20	1,2	5,8×1012	5	4	3
Пример 29	CP-29	29	20	20	0,8	5,4×1012	5	4	3
Пример 30	CP-30	30	20	20	0,9	5,4×1012	6	4	3
Пример 31	CP-31	31	20	20	1,0	5,5×1012	6	4	3
Пример 32	CP-32	32	20	20	1,1	5,5×1012	6	4	3
Пример 33	CP-33	33	20	20	1,2	5,5×1012	5	4	3
Пример 34	CP-34	34	25	20	1,0	5,2×1012	4	4	3
Пример 35	CP-35	35	2	30	0,8	3,6×1011	4	4	3
Пример 36	CP-36	36	2	30	0,9	3,6×1011	5	4	3
Пример 37	CP-37	37	2	30	1,0	3,6×1011	5	4	3
Пример 38	CP-38	38	2	30	1,1	3,6×1011	5	4	3
Пример 39	CP-39	39	2	30	1,2	3,6×1011	4	4	3
Пример 40	CP-40	40	5	30	0,8	3,4×1011	5	4	3

Таблица 23
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 41	CP-41	41	5	30	0,9	3,4×1011	6	4	3
Пример 42	CP-42	42	5	30	1,0	3,4×1011	6	4	3
Пример 43	CP-43	43	5	30	1,1	3,4×1011	6	4	3
Пример 44	CP-44	44	5	30	1,2	3,4×1011	5	4	3
Пример 45	CP-45	45	13	30	0,8	2,9×1011	5	4	3
Пример 46	CP-46	46	13	30	0,9	3,0×1011	6	4	3
Пример 47	CP-47	47	13	30	1,0	3,0×1011	6	4	3
Пример 48	CP-48	48	13	30	1,1	3,0×1011	6	4	3
Пример 49	CP-49	49	13	30	1,2	3,0×1011	5	4	3
Пример 50	CP-50	50	20	30	0,8	2,6×1011	5	4	3
Пример 51	CP-51	51	20	30	0,9	2,6×1011	6	4	3
Пример 52	CP-52	52	20	30	1,0	2,6×1011	6	4	3
Пример 53	CP-53	53	20	30	1,1	2,6×1011	6	4	3
Пример 54	CP-54	54	20	30	1,2	2,6×1011	5	4	3
Пример 55	CP-55	55	25	30	0,8	2,4×1011	3	4	3
Пример 56	CP-56	56	25	30	0,9	2,5×1011	4	4	3
Пример 57	CP-57	57	25	30	1,0	2,5×1011	4	4	3

Пример 58	CP-58	58	25	30	1,1	2,5×1011	4	4	3
Пример 59	CP-59	59	25	30	1,2	2,5×011	3	4	3
Пример 60	CP-60	60	2	40	1,0	7,7×109	5	4	3
Пример 61	CP-61	61	5	40	0,8	6,9×109	5	4	3
Пример 62	CP-62	62	5	40	0,9	7,0×109	6	4	3
Пример 63	CP-63	63	5	40	1,0	7,0×109	6	4	3
Пример 64	CP-64	64	5	40	1,1	7,0×109	6	4	3
Пример 65	CP-65	65	5	40	1,2	7,0×109	5	4	3
Пример 66	CP-66	66	13	40	0,8	5,4×109	5	4	3
Пример 67	CP-67	67	13	40	0,9	5,5×109	6	4	3
Пример 68	CP-68	68	13	40	1,0	5,5×109	6	4	3
Пример 69	CP-69	69	13	40	1,1	5,5×109	6	4	3
Пример 70	CP-70	70	13	40	1,2	5,5×109	5	4	3
Пример 71	CP-71	71	20	40	0,8	4,5×109	5	4	3
Пример 72	CP-72	72	20	40	0,9	4,6×109	6	4	3
Пример 73	CP-73	73	20	40	1,0	4,6×109	6	4	3
Пример 74	CP-74	74	20	40	1,1	4,6×109	6	4	3
Пример 75	CP-75	75	20	40	1,2	4,6×109	5	4	3
Пример 76	CP-76	76	25	40	1,0	4,1×109	4	4	3
Пример 77	CP-77	77	2	45	0,8	6,4×108	4	4	2
Пример 78	CP-78	78	2	45	0,9	6,6×108	5	4	2
Пример 79	CP-79	79	2	45	1,0	6,6×108	5	4	2
Пример 80	CP-80	80	2	45	1,1	6,6×108	5	4	2

Таблица 24
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 81	CP-81	81	2	45	1,2	6,6×108	4	4	2
Пример 82	CP-82	82	5	45	1,0	5,8×108	6	4	2
Пример 83	CP-83	83	13	45	0,8	4,2×108	5	4	2
Пример 84	CP-84	84	13	45	0,9	4,4×108	6	4	2
Пример 85	CP-85	85	13	45	1,0	4,4×108	6	4	2
Пример 86	CP-86	86	13	45	1,1	4,4×108	6	4	2
Пример 87	CP-87	87	13	45	1,2	4,4×108	5	4	2
Пример 88	CP-88	88	20	45	1,0	3,5×108	6	4	2
Пример 89	CP-89	89	25	45	0,8	3,0×108	3	4	2
Пример 90	CP-90	90	25	45	0,9	3,1×108	4	4	2
Пример 91	CP-91	91	25	45	1,0	3,1×108	4	4	2
Пример 92	CP-92	92	25	45	1,1	3,1×108	4	4	2
Пример 93	CP-93	93	25	45	1,2	3,1×108	3	4	2
Пример 94	CP-94	94	5	20	0,8	4,8×1012	5	4	3
Пример 95	CP-95	95	5	20	0,9	4,8×1012	6	4	3
Пример 96	CP-96	96	5	20	1,0	4,8×1012	6	4	3
Пример 97	CP-97	97	5	20	1,1	4,8×1012	6	4	3

Пример 98	CP-98	98	5	20	1,2	4,8×1012	5	4	3
Пример 99	CP-99	99	13	20	0,8	4,3×1012	5	4	3
Пример 100	CP-100	100	13	20	0,9	4,4×1012	6	4	3
Пример 101	CP-101	101	13	20	1,0	4,4×1012	6	4	3
Пример 102	CP-102	102	13	20	1,1	4,4×1012	6	4	3
Пример 103	CP-103	103	13	20	1,2	4,4×1012	5	4	3
Пример 104	CP-104	104	20	20	0,8	4,0×1012	5	4	3
Пример 105	CP-105	105	20	20	0,9	4,1×1012	6	4	3
Пример 106	CP-106	106	20	20	1,0	4,1×1012	6	4	3
Пример 107	CP-107	107	20	20	1,1	4,1×1012	6	4	3
Пример 108	CP-108	108	20	20	1,2	4,1×1012	5	4	3
Пример 109	CP-109	109	5	30	0,8	1,7×1011	5	4	3
Пример 110	CP-110	110	5	30	0,9	1,8×1011	6	4	3
Пример 111	CP-111	111	5	30	1,0	1,8×1011	6	4	3

Пример 112	CP-112	112	5	30	1,1	1,8×1011	6	4	3
Пример 113	CP-113	113	5	30	1,2	1,8×1011	5	4	3
Пример 114	CP-114	114	13	30	0,8	1,4×1011	5	4	3
Пример 115	CP-115	115	13	30	0,9	1,5×1011	6	4	3
Пример 116	CP-116	116	13	30	1,0	1,5×1011	6	4	3
Пример 117	CP-117	117	13	30	1,1	1,5×1011	6	4	3
Пример 118	CP-118	118	13	30	1,2	1,5×1011	5	4	3
Пример 119	CP-119	119	20	30	0,8	1,3×1011	5	4	3
Пример 120	CP-120	120	20	30	0,9	1,3×1011	6	4	3

Таблица 25
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 121	CP-121	121	20	30	1,0	1,3×1011	6	4	3
Пример 122	CP-122	122	20	30	1,1	1,3×1011	6	4	3
Пример 123	CP-123	123	20	30	1,2	1,3×1011	5	4	3
Пример 124	CP-124	124	5	40	0,8	1,6×109	5	4	3
Пример 125	CP-125	125	5	40	0,9	1,6×109	6	4	3
Пример 126	CP-126	126	5	40	1,0	1,6×109	6	4	3
Пример 127	CP-127	127	5	40	1,1	1,6×109	6	4	3
Пример 128	CP-128	128	5	40	1,2	1,6×109	5	4	3
Пример 129	CP-129	129	13	40	0,8	1,2×109	5	4	3
Пример 130	CP-130	130	13	40	0,9	1,2×109	6	4	3
Пример 131	CP-131	131	13	40	1,0	1,2×109	6	4	3
Пример 132	CP-132	132	13	40	1,1	1,2×109	6	4	3
Пример 133	CP-133	133	13	40	1,2	1,2×109	5	4	3
Пример 134	CP-134	134	20	40	0,8	9,5×108	5	4	3
Пример 135	CP-135	135	20	40	0,9	9,9×108	6	4	3
Пример 136	CP-136	136	20	40	1,0	9,9×108	6	4	3
Пример 137	CP-137	137	20	40	1,1	9,9×108	6	4	3
Пример 138	CP-138	138	20	40	1,2	9,9×108	5	4	3
Пример 139	CP-139	139	13	30	1,0	2,5×1011	6	4	3
Пример 140	CP-140	140	13	30	1,0	5,5×1011	6	4	3

Таблица 26
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 1	CP-C1	C1	-	-	-	2,2×1013	1	3	3
Сравнительный пример 2	CP-C2	C2	-	-	-	3,8×1011	1	4	3
Сравнительный пример 3	CP-C3	C3	-	-	-	7,1×108	1	4	2
Сравнительный пример 4	CP-C4	C4	1	15	1,0	2,2×1013	2	3	3
Сравнительный пример 5	CP-C5	C5	1	30	1,0	3,7×1011	2	4	3
Сравнительный пример 6	CP-C6	C6	1	45	1,0	6,8×108	2	4	2
Сравнительный пример 7	CP-C7	C7	30	15	1,0	1,8×1013	2	3	3
Сравнительный пример 8	CP-C8	C8	30	30	1,0	2,3×1011	2	4	3
Сравнительный пример 9	CP-C9	C9	30	45	1,0	2,7×108	2	4	2

Сравнительный пример 10	CP-C10	C10	-	-	-	9,0×1012	1	3	3
Сравнительный пример 11	CP-C11	C11	-	-	-	4,3×1010	1	4	3
Сравнительный пример 12	CP-C12	C12	-	-	-	1,1×107	1	4	2
Сравнительный пример 13	CP-C13	C13	2	10	1,0	6,3×1013	5	1	3
Сравнительный пример 14	CP-C14	C14	5	10	1,0	6,2×1013	6	1	3
Сравнительный пример 15	CP-C15	C15	13	10	1,0	5,9×1013	6	1	3
Сравнительный пример 16	CP-C16	C16	20	10	1,0	5,8×1013	6	1	3
Сравнительный пример 17	CP-C17	C17	25	10	1,0	5,7×1013	4	1	3
Сравнительный пример 18	CP-C18	C18	2	50	1,0	3,4×107	5	4	1
Сравнительный пример 19	CP-C19	C19	5	50	1,0	3,0×107	6	4	1
Сравнительный пример 20	CP-C20	C20	13	50	1,0	2,1×107	6	4	1
Сравнительный пример 21	CP-C21	C21	20	50	1,0	1,6×107	6	4	1
Сравнительный пример 22	CP-C22	C22	25	50	1,0	1,4×107	4	4	1

Таблица 27
	Раствор материала покрытия для формирования электропро-водного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 23	CP-C23	C23	-	-	-	2,9×1011	1	4	3
Сравнительный пример 24	CP-C24	C24	-	-	-	2,9×1011	1	4	3
Сравнительный пример 25	CP-C25	C25	-	-	-	2,9×1011	1	4	3
Сравнительный пример 26	CP-C26	C26	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 27	CP-C27	C27	-	-	-	2,8×1011	1	4	3
Сравнительный пример 28	CP-C28	C28	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 29	CP-C29	C29	-	-	-	2,6×1011	1	4	3

Таблица 28
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 30	CP-C30	C30	-	-	-	3,3×1011	1	4	3
Сравнительный пример 31	CP-C31	C31	-	-	-	2,6×1011	1	4	3
Сравнительный пример 32	CP-C32	C32	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 33	CP-C33	C33	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 34	CP-C34	C34	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 35	CP-C35	C35	-	-	-	3,0×1011	1	4	3

Таблица 29
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 141	CP-141	141	2	15	0,8	2,0×1013	4	3	3
Пример 142	CP-142	142	2	15	0,9	2,0×1013	5	3	3
Пример 143	CP-143	143	2	15	1,0	2,0×1013	5	3	3
Пример 144	CP-144	144	2	15	1,1	2,0×1013	5	3	3
Пример 145	CP-145	145	2	15	1,2	2,0×1013	4	3	3
Пример 146	CP-146	146	5	15	1,0	2,0×1013	6	3	3
Пример 147	CP-147	147	13	15	0,8	1,8×1013	5	3	3
Пример 148	CP-148	148	13	15	0,9	1,8×1013	6	3	3
Пример 149	CP-149	149	13	15	1,0	1,8×1013	6	3	3
Пример 150	CP-150	150	13	15	1,1	1,8×1013	6	3	3
Пример 151	CP-151	151	13	15	1,2	1,8×1013	5	3	3
Пример 152	CP-152	152	20	15	1,0	1,7×1013	6	3	3
Пример 153	CP-153	153	25	15	0,8	1,6×1013	3	3	3
Пример 154	CP-154	154	25	15	0,9	1,6×1013	4	3	3
Пример 155	CP-155	155	25	15	1,0	1,6×1013	4	3	3
Пример 156	CP-156	156	25	15	1,1	1,6×1013	4	3	3
Пример 157	CP-157	157	25	15	1,2	1,6×1013	3	3	3

Пример 158	CP-158	158	2	20	1,0	6,0×1012	5	4	3
Пример 159	CP-159	159	5	20	0,8	5,8×1012	5	4	3
Пример 160	CP-160	160	5	20	0,9	5,7×1012	6	4	3
Пример 161	CP-161	161	5	20	1,0	5,7×1012	6	4	3
Пример 162	CP-162	162	5	20	1,1	5,7×1012	6	4	3
Пример 163	CP-163	163	5	20	1,2	5,7×1012	5	4	3
Пример 164	CP-164	164	13	20	0,8	5,1×1012	5	4	3
Пример 165	CP-165	165	13	20	0,9	5,1×1012	6	4	3
Пример 166	CP-166	166	13	20	1,0	5,1×1012	6	4	3
Пример 167	CP-167	167	13	20	1,1	5,0×1012	6	4	3
Пример 168	CP-168	168	13	20	1,2	5,0×1012	5	4	3
Пример 169	CP-169	169	20	20	0,8	4,7×1012	5	4	3
Пример 170	CP-170	170	20	20	0,9	4,6×1012	6	4	3
Пример 171	CP-171	171	20	20	1,0	4,6×1012	6	4	3
Пример 172	CP-172	172	20	20	1,1	4,5×1012	6	4	3
Пример 173	CP-173	173	20	20	1,2	4,5×1012	5	4	3
Пример 174	CP-174	174	25	20	1,0	4,3×1012	4	4	3
Пример 175	CP-175	175	2	30	0,8	3,1×1011	4	4	3
Пример 176	CP-176	176	2	30	0,9	3,1×1011	5	4	3
Пример 177	CP-177	177	2	30	1,0	3,1×1011	5	4	3
Пример 178	CP-178	178	2	30	1,1	3,1×1011	5	4	3
Пример 179	CP-179	179	2	30	1,2	3,1×1011	4	4	3
Пример 180	CP-180	180	5	30	0,8	2,9×1011	5	4	3

Таблица 30
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 181	CP-181	181	5	30	0,9	2,9×1011	6	4	3
Пример 182	CP-182	182	5	30	1,0	2,9×1011	6	4	3
Пример 183	CP-183	183	5	30	1,1	2,9×1011	6	4	3
Пример 184	CP-184	184	5	30	1,2	2,9×1011	5	4	3
Пример 185	CP-185	185	13	30	0,8	2,4×1011	5	4	3
Пример 186	CP-186	186	13	30	0,9	2,3×1011	6	4	3
Пример 187	CP-187	187	13	30	1,0	2,3×1011	6	4	3
Пример 188	CP-188	188	13	30	1,1	2,3×1011	6	4	3
Пример 189	CP-189	189	13	30	1,2	2,3×1011	5	4	3
Пример 190	CP-190	190	20	30	0,8	2,0×1011	5	4	3
Пример 191	CP-191	191	20	30	0,9	2,0×1011	6	4	3
Пример 192	CP-192	192	20	30	1,0	2,0×1011	6	4	3
Пример 193	CP-193	193	20	30	1,1	1,9×1011	6	4	3
Пример 194	CP-194	194	20	30	1,2	1,9×1011	5	4	3
Пример 195	CP-195	195	25	30	0,8	1,8×1011	3	4	3
Пример 196	CP-196	196	25	30	0,9	1,8×1011	4	4	3
Пример 197	CP-197	197	25	30	1,0	1,8×1011	4	4	3

Пример 198	CP-198	198	25	30	1,1	1,7×1011	4	4	3
Пример 199	CP-199	199	25	30	1,2	1,7×1011	3	4	3
Пример 200	CP-200	200	2	40	1,0	6,0×109	5	4	3
Пример 201	CP-201	201	5	40	0,8	5,3×109	5	4	3
Пример 202	CP-202	202	5	40	0,9	5,3×109	6	4	3
Пример 203	CP-203	203	5	40	1,0	5,3×109	6	4	3
Пример 204	CP-204	204	5	40	1,1	5,2×109	6	4	3
Пример 205	CP-205	205	5	40	1,2	5,2×109	5	4	3
Пример 206	CP-206	206	13	40	0,8	3,9×109	5	4	3
Пример 207	CP-207	207	13	40	0,9	3,8×109	6	4	3
Пример 208	CP-208	208	13	40	1,0	3,8×109	6	4	3
Пример 209	CP-209	209	13	40	1,1	3,7×109	6	4	3
Пример 210	CP-210	210	13	40	1,2	3,7×109	5	4	3
Пример 211	CP-211	211	20	40	0,8	3,1×109	5	4	3
Пример 212	CP-212	212	20	40	0,9	3,0×109	6	4	3
Пример 213	CP-213	213	20	40	1,0	3,0×109	6	4	3
Пример 214	CP-214	214	20	40	1,1	2,9×109	6	4	3
Пример 215	CP-215	215	20	40	1,2	2,9×109	5	4	3
Пример 216	CP-216	216	25	40	1,0	2,5×109	4	4	3
Пример 217	CP-217	217	2	45	0,8	4,9×108	4	4	2
Пример 218	CP-218	218	2	45	0,9	4,9×108	5	4	2
Пример 219	CP-219	219	2	45	1,0	4,9×108	5	4	2
Пример 220	CP-220	220	2	45	1,1	4,9×108	5	4	2

Таблица 31
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 221	CP-221	221	2	45	1,2	4,9×108	4	4	2
Пример 222	CP-222	222	5	45	1,0	4,2×108	6	4	2
Пример 223	CP-223	223	13	45	0,8	2,9×108	5	4	2
Пример 224	CP-224	224	13	45	0,9	2,8×108	6	4	2
Пример 225	CP-225	225	13	45	1,0	2,8×108	6	4	2
Пример 226	CP-226	226	13	45	1,1	2,7×108	6	4	2
Пример 227	CP-227	227	13	45	1,2	2,7×108	5	4	2
Пример 228	CP-228	228	20	45	1,0	2,0×108	6	4	2
Пример 229	CP-229	229	25	45	0,8	1,8×108	3	4	2
Пример 230	CP-230	230	25	45	0,9	1,7×108	4	4	2
Пример 231	CP-231	231	25	45	1,0	1,7×108	4	4	2
Пример 232	CP-232	232	25	45	1,1	1,6×108	4	4	2
Пример 233	CP-233	233	25	45	1,2	1,6×108	3	4	2

Таблица 32
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 234	CP-234	234	5	20	0,8	4,3×1012	5	4	3
Пример 235	CP-235	235	5	20	0,9	4,3×1012	6	4	3
Пример 236	CP-236	236	5	20	1,0	4,3×1012	6	4	3
Пример 237	CP-237	237	5	20	1,1	4,3×1012	6	4	3
Пример 238	CP-238	238	5	20	1,2	4,3×1012	5	4	3
Пример 239	CP-239	239	13	20	0,8	3,8×1012	5	4	3
Пример 240	CP-240	240	13	20	0,9	3,7×1012	6	4	3
Пример 241	CP-241	241	13	20	1,0	3,7×1012	6	4	3
Пример 242	CP-242	242	13	20	1,1	3,7×1012	6	4	3
Пример 243	CP-243	243	13	20	1,2	3,7×1012	5	4	3
Пример 244	CP-244	244	20	20	0,8	3,4×1012	5	4	3
Пример 245	CP-245	245	20	20	0,9	3,4×1012	6	4	3
Пример 246	CP-246	246	20	20	1,0	3,4×1012	6	4	3
Пример 247	CP-247	247	20	20	1,1	3,3×1012	6	4	3
Пример 248	CP-248	248	20	20	1,2	3,3×1012	5	4	3
Пример 249	CP-249	249	5	30	0,8	1,4×1011	5	4	3
Пример 250	CP-250	250	5	30	0,9	1,4×1011	6	4	3

Пример 251	CP-251	251	5	30	1,0	1,4×1011	6	4	3
Пример 252	CP-252	252	5	30	1,1	1,4×1011	6	4	3
Пример 253	CP-253	253	5	30	1,2	1,4×1011	5	4	3
Пример 254	CP-254	254	13	30	0,8	1,1×1011	5	4	3
Пример 255	CP-255	255	13	30	0,9	1,1×1011	6	4	3
Пример 256	CP-256	256	13	30	1,0	1,1×1011	6	4	3
Пример 257	CP-257	257	13	30	1,1	1,1×1011	6	4	3
Пример 258	CP-258	258	13	30	1,2	1,1×1011	5	4	3
Пример 259	CP-259	259	20	30	0,8	9,5×1010	5	4	3
Пример 260	CP-260	260	20	30	0,9	9,2×1010	6	4	3
Пример 261	CP-261	261	20	30	1,0	9,2×1010	6	4	3
Пример 262	CP-262	262	20	30	1,1	9,0×1010	6	4	3
Пример 263	CP-263	263	20	30	1,2	9,0×1010	5	4	3
Пример 264	CP-264	264	5	40	0,8	1,2×109	5	4	3
Пример 265	CP-265	265	5	40	0,9	1,2×109	6	4	3
Пример 266	CP-266	266	5	40	1,0	1,2×109	6	4	3
Пример 267	CP-267	267	5	40	1,1	1,1×109	6	4	3
Пример 268	CP-268	268	5	40	1,2	1,1×109	5	4	3
Пример 269	CP-269	269	13	40	0,8	7,9×108	5	4	3
Пример 270	CP-270	270	13	40	0,9	7,6×108	6	4	3

Таблица 33
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)} ×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 271	CP-271	271	13	40	1,0	7,6×108	6	4	3
Пример 272	CP-272	272	13	40	1,1	7,3×108	6	4	3
Пример 273	CP-273	273	13	40	1,2	7,3×108	5	4	3
Пример 274	CP-274	274	20	40	0,8	5,9×108	5	4	3
Пример 275	CP-275	275	20	40	0,9	5,6×108	6	4	3
Пример 276	CP-276	276	20	40	1,0	5,6×108	6	4	3
Пример 277	CP-277	277	20	40	1,1	5,3×108	6	4	3
Пример 278	CP-278	278	20	40	1,2	5,3×108	5	4	3
Пример 279	CP-279	279	13	30	1,0	2,1×1011	6	4	3
Пример 280	CP-280	280	13	30	1,0	5,1×1011	6	4	3

Таблица 34
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 42	CP-C42	C42	-	-	-	2,1×1013	1	3	3
Сравнительный пример 43	CP-C43	C43	-	-	-	3,3×1011	1	4	3
Сравнительный пример 44	CP-C44	C44	-	-	-	5,5×108	1	4	2
Сравнительный пример 45	CP-C45	C45	1	15	1,0	2,1×1013	2	3	3
Сравнительный пример 46	CP-C46	C46	1	30	1,0	3,2×1011	2	4	3
Сравнительный пример 47	CP-C47	C47	1	45	1,0	5,2×108	2	4	2
Сравнительный пример 48	CP-C48	C48	30	15	1,0	1,6×1013	2	3	3
Сравнительный пример 49	CP-C49	C49	30	30	1,0	1,6×1011	2	4	3
Сравнительный пример 50	CP-C50	C50	30	45	1,0	1,4×108	2	4	2

Сравнительный пример 51	CP-C51	C51	-	-	-	5,8×1012	1	3	3
Сравнительный пример 52	CP-C52	C52	-	-	-	1,5×1010	1	4	3
Сравнительный пример 53	CP-C53	C53	-	-	-	1,5×106	1	4	2
Сравнительный пример 54	CP-C54	C54	2	10	1,0	6,0×1013	5	1	3
Сравнительный пример 55	CP-C55	C55	5	10	1,0	5,9×1013	6	1	3
Сравнительный пример 56	CP-C56	C56	13	10	1,0	5,6×1013	6	1	3
Сравнительный пример 57	CP-C57	C57	20	10	1,0	5,4×1013	6	1	3
Сравнительный пример 58	CP-C58	C58	25	10	1,0	5,2×1013	4	1	3
Сравнительный пример 59	CP-C59	C59	2	50	1,0	2,4×107	5	4	1
Сравнительный пример 60	CP-C60	C60	5	50	1,0	2,0×107	6	4	1
Сравнительный пример 61	CP-C61	C61	13	50	1,0	1,2×107	6	4	1
Сравнительный пример 62	CP-C62	C62	20	50	1,0	8,3×106	6	4	1
Сравнительный пример 63	CP-C63	C63	25	50	1,0	6,5×106	4	4	1

Таблица 35
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 64	CP-C64	C64	-	-	-	2,6×1011	1	4	3
Сравнительный пример 65	CP-C65	C65	-	-	-	2,6×1011	1	4	3
Сравнительный пример 66	CP-C66	C66	-	-	-	2,3×1011	1	4	3
Сравнительный пример 67	CP-C67	C67	-	-	-	2,7×1011	1	4	3
Сравнительный пример 68	CP-C68	C68	-	-	-	2,5×1011	1	4	3
Сравнительный пример 69	CP-C69	C69	-	-	-	2,7×1011	1	4	3
Сравнительный пример 70	CP-C70	C70	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 71	CP-C71	C71	-	-	-	2,3×1011	1	4	3

Таблица 36
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 281	CP-281	281	2	15	0,8	2,3×1013	4	3	3
Пример 282	CP-282	282	2	15	0,9	2,3×1013	5	3	3
Пример 283	CP-283	283	2	15	1,0	2,3×1013	5	3	3
Пример 284	CP-284	284	2	15	1,1	2,3×1013	5	3	3
Пример 285	CP-285	285	2	15	1,2	2,3×1013	4	3	3
Пример 286	CP-286	286	5	15	1,0	2,2×1013	6	3	3
Пример 287	CP-287	287	13	15	0,8	2,1×1013	5	3	3
Пример 288	CP-288	288	13	15	0,9	2,1×1013	6	3	3
Пример 289	CP-289	289	13	15	1,0	2,1×1013	6	3	3
Пример 290	CP-290	290	13	15	1,1	2,1×1013	6	3	3
Пример 291	CP-291	291	13	15	1,2	2,1×1013	5	3	3
Пример 292	CP-292	292	20	15	1,0	2,0×1013	6	3	3
Пример 293	CP-293	293	25	15	0,8	1,9×1013	3	3	3
Пример 294	CP-294	294	25	15	0,9	1,9×1013	4	3	3
Пример 295	CP-295	295	25	15	1,0	2,0×1013	4	3	3
Пример 296	CP-296	296	25	15	1,1	2,0×1013	4	3	3
Пример 297	CP-297	297	25	15	1,2	2,0×1013	3	3	3

Пример 298	CP-298	298	2	20	1,0	7,1×1012	5	4	3
Пример 299	CP-299	299	5	20	0,8	6,9×1012	5	4	3
Пример 300	CP-300	300	5	20	0,9	6,9×1012	6	4	3
Пример 301	CP-301	301	5	20	1,0	6,9×1012	6	4	3
Пример 302	CP-302	302	5	20	1,1	6,9×1012	6	4	3
Пример 303	CP-303	303	5	20	1,2	6,9×1012	5	4	3
Пример 304	CP-304	304	13	20	0,8	6,3×1012	5	4	3
Пример 305	CP-305	305	13	20	0,9	6,3×1012	6	4	3
Пример 306	CP-306	306	13	20	1,0	6,3×1012	6	4	3
Пример 307	CP-307	307	13	20	1,1	6,3×1012	6	4	3
Пример 308	CP-308	308	13	20	1,2	6,3×1012	5	4	3
Пример 309	CP-309	309	20	20	0,8	5,8×1012	5	4	3
Пример 310	CP-310	310	20	20	0,9	5,8×1012	6	4	3
Пример 311	CP-311	311	20	20	1,0	5,9×1012	6	4	3
Пример 312	CP-312	312	20	20	1,1	5,9×1012	6	4	3
Пример 313	CP-313	313	20	20	1,2	5,9×1012	5	4	3
Пример 314	CP-314	314	25	20	1,0	5,7×1012	4	4	3
Пример 315	CP-315	315	2	30	0,8	4,1×1011	4	4	3
Пример 316	CP-316	316	2	30	0,9	4,1×1011	5	4	3
Пример 317	CP-317	317	2	30	1,0	4,2×1011	5	4	3
Пример 318	CP-318	318	2	30	1,1	4,2×1011	5	4	3
Пример 319	CP-319	319	2	30	1,2	4,2×1011	4	4	3
Пример 320	CP-320	320	5	30	0,8	3,9×1011	5	4	3

Таблица 37
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)} ×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 321	CP-321	321	5	30	0,9	3,9×1011	6	4	3
Пример 322	CP-322	322	5	30	1,0	3,9×1011	6	4	3
Пример 323	CP-323	323	5	30	1,1	3,9×1011	6	4	3
Пример 324	CP-324	324	5	30	1,2	3,9×1011	5	4	3
Пример 325	CP-325	325	13	30	0,8	3,3×1011	5	4	3
Пример 326	CP-326	326	13	30	0,9	3,3×1011	6	4	3
Пример 327	CP-327	327	13	30	1,0	3,4×1011	6	4	3
Пример 328	CP-328	328	13	30	1,1	3,4×1011	6	4	3
Пример 329	CP-329	329	13	30	1,2	3,4×1011	5	4	3
Пример 330	CP-330	330	20	30	0,8	3,0×1011	5	4	3
Пример 331	CP-331	331	20	30	0,9	3,0×1011	6	4	3
Пример 332	CP-332	332	20	30	1,0	3,0×1011	6	4	3
Пример 333	CP-333	333	20	30	1,1	3,0×1011	6	4	3
Пример 334	CP-334	334	20	30	1,2	3,0×1011	5	4	3
Пример 335	CP-335	335	25	30	0,8	2,7×1011	3	4	3
Пример 336	CP-336	336	25	30	0,9	2,7×1011	4	4	3
Пример 337	CP-337	337	25	30	1,0	2,8×1011	4	4	3

Пример 338	CP-338	338	25	30	1,1	2,8×1011	4	4	3
Пример 339	CP-339	339	25	30	1,2	2,8×1011	3	4	3
Пример 340	CP-340	340	2	40	1,0	9,5×109	5	4	3
Пример 341	CP-341	341	5	40	0,8	8,4×109	5	4	3
Пример 342	CP-342	342	5	40	0,9	8,4×109	6	4	3
Пример 343	CP-343	343	5	40	1,0	8,6×109	6	4	3
Пример 344	CP-344	344	5	40	1,1	8,6×109	6	4	3
Пример 345	CP-345	345	5	40	1,2	8,6×109	5	4	3
Пример 346	CP-346	346	13	40	0,8	6,7×109	5	4	3
Пример 347	CP-347	347	13	40	0,9	6,7×109	6	4	3
Пример 348	CP-348	348	13	40	1,0	6,8×109	6	4	3
Пример 349	CP-349	349	13	40	1,1	6,8×109	6	4	3
Пример 350	CP-350	350	13	40	1,2	6,8×109	5	4	3
Пример 351	CP-351	351	20	40	0,8	5,6×109	5	4	3
Пример 352	CP-352	352	20	40	0,9	5,6×109	6	4	3
Пример 353	CP-353	353	20	40	1,0	5,7×109	6	4	3
Пример 354	CP-354	354	20	40	1,1	5,7×109	6	4	3
Пример 355	CP-355	355	20	40	1,2	5,7×109	5	4	3
Пример 356	CP-356	356	25	40	1,0	5,1×109	4	4	3
Пример 357	CP-357	357	2	45	0,8	8,4×108	4	4	2
Пример 358	CP-358	358	2	45	0,9	8,4×108	5	4	2
Пример 359	CP-359	359	2	45	1,0	8,5×108	5	4	2
Пример 360	CP-360	360	2	45	1,1	8,5×108	5	4	2

Таблица 38
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)} ×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 361	CP-361	361	2	45	1,2	8,5×108	4	4	2
Пример 362	CP-362	362	5	45	1,0	7,6×108	6	4	2
Пример 363	CP-363	363	13	45	0,8	5,6×108	5	4	2
Пример 364	CP-364	364	13	45	0,9	5,6×108	6	4	2
Пример 365	CP-365	365	13	45	1,0	5,7×108	6	4	2
Пример 366	CP-366	366	13	45	1,1	5,7×108	6	4	2
Пример 367	CP-367	367	13	45	1,2	5,7×108	5	4	2
Пример 368	CP-368	368	20	45	1,0	4,7×108	6	4	2
Пример 369	CP-369	369	25	45	0,8	3,8×108	3	4	2
Пример 370	CP-370	370	25	45	0,9	3,8×108	4	4	2
Пример 371	CP-371	371	25	45	1,0	4,1×108	4	4	2
Пример 372	CP-372	372	25	45	1,1	4,1×108	4	4	2
Пример 373	CP-373	373	25	45	1,2	4,1×108	3	4	2

Таблица 39
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)} ×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 374	CP-374	374	5	20	0,8	5,2×1012	5	4	3
Пример 375	CP-375	375	5	20	0,9	5,2×1012	6	4	3
Пример 376	CP-376	376	5	20	1,0	5,2×1012	6	4	3
Пример 377	CP-377	377	5	20	1,1	5,2×1012	6	4	3
Пример 378	CP-378	378	5	20	1,2	5,2×1012	5	4	3
Пример 379	CP-379	379	13	20	0,8	4,7×1012	5	4	3
Пример 380	CP-380	380	13	20	0,9	4,7×1012	6	4	3
Пример 381	CP-381	381	13	20	1,0	4,8×1012	6	4	3
Пример 382	CP-382	382	13	20	1,1	4,8×1012	6	4	3
Пример 383	CP-383	383	13	20	1,2	4,8×1012	5	4	3
Пример 384	CP-384	384	20	20	0,8	4,4×1012	5	4	3
Пример 385	CP-385	385	20	20	0,9	4,4×1012	6	4	3
Пример 386	CP-386	386	20	20	1,0	4,4×1012	6	4	3
Пример 387	CP-387	387	20	20	1,1	4,4×1012	6	4	3
Пример 388	CP-388	388	20	20	1,2	4,4×1012	5	4	3
Пример 389	CP-389	389	5	30	0,8	2,0×1011	5	4	3
Пример 390	CP-390	390	5	30	0,9	2,0×1011	6	4	3

Пример 391	CP-391	391	5	30	1,0	2,1×1011	6	4	3
Пример 392	CP-392	392	5	30	1,1	2,1×1011	6	4	3
Пример 393	CP-393	393	5	30	1,2	2,1×1011	5	4	3
Пример 394	CP-394	394	13	30	0,8	1,7×1011	5	4	3
Пример 395	CP-395	395	13	30	0,9	1,7×1011	6	4	3
Пример 396	CP-396	396	13	30	1,0	1,7×1011	6	4	3
Пример 397	CP-397	397	13	30	1,1	1,7×1011	6	4	3
Пример 398	CP-398	398	13	30	1,2	1,7×1011	5	4	3
Пример 399	CP-399	399	20	30	0,8	1,5×1011	5	4	3
Пример 400	CP-400	400	20	30	0,9	1,5×1011	6	4	3
Пример 401	CP-401	401	20	30	1,0	1,5×1011	6	4	3
Пример 402	CP-402	402	20	30	1,1	1,5×1011	6	4	3
Пример 403	CP-403	403	20	30	1,2	1,5×1011	5	4	3
Пример 404	CP-404	404	5	40	0,8	2,1×109	5	4	3

Таблица 40
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 405	CP-405	405	5	40	0,9	2,1×109	6	4	3
Пример 406	CP-406	406	5	40	1,0	2,1×109	6	4	3
Пример 407	CP-407	407	5	40	1,1	2,1×109	6	4	3
Пример 408	CP-408	408	5	40	1,2	2,1×109	5	4	3
Пример 409	CP-409	409	13	40	0,8	1,6×109	5	4	3
Пример 410	CP-410	410	13	40	0,9	1,6×109	6	4	3
Пример 411	CP-411	411	13	40	1,0	1,6×109	6	4	3
Пример 412	CP-412	412	13	40	1,1	1,6×109	6	4	3
Пример 413	CP-413	413	13	40	1,2	1,6×109	5	4	3
Пример 414	CP-414	414	20	40	0,8	1,2×109	5	4	3
Пример 415	CP-415	415	20	40	0,9	1,2×109	6	4	3
Пример 416	CP-416	416	20	40	1,0	1,3×109	6	4	3
Пример 417	CP-417	417	20	40	1,1	1,3×109	6	4	3
Пример 418	CP-418	418	20	40	1,2	1,3×109	5	4	3
Пример 419	CP-419	419	13	30	1,0	2,7×1011	6	4	3
Пример 420	CP-420	420	13	30	1,0	5,8×1011	6	4	3

Таблица 41
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}× 100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 76	CP-C76	C76	-	-	-	2,3×1013	1	3	3
Сравнительный пример 77	CP-C77	C77	-	-	-	4,4×1011	1	4	3
Сравнительный пример 78	CP-C78	C78	-	-	-	9,2×108	1	4	2
Сравнительный пример 79	CP-C79	C79	1	15	1,0	2,3×1013	2	3	3
Сравнительный пример 80	CP-C80	C80	1	30	1,0	4,3×1011	2	4	3
Сравнительный пример 81	CP-C81	C81	1	45	1,0	8,8×108	2	4	2
Сравнительный пример 82	CP-C82	C82	30	15	1,0	1,9×1013	2	3	3
Сравнительный пример 83	CP-C83	C83	30	30	1,0	2,6×1011	2	4	3
Сравнительный пример 84	CP-C84	C84	30	45	1,0	3,5×108	2	4	2

Сравнительный пример 85	CP-C85	C85	-	-	-	9,6×1012	1	3	3
Сравнительный пример 86	CP-C86	C86	-	-	-	5,0×1010	1	4	3
Сравнительный пример 87	CP-C87	C87	-	-	-	1,5×107	1	4	2
Сравнительный пример 88	CP-C88	C88	2	10	1,0	6,5×1013	5	1	3
Сравнительный пример 89	CP-C89	C89	5	10	1,0	6,4×1013	6	1	3
Сравнительный пример 90	CP-C90	C90	13	10	1,0	6,1×1013	6	1	3
Сравнительный пример 91	CP-C91	C91	20	10	1,0	6,0×1013	6	1	3
Сравнительный пример 92	CP-C92	C92	25	10	1,0	5,8×1013	4	1	3
Сравнительный пример 93	CP-C93	C93	2	50	1,0	4,8×107	5	4	1
Сравнительный пример 94	CP-C94	C94	5	50	1,0	4,1×107	6	4	1
Сравнительный пример 95	CP-C95	C95	13	50	1,0	2,9×107	6	4	1
Сравнительный пример 96	CP-C96	C96	20	50	1,0	2,2×107	6	4	1
Сравнительный пример 97	CP-C97	C97	25	50	1,0	1,9×107	4	4	1

Таблица 42
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}× 100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропровод-ного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 98	CP-C98	C98	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 99	CP-C99	C99	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 100	CP-C100	C100	-	-	-	2,7×1011	1	4	3
Сравнительный пример 101	CP-C101	C101	-	-	-	3,4×1011	1	4	3
Сравнительный пример 102	CP-C102	C102	-	-	-	3,1×1011	1	4	3
Сравнительный пример 103	CP-C103	C103	-	-	-	3,4×1011	1	4	3
Сравнительный пример 104	CP-C104	C104	-	-	-	2,7×1011	1	4	3
Сравнительный пример 105	CP-C105	C105	-	-	-	3,4×1011	1	4	3

Таблица 43
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропро-водного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 36	CP-C36	C36	-	-	-	8,0×106	1	4	3
Сравнительный пример 37	CP-C37	C37	-	-	-	1,0×107	1	4	3
Сравнительный пример 38	CP-C38	C38	-	-	-	4,4×1010	1	4	3
Сравнительный пример 39	CP-C39	C39	-	-	-	2,0×1013	1	4	3
Сравнительный пример 40	CP-C40	C40	-	-	-	2,1×109	1	4	3
Сравнительный пример 41	CP-C41	C41	-	-	-	3,1×109	1	4	3
Сравнительный пример 72	CP-C72	C72	-	-	-	3,5×1010	1	4	3
Сравнительный пример 73	CP-C73	C73	-	-	-	2,0×1013	1	4	3
Сравнительный пример 74	CP-C74	C74	-	-	-	4,0×109	1	4	3
Сравнительный пример 75	CP-C75	C75	-	-	-	5,8×109	1	4	3
Сравнительный пример 106	CP-C106	C106	-	-	-	3,5×1010	1	4	3

Таблица 59
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 421	CP-421	421	2	15	0,8	2,2×1013	4	3	3
Пример 422	CP-422	422	2	15	0,9	2,2×1013	5	3	3
Пример 423	CP-423	423	2	15	1,0	2,2×1013	5	3	3
Пример 424	CP-424	424	2	15	1,1	2,2×1013	5	3	3
Пример 425	CP-425	425	2	15	1,2	2,2×1013	4	3	3
Пример 426	CP-426	426	5	15	1,0	2,1×1013	6	3	3
Пример 427	CP-427	427	13	15	0,8	2,0×1013	5	3	3
Пример 428	CP-428	428	13	15	0,9	2,0×1013	6	3	3
Пример 429	CP-429	429	13	15	1,0	2,0×1013	6	3	3
Пример 430	CP-430	430	13	15	1,1	2,0×1013	6	3	3
Пример 431	CP-431	431	13	15	1,2	2,0×1013	5	3	3
Пример 432	CP-432	432	20	15	1,0	1,9×1013	6	3	3
Пример 433	CP-433	433	25	15	0,8	1,8×1013	3	3	3
Пример 434	CP-434	434	25	15	0,9	1,8×1013	4	3	3
Пример 435	CP-435	435	25	15	1,0	1,8×1013	4	3	3
Пример 436	CP-436	436	25	15	1,1	1,8×1013	4	3	3
Пример 437	CP-437	437	25	15	1,2	1,8×1013	3	3	3

Пример 438	CP-438	438	2	20	1,0	6,6×1012	5	4	3
Пример 439	CP-439	439	5	20	0,8	6,3×1012	5	4	3
Пример 440	CP-440	440	5	20	0,9	6,3×1012	6	4	3
Пример 441	CP-441	441	5	20	1,0	6,3×1012	6	4	3
Пример 442	CP-442	442	5	20	1,1	6,3×1012	6	4	3
Пример 443	CP-443	443	5	20	1,2	6,3×1012	5	4	3
Пример 444	CP-444	444	13	20	0,8	5,7×1012	5	4	3
Пример 445	CP-445	445	13	20	0,9	5,7×1012	6	4	3
Пример 446	CP-446	446	13	20	1,0	5,7×1012	6	4	3
Пример 447	CP-447	447	13	20	1,1	5,7×1012	6	4	3
Пример 448	CP-448	448	13	20	1,2	5,7×1012	5	4	3
Пример 449	CP-449	449	20	20	0,8	5,3×1012	5	4	3
Пример 450	CP-450	450	20	20	0,9	5,3×1012	6	4	3
Пример 451	CP-451	451	20	20	1,0	5,3×1012	6	4	3
Пример 452	CP-452	452	20	20	1,1	5,3×1012	6	4	3
Пример 453	CP-453	453	20	20	1,2	5,3×1012	5	4	3
Пример 454	CP-454	454	25	20	1,0	5,0×1012	4	4	3
Пример 455	CP-455	455	2	30	0,8	3,6×1011	4	4	3
Пример 456	CP-456	456	2	30	0,9	3,6×1011	5	4	3
Пример 457	CP-457	457	2	30	1,0	3,6×1011	5	4	3
Пример 458	CP-458	458	2	30	1,1	3,6×1011	5	4	3
Пример 459	CP-459	459	2	30	1,2	3,6×1011	4	4	3
Пример 460	CP-460	460	5	30	0,8	3,4×1011	5	4	3

Таблица 60
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}× 100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 461	CP-461	461	5	30	0,9	3,4×1011	6	4	3
Пример 462	CP-462	462	5	30	1,0	3,4×1011	6	4	3
Пример 463	CP-463	463	5	30	1,1	3,4×1011	6	4	3
Пример 464	CP-464	464	5	30	1,2	3,4×1011	5	4	3
Пример 465	CP-465	465	13	30	0,8	2,8×1011	5	4	3
Пример 466	CP-466	466	13	30	0,9	2,8×1011	6	4	3
Пример 467	CP-467	467	13	30	1,0	2,8×1011	6	4	3
Пример 468	CP-468	468	13	30	1,1	2,8×1011	6	4	3
Пример 469	CP-469	469	13	30	1,2	2,8×1011	5	4	3
Пример 470	CP-470	470	20	30	0,8	2,5×1011	5	4	3
Пример 471	CP-471	471	20	30	0,9	2,5×1011	6	4	3
Пример 472	CP-472	472	20	30	1,0	2,5×1011	6	4	3
Пример 473	CP-473	473	20	30	1,1	2,5×1011	6	4	3
Пример 474	CP-474	474	20	30	1,2	2,5×1011	5	4	3
Пример 475	CP-475	475	25	30	0,8	2,3×1011	3	4	3
Пример 476	CP-476	476	25	30	0,9	2,3×1011	4	4	3
Пример 477	CP-477	477	25	30	1,0	2,3×1011	4	4	3
Пример 478	CP-478	478	25	30	1,1	2,3×1011	4	4	3

Пример 479	CP-479	479	25	30	1,2	2,3×1011	3	4	3
Пример 480	CP-480	480	2	40	1,0	7,6×109	5	4	3
Пример 481	CP-481	481	5	40	0,8	6,8×109	5	4	3
Пример 482	CP-482	482	5	40	0,9	6,8×109	6	4	3
Пример 483	CP-483	483	5	40	1,0	6,8×109	6	4	3
Пример 484	CP-484	484	5	40	1,1	6,8×109	6	4	3
Пример 485	CP-485	485	5	40	1,2	6,8×109	5	4	3
Пример 486	CP-486	486	13	40	0,8	5,2×109	5	4	3
Пример 487	CP-487	487	13	40	0,9	5,2×109	6	4	3
Пример 488	CP-488	488	13	40	1,0	5,2×109	6	4	3
Пример 489	CP-489	489	13	40	1,1	5,2×109	6	4	3
Пример 490	CP-490	490	13	40	1,2	5,2×109	5	4	3
Пример 491	CP-491	491	20	40	0,8	4,2×109	5	4	3
Пример 492	CP-492	492	20	40	0,9	4,2×109	6	4	3
Пример 493	CP-493	493	20	40	1,0	4,2×109	6	4	3
Пример 494	CP-494	494	20	40	1,1	4,2×109	6	4	3
Пример 495	CP-495	495	20	40	1,2	4,2×109	5	4	3
Пример 496	CP-496	496	25	40	1,0	3,7×109	4	4	3
Пример 497	CP-497	497	2	45	0,8	6,5×108	4	4	2
Пример 498	CP-498	498	2	45	0,9	6,5×108	5	4	2
Пример 499	CP-499	499	2	45	1,0	6,5×108	5	4	2
Пример 500	CP-500	500	2	45	1,1	6,5×108	5	4	2

Таблица 61
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}× 100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 501	CP-501	501	2	45	1,2	6,5×108	4	4	2
Пример 502	CP-502	502	5	45	1,0	5,7×108	6	4	2
Пример 503	CP-503	503	13	45	0,8	4,1×108	5	4	2
Пример 504	CP-504	504	13	45	0,9	4,1×108	6	4	2
Пример 505	CP-505	505	13	45	1,0	4,1×108	6	4	2
Пример 506	CP-506	506	13	45	1,1	4,1×108	6	4	2
Пример 507	CP-507	507	13	45	1,2	4,1×108	5	4	2
Пример 508	CP-508	508	20	45	1,0	3,2×108	6	4	2
Пример 509	CP-509	509	25	45	0,8	2,7×108	3	4	2
Пример 510	CP-510	510	25	45	0,9	2,7×108	4	4	2
Пример 511	CP-511	511	25	45	1,0	2,7×108	4	4	2
Пример 512	CP-512	512	25	45	1,1	2,7×108	4	4	2
Пример 513	CP-513	513	25	45	1,2	2,7×108	3	4	2
Пример 514	CP-514	514	5	20	0,8	4,8×1012	5	4	3
Пример 515	CP-515	515	5	20	0,9	4,8×1012	6	4	3
Пример 516	CP-516	516	5	20	1,0	4,8×1012	6	4	3
Пример 517	CP-517	517	5	20	1,1	4,8×1012	6	4	3

Пример 518	CP-518	518	5	20	1,2	4,8×1012	5	4	3
Пример 519	CP-519	519	13	20	0,8	4,3×1012	5	4	3
Пример 520	CP-520	520	13	20	0,9	4,3×1012	6	4	3
Пример 521	CP-521	521	13	20	1,0	4,3×1012	6	4	3
Пример 522	CP-522	522	13	20	1,1	4,3×1012	6	4	3
Пример 523	CP-523	523	13	20	1,2	4,3×1012	5	4	3
Пример 524	CP-524	524	20	20	0,8	3,9×1012	5	4	3
Пример 525	CP-525	525	20	20	0,9	3,9×1012	6	4	3
Пример 526	CP-526	526	20	20	1,0	3,9×1012	6	4	3
Пример 527	CP-527	527	20	20	1,1	3,9×1012	6	4	3
Пример 528	CP-528	528	20	20	1,2	3,9×1012	5	4	3
Пример 529	CP-529	529	5	30	0,8	1,7×1011	5	4	3
Пример 530	CP-530	530	5	30	0,9	1,7×1011	6	4	3
Пример 531	CP-531	531	5	30	1,0	1,7×1011	6	4	3
Пример 532	CP-532	532	5	30	1,1	1,7×1011	6	4	3
Пример 533	CP-533	533	5	30	1,2	1,7×1011	5	4	3
Пример 534	CP-534	534	13	30	0,8	1,4×1011	5	4	3
Пример 535	CP-535	535	13	30	0,9	1,4×1011	6	4	3
Пример 536	CP-536	536	13	30	1,0	1,4×1011	6	4	3
Пример 537	CP-537	537	13	30	1,1	1,4×1011	6	4	3
Пример 538	CP-538	538	13	30	1,2	1,4×1011	5	4	3
Пример 539	CP-539	539	20	30	0,8	1,2×1011	5	4	3
Пример 540	CP-540	540	20	30	0,9	1,2×1011	6	4	3

Таблица 62
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 541	CP-541	541	20	30	1,0	1,2×1011	6	4	3
Пример 542	CP-542	542	20	30	1,1	1,2×1011	6	4	3
Пример 543	CP-543	543	20	30	1,2	1,2×1011	5	4	3
Пример 544	CP-544	544	5	40	0,8	1,6×109	5	4	3
Пример 545	CP-545	545	5	40	0,9	1,6×109	6	4	3
Пример 546	CP-546	546	5	40	1,0	1,6×109	6	4	3
Пример 547	CP-547	547	5	40	1,1	1,6×109	6	4	3
Пример 548	CP-548	548	5	40	1,2	1,6×109	5	4	3
Пример 549	CP-549	549	13	40	0,8	1,1×109	5	4	3
Пример 550	CP-550	550	13	40	0,9	1,1×109	6	4	3
Пример 551	CP-551	551	13	40	1,0	1,1×109	6	4	3
Пример 552	CP-552	552	13	40	1,1	1,1×109	6	4	3
Пример 553	CP-553	553	13	40	1,2	1,1×109	5	4	3
Пример 554	CP-554	554	20	40	0,8	8,7×108	5	4	3
Пример 555	CP-555	555	20	40	0,9	8,7×108	6	4	3
Пример 556	CP-556	556	20	40	1,0	8,7×108	6	4	3
Пример 557	CP-557	557	20	40	1,1	8,7×108	6	4	3
Пример 558	CP-558	558	20	40	1,2	8,7×108	5	4	3
Пример 559	CP-559	559	13	30	1,0	1,4×1011	6	4	3
Пример 560	CP-560	560	11	30	1,0	4,8×1011	6	4	3

Таблица 63
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)} ×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)} ×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 107	CP-C107	C107	-	-	-	2,2×1013	1	3	3
Сравнительный пример 108	CP-C108	C108	-	-	-	3,8×1011	1	4	3
Сравнительный пример 109	CP-C109	C109	-	-	-	7,2×108	1	4	2
Сравнительный пример 110	CP-C110	C110	1	15	1,0	2,2×1013	2	3	3
Сравнительный пример 111	CP-C111	C111	1	30	1,0	3,7×1011	2	4	3
Сравнительный пример 112	CP-C112	C112	1	45	1,0	6,8×108	2	4	2
Сравнительный пример 113	CP-C113	C113	30	15	1,0	1,7×1013	2	3	3
Сравнительный пример 114	CP-C114	C114	30	30	1,0	2,1×1011	2	4	3
Сравнительный пример 115	CP-C115	C115	30	45	1,0	2,3×108	2	4	2

Сравнительный пример 116	CP-C116	C116	-	-	-	7,7×1012	1	3	3
Сравнительный пример 117	CP-C117	C117	-	-	-	2,9×1010	1	4	3
Сравнительный пример 118	CP-C118	C118	-	-	-	5,3×106	1	4	2
Сравнительный пример 119	CP-C119	C119	2	10	1,0	6,3×1013	5	1	3
Сравнительный пример 120	CP-C120	C120	5	10	1,0	6,1×1013	6	1	3
Сравнительный пример 121	CP-C121	C121	13	10	1,0	5,9×1013	6	1	3
Сравнительный пример 122	CP-C122	C122	20	10	1,0	5,7×1013	6	1	3
Сравнительный пример 123	CP-C123	C123	25	10	1,0	5,5×1013	4	1	3
Сравнительный пример 124	CP-C124	C124	2	50	1,0	3,4×107	5	4	1
Сравнительный пример 125	CP-C125	C125	5	50	1,0	2,9×107	6	4	1
Сравнительный пример 126	CP-C126	C126	13	50	1,0	1,9×107	6	4	1
Сравнительный пример 127	CP-C127	C127	20	50	1,0	1,4×107	6	4	1
Сравнительный пример 128	CP-C128	C128	25	50	1,0	1,2×107	4	4	1

Таблица 64
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/ (V1/VT)} ×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 561	CP-561	561	2	15	0,8	2,0×1013	4	3	3
Пример 562	CP-562	562	2	15	0,9	2,0×1013	5	3	3
Пример 563	CP-563	563	2	15	1,0	2,0×1013	5	3	3
Пример 564	CP-564	564	2	15	1,1	2,0×1013	5	3	3
Пример 565	CP-565	565	2	15	1,2	2,0×1013	4	3	3
Пример 566	CP-566	566	5	15	1,0	2,0×1013	6	3	3
Пример 567	CP-567	567	13	15	0,8	1,8×1013	5	3	3
Пример 568	CP-568	568	13	15	0,9	1,8×1013	6	3	3
Пример 569	CP-569	569	13	15	1,0	1,8×1013	6	3	3
Пример 570	CP-570	570	13	15	1,1	1,8×1013	6	3	3
Пример 571	CP-571	571	13	15	1,2	1,8×1013	5	3	3
Пример 572	CP-572	572	20	15	1,0	1,7×1013	6	3	3
Пример 573	CP-573	573	25	15	0,8	1,7×1013	3	3	3
Пример 574	CP-574	574	25	15	0,9	1,7×1013	4	3	3
Пример 575	CP-575	575	25	15	1,0	1,6×1013	4	3	3
Пример 576	CP-576	576	25	15	1,1	1,6×1013	4	3	3
Пример 577	CP-577	577	25	15	1,2	1,6×1013	3	3	3

Пример 578	CP-578	578	2	20	1,0	6,0×1012	5	4	3
Пример 579	CP-579	579	5	20	0,8	5,8×1012	5	4	3
Пример 580	CP-580	580	5	20	0,9	5,8×1012	6	4	3
Пример 581	CP-581	581	5	20	1,0	5,8×1012	6	4	3
Пример 582	CP-582	582	5	20	1,1	5,8×1012	6	4	3
Пример 583	CP-583	583	5	20	1,2	5,7×1012	5	4	3
Пример 584	CP-584	584	13	20	0,8	5,2×1012	5	4	3
Пример 585	CP-585	585	13	20	0,9	5,2×1012	6	4	3
Пример 586	CP-586	586	13	20	1,0	5,1×1012	6	4	3
Пример 587	CP-587	587	13	20	1,1	5,1×1012	6	4	3
Пример 588	CP-588	588	13	20	1,2	5,1×1012	5	4	3
Пример 589	CP-589	589	20	20	0,8	4,7×1012	5	4	3
Пример 590	CP-590	590	20	20	0,9	4,7×1012	6	4	3
Пример 591	CP-591	591	20	20	1,0	4,7×1012	6	4	3
Пример 592	CP-592	592	20	20	1,1	4,7×1012	6	4	3
Пример 593	CP-593	593	20	20	1,2	4,6×1012	5	4	3
Пример 594	CP-594	594	25	20	1,0	4,4×1012	4	4	3
Пример 595	CP-595	595	2	30	0,8	3,1×1011	4	4	3
Пример 596	CP-596	596	2	30	0,9	3,1×1011	5	4	3
Пример 597	CP-597	597	2	30	1,0	3,1×1011	5	4	3
Пример 598	CP-598	598	2	30	1,1	3,1×1011	5	4	3
Пример 599	CP-599	599	2	30	1,2	3,1×1011	4	4	3
Пример 600	CP-600	600	5	30	0,8	2,9×1011	5	4	3

Таблица 65
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)} ×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)} ×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 601	CP-601	601	5	30	0,9	2,9×1011	6	4	3
Пример 602	CP-602	602	5	30	1,0	2,9×1011	6	4	3
Пример 603	CP-603	603	5	30	1,1	2,9×1011	6	4	3
Пример 604	CP-604	604	5	30	1,2	2,9×1011	5	4	3
Пример 605	CP-605	605	13	30	0,8	2,4×1011	5	4	3
Пример 606	CP-606	606	13	30	0,9	2,4×1011	6	4	3
Пример 607	CP-607	607	13	30	1,0	2,4×1011	6	4	3
Пример 608	CP-608	608	13	30	1,1	2,4×1011	6	4	3
Пример 609	CP-609	609	13	30	1,2	2,3×1011	5	4	3
Пример 610	CP-610	610	20	30	0,8	2,1×1011	5	4	3
Пример 611	CP-611	611	20	30	0,9	2,1×1011	6	4	3
Пример 612	CP-612	612	20	30	1,0	2,0×1011	6	4	3
Пример 613	CP-613	613	20	30	1,1	2,0×1011	6	4	3
Пример 614	CP-614	614	20	30	1,2	2,0×1011	5	4	3
Пример 615	CP-615	615	25	30	0,8	1,9×1011	3	4	3
Пример 616	CP-616	616	25	30	0,9	1,9×1011	4	4	3
Пример 617	CP-617	617	25	30	1,0	1,8×1011	4	4	3

Пример 618	CP-618	618	25	30	1,1	1,8×1011	4	4	3
Пример 619	CP-619	619	25	30	1,2	1,8×1011	3	4	3
Пример 620	CP-620	620	2	40	1,0	6,1×109	5	4	3
Пример 621	CP-621	621	5	40	0,8	5,4×109	5	4	3
Пример 622	CP-622	622	5	40	0,9	5,4×109	6	4	3
Пример 623	CP-623	623	5	40	1,0	5,3×109	6	4	3
Пример 624	CP-624	624	5	40	1,1	5,3×109	6	4	3
Пример 625	CP-625	625	5	40	1,2	5,3×109	5	4	3
Пример 626	CP-626	626	13	40	0,8	4,0×109	5	4	3
Пример 627	CP-627	627	13	40	0,9	4,0×109	6	4	3
Пример 628	CP-628	628	13	40	1,0	3,9×109	6	4	3
Пример 629	CP-629	629	13	40	1,1	3,9×109	6	4	3
Пример 630	CP-630	630	13	40	1,2	3,8×109	5	4	3
Пример 631	CP-631	631	20	40	0,8	3,2×109	5	4	3
Пример 632	CP-632	632	20	40	0,9	3,2×109	6	4	3
Пример 633	CP-633	633	20	40	1,0	3,1×109	6	4	3
Пример 634	CP-634	634	20	40	1,1	3,1×109	6	4	3
Пример 635	CP-635	635	20	40	1,2	3,0×109	5	4	3
Пример 636	CP-636	636	25	40	1,0	2,6×109	4	4	3
Пример 637	CP-637	637	2	45	0,8	5,0×108	4	4	2
Пример 638	CP-638	638	2	45	0,9	5,0×108	5	4	2
Пример 639	CP-639	639	2	45	1,0	5,0×108	5	4	2
Пример 640	CP-640	640	2	45	1,1	5,0×108	5	4	2

Таблица 66
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 641	CP-641	641	2	45	1,2	4,9×108	4	4	2
Пример 642	CP-642	642	5	45	1,0	4,2×108	6	4	2
Пример 643	CP-643	643	13	45	0,8	3,0×108	5	4	2
Пример 644	CP-644	644	13	45	0,9	3,0×108	6	4	2
Пример 645	CP-645	645	13	45	1,0	2,9×108	6	4	2
Пример 646	CP-646	646	13	45	1,1	2,9×108	6	4	2
Пример 647	CP-647	647	13	45	1,2	2,8×108	5	4	2
Пример 648	CP-648	648	20	45	1,0	2,1×108	6	4	2
Пример 649	CP-649	649	25	45	0,8	1,9×108	3	4	2
Пример 650	CP-650	650	25	45	0,9	1,9×108	4	4	2
Пример 651	CP-651	651	25	45	1,0	1,8×108	4	4	2
Пример 652	CP-652	652	25	45	1,1	1,8×108	4	4	2
Пример 653	CP-653	653	25	45	1,2	1,7×108	3	4	2

Таблица 67
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 654	CP-654	654	5	20	0,8	4,3×1012	5	4	3
Пример 655	CP-655	655	5	20	0,9	4,3×1012	6	4	3
Пример 656	CP-656	656	5	20	1,0	4,3×1012	6	4	3
Пример 657	CP-657	657	5	20	1,1	4,3×1012	6	4	3
Пример 658	CP-658	658	5	20	1,2	4,3×1012	5	4	3
Пример 659	CP-659	659	13	20	0,8	3,8×1012	5	4	3
Пример 660	CP-660	660	13	20	0,9	3,8×1012	6	4	3
Пример 661	CP-661	661	13	20	1,0	3,8×1012	6	4	3
Пример 662	CP-662	662	13	20	1,1	3,8×1012	6	4	3
Пример 663	CP-663	663	13	20	1,2	3,7×1012	5	4	3
Пример 664	CP-664	664	20	20	0,8	3,5×1012	5	4	3
Пример 665	CP-665	665	20	20	0,9	3,5×1012	6	4	3
Пример 666	CP-666	666	20	20	1,0	3,4×1012	6	4	3
Пример 667	CP-667	667	20	20	1,1	3,4×1012	6	4	3
Пример 668	CP-668	668	20	20	1,2	3,4×1012	5	4	3
Пример 669	CP-669	669	5	30	0,8	1,5×1011	5	4	3
Пример 670	CP-670	670	5	30	0,9	1,5×1011	6	4	3

Пример 671	CP-671	671	5	30	1,0	1,4×1011	6	4	3
Пример 672	CP-672	672	5	30	1,1	1,4×1011	6	4	3
Пример 673	CP-673	673	5	30	1,2	1,4×1011	5	4	3
Пример 674	CP-674	674	13	30	0,8	1,2×1011	5	4	3
Пример 675	CP-675	675	13	30	0,9	1,2×1011	6	4	3
Пример 676	CP-676	676	13	30	1,0	1,1×1011	6	4	3
Пример 677	CP-677	677	13	30	1,1	1,1×1011	6	4	3
Пример 678	CP-678	678	13	30	1,2	1,1×1011	5	4	3
Пример 679	CP-679	679	20	30	0,8	9,8×1010	5	4	3
Пример 680	CP-680	680	20	30	0,9	9,8×1010	6	4	3
Пример 681	CP-681	681	20	30	1,0	9,5×1010	6	4	3
Пример 682	CP-682	682	20	30	1,1	9,5×1010	6	4	3
Пример 683	CP-683	683	20	30	1,2	9,3×1010	5	4	3
Пример 684	CP-684	684	5	40	0,8	1,2×109	5	4	3
Пример 685	CP-685	685	5	40	0,9	1,2×109	6	4	3
Пример 686	CP-686	686	5	40	1,0	1,2×109	6	4	3
Пример 687	CP-687	687	5	40	1,1	1,2×109	6	4	3
Пример 688	CP-688	688	5	40	1,2	1,2×109	5	4	3
Пример 689	CP-689	689	13	40	0,8	8,2×108	5	4	3
Пример 690	CP-690	690	13	40	0,9	8,2×108	6	4	3

Таблица 68
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Пример 691	CP-691	691	13	40	1,0	8,0×108	6	4	3
Пример 692	CP-692	692	13	40	1,1	8,0×108	6	4	3
Пример 693	CP-693	693	13	40	1,2	7,7×108	5	4	3
Пример 694	CP-694	694	20	40	0,8	6,2×108	5	4	3
Пример 695	CP-695	695	20	40	0,9	6,2×108	6	4	3
Пример 696	CP-696	696	20	40	1,0	5,9×108	6	4	3
Пример 697	CP-697	697	20	40	1,1	5,9×108	6	4	3
Пример 698	CP-698	698	20	40	1,2	5,6×108	5	4	3
Пример 699	CP-699	699	13	30	1,0	1,1×1011	6	4	3
Пример 700	CP-700	700	13	30	1,0	4,7×1011	6	4	3

Таблица 69
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 129	CP-C129	C129	-	-	-	2,1×1013	1	3	3
Сравнительный пример 130	CP-C130	C130	-	-	-	3,3×1011	1	4	3
Сравнительный пример 131	CP-C131	C131	-	-	-	5,5×108	1	4	2
Сравнительный пример 132	CP-C132	C132	1	15	1,0	2,1×1013	2	3	3
Сравнительный пример 133	CP-C133	C133	1	31	1,0	3,2×1011	2	4	3
Сравнительный пример 134	CP-C134	C134	1	47	1,0	5,2×108	2	4	2
Сравнительный пример 135	CP-C135	C135	30	15	1,0	1,6×1013	2	3	3
Сравнительный пример 136	CP-C136	C136	30	31	1,0	1,7×1011	2	4	3
Сравнительный пример 137	CP-C137	C137	30	47	1,0	1,5×108	2	4	2

Сравнительный пример 138	CP-C138	C138	-	-	-	6,1×1012	1	3	3
Сравнительный пример 139	CP-C139	C139	-	-	-	1,7×1010	1	4	3
Сравнительный пример 140	CP-C140	C140	-	-	-	1,9×106	1	4	2
Сравнительный пример 141	CP-C141	C141	2	10	1,0	6,0×1013	5	1	3
Сравнительный пример 142	CP-C142	C142	5	10	1,0	5,9×1013	6	1	3
Сравнительный пример 143	CP-C143	C143	13	10	1,0	5,6×1013	6	1	3
Сравнительный пример 144	CP-C144	C144	20	10	1,0	5,4×1013	6	1	3
Сравнительный пример 145	CP-C145	C145	25	10	1,0	5,2×1013	4	1	3
Сравнительный пример 146	CP-C146	C146	2	52	1,0	2,4×107	5	4	1
Сравнительный пример 147	CP-C147	C147	5	52	1,0	2,0×107	6	4	1
Сравнительный пример 148	CP-C148	C148	13	52	1,0	1,3×107	6	4	1
Сравнительный пример 149	CP-C149	C149	20	52	1,0	8,8×106	6	4	1
Сравнительный пример 150	CP-C150	C150	25	52	1,0	7,0×106	4	4	1

Таблица 70
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 151	CP-C151	C151	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 152	CP-C152	C152	-	-	-	2,6×1011	1	4	3
Сравнительный пример 153	CP-C153	C153	-	-	-	2,8×1011	1	4	3
Сравнительный пример 154	CP-C154	C154	-	-	-	2,7×1011	1	4	3
Сравнительный пример 155	CP-C155	C155	-	-	-	2,6×1011	1	4	3
Сравнительный пример 156	CP-C156	C156	-	-	-	2,3×1011	1	4	3
Сравнительный пример 157	CP-C157	C157	-	-	-	2,5×1011	1	4	3
Сравнительный пример 158	CP-C158	C158	-	-	-	2,4×1011	1	4	3

Таблица 71
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+ (V2/VT)}× 100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 159	CP-C159	C159	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 160	CP-C160	C160	-	-	-	2,7×1011	1	4	3
Сравнительный пример 161	CP-C161	C161	-	-	-	3,2×1011	1	4	3
Сравнительный пример 162	CP-C162	C162	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 163	CP-C163	C163	-	-	-	2,9×1011	1	4	3
Сравнительный пример 164	CP-C164	C164	-	-	-	2,9×1011	1	4	3
Сравнительный пример 165	CP-C165	C165	-	-	-	2,9×1011	1	4	3

Таблица 72
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+(V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 166	CP-C166	C166	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 167	CP-C167	C167	-	-	-	2,8×1011	1	4	3
Сравнительный пример 168	CP-C168	C168	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 169	CP-C169	C169	-	-	-	2,6×1011	1	4	3
Сравнительный пример 170	CP-C170	C170	-	-	-	3,3×1011	1	4	3
Сравнительный пример 171	CP-C171	C171	-	-	-	3,0×1011	1	4	3

Таблица 73
	Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя	Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента	{(V2/VT)/(V1/VT)}×100	{(V1/VT)+(V2/VT)}×100	R2/R1	Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]	Результат оценки
Память рисунка	Остаточный потенциал	Наличие трещин
Сравнительный пример 172	CP-C172	C172	-	-	-	2,9×1011	1	4	3
Сравнительный пример 173	CP-C173	C173	-	-	-	2,9×1011	1	4	3
Сравнительный пример 174	CP-C174	C174	-	-	-	2,9×1011	1	4	3
Сравнительный пример 175	CP-C175	C175	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 176	CP-C176	C176	-	-	-	2,8×1011	1	4	3
Сравнительный пример 177	CP-C177	C177	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 178	CP-C178	C178	-	-	-	3,0×1011	1	4	3
Сравнительный пример 179	CP-C179	C179	-	-	-	1,9×1012	1	4	3

Таблица 74
	Категория памяти рисунка
	6	5	4	3	2	1
Сплошное черное изображение	Ненаблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое
Полутоновое изображение	Изображение с одноточечным рисунком с шахматным расположением	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое
	С поперечными одноточечными линиями с одноточечным промежутком	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое
	С поперечными двухточечными линиями с трехточечным промежутком	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Наблюдаемое	Наблюдаемое
	С поперечными одноточечными линиями с двухточечным промежутком	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Ненаблюдаемое	Наблюдаемое

Несмотря на то, что данное изобретение описано здесь со ссылками на типичные варианты осуществления, следует понимать, что данное изобретение не ограничивается этими описанными типичными вариантами осуществления. Объем представленной ниже формулы изобретения предоставляет наиболее широкое толкование, с тем, чтобы охватывать все такие модификации, эквивалентные структуры и функции.

Эта заявка притязает на приоритет по заявкам на патент Японии № 2012-189532, зарегистрированной 30 августа 2012 г., № 2013-077617, зарегистрированной 3 апреля 2013 г., и № 2013-177141, зарегистрированной 28 августа 2013 г., которые включены настоящим посредством ссылки во всей их полноте.

Список обозначений

1 электрофотографический фоточувствительный элемент

2 ось

3 узел для зарядки (первичный узел для зарядки)

4 экспонирующий свет (свет, передающий изображение)

5 узел для проявления

6 узел для переноса (такой как валик для переноса)

7 узел для очистки (такой как очистной ракельный нож)

8 фиксирующий узел

9 технологический картридж

10 направляющий узел

11 предэкспозиционный свет

P материал для переноса (такой как бумага)

1. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором,
частицы оксида олова, легированного фосфором, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как V_1P и общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V_2P, величины V_T, V_1P и V_2P удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2):
2≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤25 (1);
15≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤45 (2).

2. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 1, в котором величины V_T, V_1P и V_2P удовлетворяют приведенному ниже выражению (3):
5≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤20 (3).

3. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 1, в котором величины V_T, V_1P и V_2P удовлетворяют приведенному ниже выражению (4):
20≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤40 (4).

4. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 1, в котором если отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, представлено как R_1P [ат.%] и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного фосфором, представлено как R_2P [ат.%], то величины R_1P и R_2P удовлетворяют приведенному ниже выражению (5):
0,9≤R_2P/R_1P≤1,1 (5).

5. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом,
частицы оксида олова, легированного вольфрамом, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V_1W и общий объем частиц оксида олова, легированного вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V_2W, величины V_T, V_1W и V_2W удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7):
2≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤25 (6);
15≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤45 (7).

6. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 5, в котором величины V_T, V_1W и V_2W удовлетворяют приведенному ниже выражению (8):
5≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤20 (8).

7. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 5, в котором величины V_T, V_1W и V_2W удовлетворяют приведенному ниже выражению (9):
20≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤40 (9).

8. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 5, в котором если отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, представлено как R_1W [ат.%] и отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного вольфрамом, представлено как R_2W [ат.%], то величины R_1W и R_2W удовлетворяют приведенному ниже выражению (10):
0,9≤R_2W/R_1W≤1,1 (10).

9. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором,
частицы оксида олова, легированного фтором, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, в электропроводном слое представлен как V_1F и общий объем частиц оксида олова, легированного фтором, в электропроводном слое представлен как V_2F, величины V_T, V_1F и V_2F удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12):
2≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤25 (11);
15≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤45 (12).

10. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 9, в котором величины V_T, V_1F и V_2F удовлетворяют приведенному ниже выражению (13):
5≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤20 (13).

11. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 9, в котором величины V_T, V_1F и V_2F удовлетворяют приведенному ниже выражению (14):
20≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤40 (14).

12. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 9, в котором если отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, представлено как R_1F [ат.%] и отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного фтором, представлено как R_2F [ат.%], то величины R_1F и R_2F удовлетворяют приведенному ниже выражению (15):
0,9≤R_2F/R_1F≤1,1 (15).

13. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием,
частицы оксида олова, легированного ниобием, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, в электропроводном слое представлен как V_1Nb и общий объем частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое представлен как V_2Nb, величины V_T, V_1Nb и V_2Nb удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17):
2≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/VT)}×100≤25 (16);
15≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/VT)}×100≤45 (17).

14. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 13, в котором величины V_T, V_1Nb и V_2Nb удовлетворяют приведенному ниже выражению (18):
5≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/V_T)}×100≤20 (18).

15. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 13, в котором величины V_T, V_1Nb и V_2Nb удовлетворяют приведенному ниже выражению (19):
20≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/V_T)}×100≤40 (19).

16. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 13, в котором если отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, представлено как R_1Nb [ат.%] и отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного ниобием, представлено как R_2Nb [ат.%], то величины R_1Nb и R_2Nb удовлетворяют приведенному ниже выражению (20):
0,9≤R_2Nb/R_1Nb≤1,1 (20).

17. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом,
частицы оксида олова, легированного танталом, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, в электропроводном слое представлен как V_1Ta и общий объем частиц оксида олова, легированного танталом, в электропроводном слое представлен как V_2Ta, величины V_T, V_1Ta и V_2Ta удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22):
2≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤25 (21);
15≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤45 (22).

18. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 17, в котором величины V_T, V_1Ta и V_2Ta удовлетворяют приведенному ниже выражению (23):
5≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤20 (23).

19. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 17, в котором величины V_T, V_1Ta и V_2Ta удовлетворяют приведенному ниже выражению (24):
20≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤40 (24).

20. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 17, в котором если отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, представлено как R_1Ta [ат.%] и отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного танталом, представлено как R_2Ta [ат.%], то величины R_1Ta и R_2Ta удовлетворяют приведенному ниже выражению (25):
0,9≤R_2Ta/R_1Ta≤1,1 (25).

21. Технологический картридж, присоединяемый с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства, где технологический картридж содержит в интегрированном виде:
электрофотографический фоточувствительный элемент по любому из пп. 1-20; и
по меньшей мере один узел, выбранный из группы, состоящей из узла для зарядки, узла для проявления, узла для переноса и узла для очистки.

22. Электрофотографическое устройство, содержащее:
электрофотографический фоточувствительный элемент по любому из пп. 1-20;
узел для зарядки;
узел для экспонирования;
узел для проявления; и
узел для переноса.