Устройство для генерации плазмы высокочастотного разряда



Устройство для генерации плазмы высокочастотного разряда
Устройство для генерации плазмы высокочастотного разряда
H05H1/30 - Плазменная техника (термоядерные реакторы G21B; ионно-лучевые трубки H01J 27/00; магнитогидродинамические генераторы H02K 44/08; получение рентгеновского излучения с формированием плазмы H05G 2/00); получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов (получение нейтронов от радиоактивных источников G21, например G21B,G21C, G21G); получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов (атомные часы G04F 5/14; устройства со стимулированным излучением H01S; регулирование частоты путем сравнения с эталонной частотой, определяемой энергетическими уровнями молекул, атомов или субатомных частиц H03L 7/26)

Владельцы патента RU 2633707:

Беспала Евгений Владимирович (RU)
Мышкин Вячеслав Федорович (RU)

Изобретение относится к средствам формирования плазмы высокочастотных разрядов и может быть использовано, например, для травления поверхности, проведении газофазных плазмохимических реакций, спектрального анализа жидких и твердых проб. Устройство для генерации высокочастотного разряда содержит катод и анод, установленные через разрядный промежуток. Анод электрически соединен с фидером высоковольтного высокочастотного генератора. Катод выполнен в виде дополнительного электрода, соединенного электрически с одной из обкладок конденсатора переменной емкости. Другая обкладка этого конденсатора электрически изолирована как от шины заземления, так и общего провода высоковольтного ВЧ-генератора. Техническим результатом является возможность формирования неравновесной плазмы высокочастотных разрядов, электронная температура которой сопоставима с электронной температурой плазмы факельного разряда, а газовая температура сопоставима с газовой температурой плазмы дугового разряда. 3 ил.

 

Изобретение относится к электротехнологии, в частности к устройствам для формирования высокочастотных разрядов, и может быть использовано, например, для травления поверхности, проведении газофазных плазмохимических реакций, спектрального анализа жидких и твердых проб.

Известно устройство для получения плазмы многофакельного разряда в неоднородном электрическом поле [SU 283181 А1, МПК 6 B01J 6/00, опубл. 6.10.1970], содержащее корпус, источник высокого напряжения, электроды. Для ввода-вывода реагентов корпус снабжен патрубками. Электроды размещены в воздушной среде. Анод выполнен в виде проволоки, располагаемой в изоляционной трубе. Изоляционная труба снабжена рядом отверстий для формирования факельных разрядов.

Недостатком устройства является разрушение изоляционной трубы из-за постоянного теплового воздействия каналом разряда и формирование градиента температуры по периметру отверстия в изоляционной трубе, близкой к пороговому для материала изоляционной трубы.

Известно устройство для возбуждения плазмы высокочастотного факельного разряда [RU 2499373 С1, МПК Н05Н 1/24 (2006.01), опубл. 20.11.2013], содержащее анод, охлаждаемый водой, дополнительный заостренный электрод и внешний электрод. Анод цилиндрической формы установлен внутри диэлектрической трубы и ориентирован по его оси. Диэлектрическая труба заглушена с одной стороны фланцем, по центру которого герметично установлен анод. Анод электрически соединен с высокочастотным генератором. Дополнительный электрод установлен на аноде и ориентирован радиально. Внешний электрод, в виде вогнутой пластины, установлен в области расположения дополнительного электрода снаружи диэлектрической трубы с возможностью перемещения параллельно оси диэлектрической трубы.

Недостатком устройства является возможность разрушения диэлектрической трубы в области между дополнительным и внешним электродами из-за перегрева и пробоя, наличие высокого потенциала на внешнем электроде.

Известно устройство формирования плазмы факельного электрического разряда [SU 1751826 А1, МПК 5 H01J 37/04, опубл. 30.07.1992], выбранное в качестве прототипа, содержащее источник высоковольтного напряжения, систему анодов, каждый из которых установлен в трубу из термостойкого диэлектрика. Труба из термостойкого диэлектрика снабжена с одного торца насадкой из гидрофобного диэлектрика и ориентирована этим торцом к катоду. Каждый анод электрически соединен с источником высоковольтного напряжения через индивидуальный высокоомный резистор. Объект, поверхность которого подлежит обработке, закреплен в держателе объекта, который электрически соединен с катодом источника высоковольтного напряжения.

Недостатком устройства является выделение энергии на индивидуальных высокоомных резисторах, что ограничивает мощность, вкладываемую в разряд, и снижает эффективность использования потребляемой энергии.

Задачей изобретения является расширение арсенала устройств для формирования неравновесной плазмы высокочастотных разрядов, электронная температура которой сопоставима с электронной температурой плазмы факельного разряда, а газовая температура сопоставима с газовой температурой плазмы дугового разряда.

Поставленная задача решена за счет того, что устройство для генерации плазмы высокочастотного разряда содержит источник высоковольтного высокочастотного напряжения, анод и дополнительный электрод, установленные через разрядный промежуток.

Технический результат изобретения заключается в обеспечении возможности генерации плазмы высокочастотного разряда.

Технический результат достигается тем, что анод непосредственно соединен с фидером высоковольтного высокочастотного генератора (ВЧ-генератора). Дополнительный электрод выполнен в виде объемного тела, размеры которого не меньше размеров анода. Дополнительный электрод электрически соединен с первой обкладкой воздушного конденсатора переменной емкости. При этом вторая обкладка этого конденсатора электрически изолирована как от шины заземления, так и от общего провода высоковольтного ВЧ-генератора.

На фиг. 1 приведена принципиальная схема устройства для генерации плазмы высокочастотного разряда.

На фиг. 2 приведена фотография разрядного промежутка при генерации плазмы высокочастотного разряда в виде дуги.

На фиг. 3 приведены графики зависимости анодного тока высоковольтного ВЧ-генератора от электрической емкости воздушного конденсатора. График со сплошной линией соответствует расстоянию между электродами 0,3 см, штрихпунктирной - 0,7 см, пунктирной - 1,0 см.

Устройство для генерации плазмы высокочастотного разряда, показанное на фиг. 1, содержит анод 1 и дополнительный электрод 2, выполненные, например, из графита. Пространственная ориентация анода 1 может быть любой, например вертикальной. При этом анод 1 электрически соединен с фидером (на чертеже не показан) высоковольтного ВЧ-генератора 3. Дополнительный электрод 2 электрически соединен с воздушным конденсатором переменной емкости 4. Дополнительный электрод может быть установлен под любым углом к аноду. Дополнительный электрод и анод закреплены в металлических держателях 5. Расстояние между электродами 1 и 2 определяют из условия формирования между этими электродами стабильного каналу объемной плазмы. Расстояние между электродами определяется величиной высоковольтного напряжения, например, для высоковольтного ВЧ-генератора 27,12 МГц, 4 кВт, может быть выбрано в диапазоне 0,3-1,0 см. При расстояниях между электродами менее 0,3 см формируется узкий разрядный канал, характерный для дугового разряда. При расстояниях между электродами более 1,0 см канал дугового разряда отрывается от катода и формируется разряд в виде факела.

Устройство, показанное на фиг. 1, работает следующим образом.

В устройстве для генерации плазмы высокочастотного разряда напряжение с высоковольтного ВЧ-генератора 3 подают на анод 1. Между анодом 1 и дополнительным электродом 2 инициируют электрический газовый разряд, например, путем кратковременного замыкания указанных электродов с помощью металлического провода на изолирующей штанге. Сохраняют неизменными условия протекания высокочастотного тока между анодом 1 и дополнительным электродом 2. Поддерживают высокочастотный разряд между анодом и дополнительным электродом за счет перезарядки воздушного конденсатора переменной емкости 4. Для формирования плазмы высокочастотного разряда поддерживают условия, обеспечивающие одновременное протекание процессов, характерных для плазмы факельного и дугового разрядов. Для этого нагревают плазмообразующий газ как за счет сообщения энергии молекулам при столкновениях с электронами, ускоренными в электрическом поле ВЧ-волны, излучаемой анодом, так и при столкновениях с электронами, ускоренными в электрическом поле между анодом и дополнительным электродом. Этим увеличивают газовую температуру плазмы ВЧ-разряда до значений, характерных для плазмы дугового разряда при электронной температуре, близкой к электронной температуре плазмы факельного разряда.

На фиг. 2 приведена фотография внешнего вида плазмы высокочастотного разряда.

ПРИМЕР

Для генерации плазмы высокочастотного разряда использовали устройство, содержащее анод 1 и дополнительный электрод 2, выполненные из графита марки МПГ-7. Анод 1 ориентирован вертикально и электрически соединен с фидером (на фиг. 1 не показан) высоковольтного ВЧ-генератора 3 марки ВЧГ2-4/27. Дополнительный электрод 2 установлен под углом 90° к аноду 1 и электрически соединен с воздушным конденсатором переменной емкости 4, пластины которого изготовлены из дюралюминия марки Д16Т. Дополнительный электрод 2 и анод 1 закреплены в металлических держателях 5. Расстояние между электродами 1 и 2, для ВЧ-генератора (27,12 МГц, 4 кВт), выбрано равным 0,9 см.

На фиг. 3 приведены графики зависимости анодного тока высоковольтного ВЧ-генератора 3 от величины электрической емкости воздушного конденсатора переменной емкости 4, полученные для описанных выше условий проведения эксперимента. Емкость воздушного конденсатора изменяли в диапазоне 1-60 пФ. При расстояниях между катодом и анодом 0,3-0,7 см между ними стабильно наблюдается разрядный канал в виде дуги. При длине разрядного промежутка 1,0 см формирование разрядного канала в виде электрической дуги возможно лишь при емкости воздушного конденсатора 26 пФ. При емкости воздушного конденсатора 26 пФ стабильно наблюдается разряд в виде электрической дуги при расстояниях разрядного промежутка 0,3-1,0 см. В остальных случаях электрической разряд имеет вид вертикально ориентированного факела.

Плазму высокочастотного разряда, генерируемую с помощью предлагаемого устройства, поддерживают процессами, характерными для плазмы как факельного, так и дугового разрядов. Факельный разряд имеет существенно больший объем плазмы, чем дуговой. При уменьшении объема высокочастотного разряда увеличивается энерговклад в единицу объема газа в разрядном промежутке обратно пропорционально уменьшению объема. Это приводит к увеличению газовой температуры.

В синусоидальном электрическом поле ВЧ электромагнитного излучения электроны ускоряются или тормозятся при смене направления поля. Поэтому при отсутствии других частиц средняя энергия электронов остается постоянной. При столкновениях с ионами или нейтральными частицами мгновенная скорость электронов переходит в их скорость теплового движения. При достижении тепловой энергии электронов энергии одного из переходов между электронными уровнями атома или иона происходит передача энергии от электрона к тяжелой частице. Далее электрон вновь начинает набирать тепловую энергию за счет ускорения в ВЧ электрическом поле и столкновения с атомами или ионами.

При электрическом пробое межэлектродного пространства изменяющееся по гармоническому закону напряжение на аноде 1 заряжает и разряжает воздушный конденсатор. При этом напряжение на воздушном конденсаторе 4 и дополнительном электроде 2 отстает по фазе от напряжения на аноде 1, а между анодом 1 и дополнительным электродом 2 возникает синусоидальное ВЧ электрическое поле. Это поле вызывает синусоидальный ток электронов между анодом 1 и дополнительным электродом 2, что вызывает разогрев электродов. Разогрев анода 1 и дополнительного электрода 2 вызывает термоэмиссию электронов с указанных электродов, а также испарение материала электродов. Термоэмиссия электронов с анода и дополнительного электродов поддерживает ВЧ электрическую дугу между ними.

При этом в ВЧ-разряде одновременно протекают процессы, характерные как для ВЧ факельного разряда, так и для ВЧ-дуги. Поэтому использовании предложенного устройства для генерации плазмы ВЧ-разряда газовая температура плазмы разряда близка до значений, характерных для плазмы дугового разряда, а электронная температура близка к электронной температуре плазмы факельного разряда.

Устройство для генерации плазмы высокочастотного разряда, содержащее источник высоковольтного высокочастотного напряжения, анод и катод, установленные через разрядный промежуток, отличающееся тем, что анод непосредственно соединен с фидером высоковольтного высокочастотного генератора, катод выполнен в виде дополнительного электрода, соединенного электрически с одной из обкладок воздушного конденсатора переменной емкости, при этом другая обкладка этого конденсатора электрически изолирована как от шины заземления, так и от общего провода высоковольтного высокочастотного генератора.



 

Похожие патенты:

Группа изобретений относится к источникам излучения, в частности к лампам барьерного разряда, и может быть использована в различных областях науки и техники, где необходима подсветка коротковолновым ультрафиолетовым или вакуумным ультрафиолетовым излучением, например в фотохимии, в фотобиологии, фотоионизационных приборах.

Изобретение обеспечивает генерацию плотной объемной импульсной плазмы и может быть использовано для интенсификации процессов взаимодействия частиц в объеме и одновременного ограничения температуры поверхности изделий, нагреваемых ионным потоком из плазмы.

Изобретение относится к области переработки зольных отходов угольных тепловых электростанций с целью их утилизации в качестве, в частности, материалов для производства строительных изделий.

Изобретение относится к плазменной технике и технологии и может быть использовано для получения электрического разряда в большом объеме. Технический результат - увеличение объема горения электрического разряда.

Изобретение относится к области генерирования химически активных частиц физическими методами воздействия и может быть использовано в биомедицинских исследованиях.

Изобретение относится к электроду для плазменных горелок для плазменной резки и применению электрода для указанной плазменной горелки. Электрод для плазменных резаков, выполненный в соответствии с изобретением, содержит держатель электрода и эмиссионную вставку, которые соединены друг с другом запрессовкой и/или подгонкой по форме.

Изобретения относятся к способам и устройствам для осуществления тлеющего разряда и могут найти применение при обработке поверхности и нанесении покрытий на поверхности различных изделий в вакууме, в машиностроении для поверхностной термообработки, напыления и упрочнения, а также для получения излучения, например для накачки лазеров.

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано в малогабаритных приборах ЯМР- и ЭПР-спектроскопии высокого спектрального разрешения. Технический результат состоит в повышении степени однородности магнитного поля в рабочей области системы и увеличении его напряженности.

Изобретение относится к области исследования физических свойств вещества, в частности к исследованию процессов в газоразрядных приборах и плазме. Между электродами при фиксированном расстоянии между ними подается напряжение, возникающий ток плавит и испаряет тонкую проволочку, которая размещается между электродами, расстояние от катода до анода выбирается таким, при котором разряд без проволочки самопроизвольно не возникает, а между электродами создаются условия для лавинного пробоя разрядного промежутка, возникающего при наличии в воздухе паров испаряющейся проволочки.

Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано в газоразрядных устройствах с самонакаливаемым полым катодом. Способ изготовления самонакаливаемого полого катода из нитрида титана для систем генерации плазмы включает формирование трубчатого изделия из смеси порошков, содержащей нитрид титана, 10 вес.% титана, не более 2 вес.% пластификатора поливинилбутираля, импульсным или статическим прессованием, экструзией, шликерным литьем или альтернативным способом, отжиг трубчатого изделия в вакуумной печи в потоке азота при давлении 1 Па при температуре 500°С в течение 1 ч для термического разложения пластификатора и удаления продуктов разложения из объема трубчатого изделия, установку трубчатого изделия в качестве катодного электрода в электроразрядную систему, содержащую анодный электрод, постоянную прокачку азота через трубчатое изделие, приложение между анодом и трубчатым изделием напряжения и зажигание тлеющего разряда между трубчатым изделием и анодом, ток которого постепенно увеличивают по мере прекращения дугообразования, что обеспечивает удаление поверхностных загрязнений и рост температуры трубчатого изделия, переход разряда в термоэмиссионный дуговой режим и нагрев катода до температуры 2000°С.

Изобретение относится к области термообработки посредством плазменной горелки. Расходуемый компонент горелки для термообработки включает в себя приемник, размещенный внутри упомянутой горелки для термообработки, причем расходуемый компонент содержит:- корпус расходуемого компонента; и- сигнальное устройство, содержащее опознавательную метку идентификации по радиочастотным сигналам (RFID), расположенную на или в корпусе расходуемого компонента, для передачи сигнала, связанного с расходуемым компонентом, причем сигнал является независимым от выявляемой физической характеристики расходуемого компонента. Сигнальное устройство выполнено с возможностью хранения информации, которая должна быть передана сигналом, идентифицирующим два или более из наименования, торгового знака, изготовителя, серийного номера, предыстории использования, по меньшей мере одного рабочего параметра и типа расходуемого материала, и при этом упомянутое сигнальное устройство расположено внутри упомянутой горелки для термообработки, когда расходуемый компонент установлен в эту горелку для термообработки, и сигнальное устройство выполнено с возможностью позволять сигналу быть считываемым упомянутым приемником внутри горелки для термообработки. Технический результат - облегчение управления и оптимизация работы плазменной горелки. 5 н. и 26 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к области плазменной техники. Устройство включает в себя ускоритель плазмы с воронкообразным участком высокой степени сжатия, отходящим от входа ускорителя, и вытянутым участком, соединенным с воронкообразным участком высокой степени сжатия, который может располагаться между концом воронкообразного участка и выходом ускорителя. Воронкообразный участок может иметь в продольном разрезе форму крутого конуса, тогда как вытянутый участок может обладать более пологой и плавной конусностью по всей своей длине в направлении выхода. Указанное устройство также включает в себя источник питания для возбуждения импульса ускорения, генерирующего толкающий магнитный поток, который обеспечивает ускорение и сжатие тора плазмы по всей длине ускорителя. Импульс тока может иметь такую форму, чтобы его величина за тором плазмы на выходе вытянутого участка была значительно меньше величины импульса тока у первого конца вытянутого участка, а давление тора плазмы на выходе вытянутого участка превышало давление тора плазмы в начале вытянутого участка. Технический результат - расширение функциональных возможностей устройства. 2 н. и 11 з.п. ф-лы, 9 ил.

Изобретение относится к области плазменной техники. Источник (1) плазмы, предназначенный для нанесения покрытия на подложку (9) и выполненный с возможностью соединения с источником (Р) энергии, содержит электрод (2), магнитный узел (4), находящийся на периферии упомянутого электрода и содержащий совокупность магнитов, соединенных между собой магнитной опорой (46), включающий в себя по меньшей мере первый и второй центральные магниты (43, 44) и по меньшей мере один головной магнит (45), электрически изолирующую оболочку (5), расположенную таким образом, чтобы окружать электрод и магниты. Технический результат - повышение качества покрытия путем повышения плотности и однородности плазмы. 2 н. и 18 з.п. ф-лы, 7 ил., 2 табл.

Изобретение относится к соединительному компоненту для сборки в головку горелки для обработки материалов. Этот соединительный компонент содержит цилиндрический корпус, который включает в себя проксимальный конец и дистальный конец, определяющие продольную ось. По меньшей мере две резьбовые области располагаются в радиальном положении на поверхности корпуса около проксимального конца. Каждая резьбовая область включает в себя по меньшей мере одну нитку резьбы, расположенную на поверхности корпуса. В дополнение к этому, по меньшей мере две нерезьбовые области ориентируются продольно в радиальном положении на поверхности корпуса. 6 н. и 54 з.п. ф-лы, 27 ил.

Изобретение относится к плазменной и медицинской технике и может быть использовано для активации иммунного ответа и процессов заживления, уменьшения микробного обсеменения инфицированных ран и язв, их обеззараживания неравновесной аргоновой плазмой атмосферного давления без инициации новых полирезистентных штаммов, для лечения бактериальных, грибковых и вирусных воспалений кожи. Технический результат - упрощение устройства с одновременным повышением стабильности его работы и обеспечение более равномерного и эффективного дезинфицирующего воздействия низкотемпературной плазмы на раневые поверхности биологической ткани на обширной поверхности, уменьшение габаритов устройства с целью удобства его переносного использования в полевых и/или иных экстремальных условиях. Способ включает создание струи холодной газоразрядной плазмы атмосферного давления. Для создания выносимой плазменной струи используют систему электродов из острийного катода и цилиндрического анода, в которой цилиндрический анод коаксиально охватывает острийный катод. Разряд инициируют подачей между электродами постоянного напряжения 10-20 кВ. Поток аргона напускают вдоль острийного катода с расходом 1-10 л/мин. Устойчивое горение слаботочного высоковольтного искрового разряда достигается балластным сопротивлением 10-63 МОм. Газоразрядное устройство содержит острийный катод, цилиндрический анод, систему напуска газа, источник электрического питания и стерилизуемый (дезинфицируемый) объект. Острийный катод выполнен с радиусом закругления острия 30 мкм и установлен на оси изолятора, на периферии изолятора установлен цилиндрический анод, коаксиально охватывающий острийный катод, в изоляторе выполнены продольные отверстия нагнетания аргона в разрядный промежуток, соплом плазменной струи служит открытый торцевой срез цилиндрического анода. 2 н.п. ф-лы, 6 ил.

Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано для плазменной обработки термочувствительных поверхностей, стерилизации, а также для дезинфекции раневых поверхностей и стимулирования процессов их заживления. Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей содержит разрядную камеру (1), выполненную из диэлектрического материала, систему подачи и контроля газа (2), осевой электрод (3), который продет через изолирующую трубку (4) и установлен внутри разрядной камеры (1) герметичным держателем (5), заземленный кольцевой электрод (6), закрепленный на цилиндрической диэлектрической втулке (7), которая вставлена в разрядную камеру (1). При этом источник переменного напряжения (8) подключен через ограничивающий величину тока резистор (9) и резистор обратной связи (10) к разрядному промежутку между осевым (3) и заземленным кольцевым (6) электродами, а также соединен с модулятором выходного напряжения (11). Изобретение обеспечивает эффективную обработку термочувствительных поверхностей за счет повышения стабильности параметров разряда, а также существенное снижение себестоимости за счет упрощения конструкции устройства. 3 з.п. ф-лы, 3 ил., 2 пр.

Изобретение относится к наукоемкой технологии и может быть применено для плазменно-электромагнитного воздействия на различные виды материальной среды, расположенной как на близком, так и значительном расстояниях от излучателя. Технический результат - повышение эффективности устройства. Плазмотрон включает коаксиально расположенные конденсаторные пластины, между которыми расположены излучатель и по меньшей мере пара выполненных из пористого проницаемого керамического (фаянсового) состава для подачи кислорода и водорода труб, изолированных диэлектрическим огнеупорным составом, причем кислород и водород по трубам подается в камеру смешивания, после чего в разрядной камере происходит пробой смеси с образованием водяной плазмы, которая, дополнительно ускоряясь электромагнитным полем излучателя, линейно излучается в пространство. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к области плазменно-электромагнитного воздействия на различные виды материальной среды, расположенной как на близком, так и значительном расстояниях от излучателя. Технический результат - повышение излучающей мощности плазменного потока, Образованная из гремучего газа плазма ускоряется электромагнитным полем, представляющим собой сумму электрического и магнитного полей, при этом для воспламенения гремучего газа напряженность электрического поля разрядной камеры превышает напряжение пробоя, гремучего газа, подаваемого из смесительной камеры в разрядную, а магнитное поле, ускоряющее образованную плазму, представляет собой сумму нескольких магнитных полей, которые образуются магнитопроводом, его обмоточным проводом и двумя параллельно соединенными индуктивностями, пара индуктивностей последовательно электрически связана со вторичной обмоткой и обмоткой обратной связи трансформатора, эти обмотки имеют форму полой спирали, внутри которой прокачивается охлаждающая вода. Горячая выходная вода из обмоток поступает на вход устройства разложения воды, на выходе которого образованный гремучий газ поступает в разрядную камеру. 1 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к способу и системе для нанесения покрытий на подложку. В системе узел нанесения покрытия расположен внутри вакуумной камеры. Узел нанесения покрытия включает источник паров, обеспечивающий наносимый на подложку материал, подложкодержатель, удерживающий подложку, на которую наносят покрытие, таким образом, чтобы они располагались перед источником паров, узел катодной камеры и удаленный анод. Узел катодной камеры включает катод, необязательный первичный анод и экран, изолирующий катод от вакуумной камеры. Указанный экран имеет отверстия для пропускания тока электронной эмиссии от катода в вакуумную камеру. Источник паров расположен между катодом и удаленным анодом, а удаленный анод соединен с катодом. Система включает первичный источник питания, присоединенный между катодом и первичным анодом, и вторичный источник питания, присоединенный между узлом катодной камеры и удаленным анодом. Способ включает генерирование первичной дуги в испускающем электроны катодном источнике между катодной мишенью и первичным анодом, генерирование удаленной дуги, удерживаемой в зоне нанесения покрытия между узлом катодной камеры и анодом, соединенным с катодной мишенью, и генерирование потока паров металла из источника паров металла по направлению к по меньшей мере одной подложке, предназначенной для нанесения покрытия. Получаемые покрытия имеют улучшенную адгезию, гладкость, сверхтонкую микроструктуру, высокую плотность, низкую концентрацию дефектов и пористость и, соответственно, высокие функциональные характеристики.2 н. и 34 з.п. ф-лы, 29 ил.

Изобретение относится к области генерирования плазмы. Устройство содержит по меньшей мере два коаксиальных волновода (4), каждый из которых сформирован из центрального проводника (1) и внешнего проводника (2) для направления сверхвысокочастотных волн в камеру обработки. По меньшей мере два электромагнитных волновода (4) соединены с магнитным контуром (21-22), удлиненным в одном направлении, при этом указанный магнитный контур окружает волноводы, создавая магнитное поле, способное достичь состояния ЭЦР вблизи указанных волноводов. Технический результат - повышение однородности плазмы, направляемой к обрабатываемым подложкам. 8 з.п. ф-лы, 1 табл., 9 ил.
© Патентный поиск, поиск патентов на изобретения - FindPatent.RU 2012-2024
Политика конфиденциальности 2016-04-07 2017-10-21T18:00:27
Наверх