Устройство перемещения и вращения подложкодержателя

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и позволяет изменять расположение покрываемой детали относительно источника распыляемого или испаряемого материала с сохранением осевого вращения детали - подложки. Устройство состоит из опорного фланца 1, в котором выполнены концентрические пазы 4 для разворачивания устройства относительно оси вакуумной камеры и установки стоек 6, посредством которых закрепляется подложкодержатель 7. Подложкодержатель 7 выполнен в виде пластины с проушинами 9 в виде полудисков. По внешнему радиусу полудисков расположены отверстия 10 для закрепления стоек 6. В пластине подложкодержателя 7 установлен подшипниковый узел 13. В подшипниковый узел 13 устанавливается вал 19, вращение которому передается через гибкую передачу (подвижный элемент) 20 от привода вращения 21. На вал 19 крепится втулка 22 с помощью быстросъемных фиксаторов 23. К втулке 22 крепится второй подложкодержатель 24 с покрываемой деталью 25. 4 ил.

 

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме, а более конкретно к устройствам для закрепления и вращения подложек (подложкодержателям). Устройство предназначено для изменения расположения покрываемой детали относительно источника распыляемого или испаряемого материала с сохранением осевого вращения детали - подложки.

Широко известны устройства для закрепления и вращения подложек, когда деталь - подложка располагается в верхней, нижней или боковой части вакуумной камеры напротив источника наносимого материала (например, Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме / А.И. Костржицкий, В.Ф. Карпов, М.П. Кабанченко и др. - М.: Машиностроение, 1991, стр. 98 - 104). Такие системы нанесения покрытия вполне достаточны для обеспечения равномерности толщины покрытия деталей простой геометрической формы. Но в случае деталей сложной геометрической формы, например, полусфера или сегмент шара, из-за разного расстояния от источника распыляемого материала до поверхности детали толщина покрытия на одной поверхности может отличаться в несколько раз. Для исправления этой ситуации можно использовать дополнительные источники наносимого материала, что ведет к существенному увеличению стоимости установок для нанесения покрытий, а в некоторых случаях применение дополнительных источников невозможно из-за конструктивных особенностей вакуумных камер или ведет к замене одной из самых дорогостоящих частей установок - вакуумной камеры.

Известен подложкодержатель (п. РФ №1644553, МПК С23С 14/50, опубл. 15.10.1994 г.), содержащий многоярусный цилиндрический корпус, на ярусах которого размещаются обрабатываемые изделия, и привод вращения, кинематически соединенный с корпусом. Корпус выполнен в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали с гнездами, при этом шаг спирали равен Н≥h, где Н - шаг спирали мм; h - высота обрабатываемой детали, мм, а расстояние между гнездами равно L≥l, где L - расстояние между гнездами, мм; l - наибольший размер обрабатываемой детали, мм.

Благодаря тому, что детали расположены под углом и положение их по отношению к ионному потоку в процессе обработки непрерывно меняется, обеспечивается равномерная объемная конденсация покрытия разных поверхностей обрабатываемых деталей.

Данное устройство может быть использовано для нанесения различных покрытий и тонких пленок. Это устройство позволяет повысить равномерность покрытия по толщине для деталей простой геометрической формы, но для деталей сложной геометрической формы типа полусфера такое расположение деталей неэффективно и может создать обратный эффект - увеличение неравномерности покрытия за счет постоянного изменения расположения поверхностей детали - подложки относительно источника распыляемого материала. Кроме того, для крупногабаритных деталей применение данного изобретения невозможно.

Наиболее близким аналогом заявляемого изобретения, выбранным в качестве прототипа, является устройство перемещения подложкодержателя (п. РФ №2115764, МПК С23С 14/50, опубл. 20.07.1998 г.), содержащее неподвижную опору (основание), соединенную с подложкодержателем, и установленный в неподвижной опоре привод вращения (ввод вращения), соединенный подвижным элементом (дополнительным упругим сильфоном) со вторым подложкодержателем. Подложкодержатель установлен на упругом элементе - сильфоне, связанном с неподвижным основанием, с возможностью вращения относительно горизонтальных осей координат. Между подложкодержателем и неподвижным основанием шарнирно закреплены в вертикальном направлении две тяги - приводы, шарниры на неподвижном основании - цилиндрические, а на подложкодержателе - сферические, причем шарниры на неподвижном основании и подложкодержателе расположены под углом 90° относительно оси сильфона. Второй подложкодержатель установлен на первом с возможностью осевого вращения.

Данное устройство обеспечивает возможность снижения неравномерности толщины пленки за счет варьирования положения подложкодержателя относительно источника распыляемого материала. Причем относительно одной оси движение непрерывно-вращательное, относительно других двух осей возвратно-вращательное.

Это устройство обеспечивает повышение равномерности толщины наносимого покрытия, но для деталей сложной геометрической формы, типа полусфера, возвратно-вращательное движение относительно двух взаимно-перпендикулярных осей может только увеличить неравномерность покрытия. Кроме того, применение данного устройства требует конструктивных изменений вакуумной камеры или вообще ее замену, что ведет к неизбежным экономическим затратам.

Задача, на решение которой направлено изобретение, - повышение равномерности толщины покрытия на деталях - подложках сложной геометрической формы (например, полусферы или сегменты шара) при сохранении неизменной конструкции вакуумной камеры.

Технический результат, полученный при использовании предлагаемого технического решения, - возможность изменения расположения детали - подложки относительно источника распыляемого материала при сохранении постоянного вращательного движения детали относительно собственной оси.

Указанный технический результат достигается тем, что в устройстве перемещения и вращения подложкодержателя, содержащем неподвижную опору, соединенную с подложкодержателем, и установленный в неподвижной опоре привод вращения, соединенный подвижным элементом со вторым подложкодержателем, на котором размещается обрабатываемая деталь, особенность заключается в том, что в неподвижной опоре выполнены концентрические отверстия, в которых установлены параллельные стойки, соединяющие неподвижную опору с подложкодержателем, который выполнен в виде пластины, с двух противоположных сторон которой установлены проушины в виде полудисков, по внешнему радиусу полудисков расположены отверстия для закрепления стоек, в пластине выполнены ряды параллельных отверстий, в которые крепится подшипниковый узел, соединенный подвижным элементом с приводом вращения, в подшипниковом узле установлен вал, соединенный с подвижным элементом и вторым подложкодержателем.

Создание устройства перемещения и вращения подложкодержателя указанным способом позволяет осуществлять оптимальное расположение подложки относительно источника распыляемого материала при сохранении вращения подложки относительно собственной оси. Этого добились за счет следующего: для перемещения подложкодержателя относительно вертикальной оси (вокруг вертикальной оси) используются концентрические пазы в неподвижной опоре для закрепления стоек; для вертикального перемещения подложкодержателя (вверх, вниз) изменяется длина стоек; для изменения угла наклона подложкодержателя относительно горизонта закрепляют стойки в различных отверстиях проушин; для горизонтального перемещения подложкодержателя (вправо, влево) используются отверстия в пластине, которые позволяют закреплять подшипниковый узел в различных положениях; при этом, подшипниковый узел совместно с валом и подвижным элементом обеспечивают вращение второго подложкодержателя (на котором устанавливается обрабатываемая деталь) относительно собственной оси в любом из положений подложкодержателя. Совокупность перечисленных факторов позволяет изменять положение подложкодержателя относительно всех осей координат а, следовательно, и расположение детали-подложки относительно источника распыляемого материала при сохранении постоянного вращательного движения детали относительно собственной оси. Таким образом решили поставленную задачу - повысили равномерность толщины покрытия на деталях сложной геометрической формы, при этом сохранили неизменной конструкцию вакуумной камеры.

При анализе уровня техники не обнаружено аналогов, характеризующихся признаками, тождественными всем существенным признакам данного изобретения. А также не выявлено факта известности влияния признаков, включенных в формулу, на технический результат заявляемого технического решения. Следовательно, заявленное изобретение соответствует условиям «новизна» и «изобретательский уровень».

На фиг. 1 главный вид устройства перемещения и вращения подложкодержателя в разрезе.

На фиг. 2 изображено заявляемое устройство.

На фиг. 3 представлена принципиальная схема заявляемого устройства.

На фиг. 4 представлено заявляемое устройство в разрезе.

Устройство перемещения и вращения подложкодержателя состоит из опорного фланца 1 (неподвижной опоры), который крепится к потолку вакуумной камеры посредством втулок 2 и гаек 3 (фиг. 1, 2). Во фланце имеются концентрические пазы 4, предназначенные для установки пластин 5, в которые устанавливаются стойки 6, посредством которых закрепляется подложкодержатель 7 через втулки 8. Подложкодержатель 7 выполнен в виде пластины, с двух противоположных сторон которой установлены проушины 9 в виде полудисков. По внешнему радиусу полудисков расположены отверстия 10 для закрепления стоек 6 фиксирующими болтами 11. Фиксирующие болты 11 предназначены для фиксации подложкодержателя 7 в определенном положении. Фиксируя подложкодержатель 7 за различные отверстия 10, можно изменять угол его наклона относительно потолка или дна вакуумной камеры (фиг. 3, траектория в). Таким образом, изменяется угол наклона вращения детали относительно горизонта. Концентрические пазы 4 позволяют разворачивать устройство относительно оси вакуумной камеры (траектория а). Изменение длины стоек 6 позволяет изменять расположение поворотного устройства относительно потолка вакуумной камеры (траектория б). В пластине подложкодержателя 7 выполнен паз 12 для установки подшипникового узла 13, который крепится к пластине подложкодержателя 7 болтами 14 в отверстия 15, которые выполнены параллельными рядами. Устанавливая подшипниковый узел 13 в различные отверстия 15, можно изменять положение оси вращения покрываемой детали относительно подложкодержателя (траектория г). Подшипниковый узел 13 состоит из корпуса 16, в который устанавливаются подшипники 17 и фиксируются крышкой 18 (фиг. 4). В подшипниковый узел 13 устанавливается вал 19, вращение которому передается через гибкую передачу (подвижный элемент) 20 от привода вращения 21. На вал 19 крепится втулка 22 с помощью быстросъемных фиксаторов 23. К втулке 22 крепится второй подложкодержатель 24 с покрываемой деталью 25. Таким образом, второй подложкодержатель 24 соединен с приводом вращения 21 подвижным элементом.

Изменяя положение стоек 6 в концентрических пазах 4, изменяя длину стоек 6, изменяя угол наклона кронштейна 7 (за счет фиксации в отверстиях 10) и перемещая подшипниковый узел 13 в пазе 12 подложкодержателя 7, добиваются оптимального расположения покрываемой детали относительно источника 26 испаряемого материала при сохранении вращения детали относительно своей оси. При этом добиваются увеличение равномерности покрытия по толщине за счет оптимального расположения детали относительно источника распыляемого материала с сохранением вращения детали относительно своей оси.

Пример. При нанесении покрытий электроннолучевым методом подложка, полусферическая деталь диаметром 300 мм и высотой 150 мм, размещалась на вращателе, имеющем вертикальную ось вращения. При этом, толщина покрытия на наружной поверхности полусферы составляла от 8 мкм у торца детали до 140 мкм в средней части полусферы. После применения данного устройства толщина покрытия по всей поверхности стала в диапазоне от 100 мкм до 140 мкм.

Таким образом, представленные данные свидетельствуют о выполнении при использовании заявляемого изобретения следующей совокупности условий:

- средство, воплощающее заявленное устройство при его осуществлении, предназначено для использования в различных отраслях промышленности для нанесения металлических покрытий вакууме, в частности, на изделия типа тел вращения сложной геометрии, например, полусфер или сегментов шара;

- для заявляемого устройства в том виде, в котором оно охарактеризовано в формуле изобретения, подтверждена возможность его осуществления.

Следовательно, заявляемое изобретение соответствует условию «промышленная применимость».

Устройство для перемещения и вращения подложкодержателей, содержащее неподвижную опору, соединенную с подложкодержателем, и установленный в неподвижной опоре привод вращения, соединенный подвижным элементом со вторым подложкодержателем, на котором размещается обрабатываемая деталь, отличающееся тем, что в неподвижной опоре выполнены концентрические отверстия, в которых установлены параллельные стойки, посредством которых неподвижная опора соединена с подложкодержателем, выполненным в виде пластины, с двух противоположных сторон которой установлены проушины в виде полудисков, при этом по внешнему радиусу полудисков расположены отверстия для закрепления стоек, а в пластине выполнены ряды параллельных отверстий, в которых закреплен подшипниковый узел, соединенный подвижным элементом с приводом вращения, причем в подшипниковом узле установлен вал, соединенный с подвижным элементом и вторым подложкодержателем.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технике для нанесения покрытий на детали машин, а именно к вакуумной ионно-плазменной обработке поверхностей, и может быть использовано для нанесения функциональных покрытий на моноколеса турбомашин.

Изобретение относится к устройству для вакуумной обработки армирующего волокна и способу вакуумной обработки армирующего волокна. Указанное устройство содержит камеру, выполненную с возможностью поддерживания в ней состояния пониженного давления, подающий ролик, расположенный с возможностью подвешивания армирующего волокна в упомянутой камере, устройство для нанесения покрытия, расположенное в упомянутой камере с возможностью пропускания через него армирующего волокна, подвешенного в упомянутой камере, захватное устройство, расположенное с возможностью захвата и удерживания на месте переднего конца армирующего волокна, проходящего через упомянутое устройство для нанесения покрытия и вертикально спадающего вниз, намоточный барабан для наматывания армирующего волокна, обработанного упомянутым устройством для нанесения покрытия, и упругий шнур, отводимый синхронно с вращением намоточного барабана из первого его положения, в котором упругий шнур окружает упомянутый передний конец армирующего волокна, удерживаемый на месте упомянутым захватным устройством, во второе его положение, в котором упругий шнур входит в контакт с армирующим волокном и подводит его к намоточному барабану.

Изобретение относится к области вакуумного напыления на заготовки печатных плат пленочных элементов и схем из различных материалов. Устройство для крепления заготовок плат содержит рамку 1 с технологическими окнами, установленные на рамке 1 по крайней мере две опорные площадки 3 для базирования заготовок плат 2 и механизм фиксации, выполненный в виде установленного в корпусе 6 крепежного элемента 4 с возможностью его жесткого соединения с соответствующей опорной площадкой 3 и подпружиненного относительно корпуса 6 посредством упругого элемента 5, при этом корпус 6 выполнен в виде втулки с прижимным выступом 7 для прижима заготовки платы 2, а втулка установлена с возможностью смещения прижимного выступа 7 относительно опорной площадки 3 и его линейного перемещения вверх-вниз при базировании на рамке 1 заготовки платы 2 в зависимости от ее толщины.

Изобретение относится к способу и устройству для изготовления ротора электростатического гироскопа. Процесс изготовления ротора включает формообразование сферической заготовки ротора, его балансировку и нанесение тонкопленочного износостойкого покрытия переменной толщины.

Изобретение относится к установке магнетронного напыления тонких пленок из карбидов или нитридов кремния на подложку, выполненную из полупроводникового материала, керамики или стекла.

Изобретение относится к области нанесения ионно-плазменных покрытий, а именно к устройству и способу нанесения защитных покрытий. Устройство содержит по меньшей мере одну пару расположенных напротив друг друга вакуумно-дуговых испарителей с общим электроизолированным анодом для каждой пары и одну пару газоразрядных источников ионов, образующих кольцевую зону обработки изделий.

Изобретение относится к манипулятору (1) для динамического позиционирования основы (2), подлежащей обработке, способу термического напыления для нанесения функционального структурированного слоя (20) покрытия на основу (2) и к устройству для его осуществления.

Изобретение относится к СВЧ технике и может быть использовано для изготовления держателей для подложек, на которых формируют методом плазменного парофазного химического осаждения пленки или покрытия различных материалов, в частности углеродные (алмазные) пленки или покрытия.

Изобретение относится к установке для вакуумной обработки изделий и способу вакуумной обработки с использованием упомянутой установки. Заявленная установка предназначена для обработки изделий, закрепленных на карусели (205), размещенной на карусельных салазках (201).

Изобретение относится к нанесению покрытий на изделия в вакууме. Устройство содержит вакуумную камеру, систему термического напыления материала на обе стороны подложки, дисковую карусель, на которой установлены узлы поворота с держателями подложек, систему вакуумной откачки, два неподвижно закрепленных на крышке вакуумной камеры копира для обеспечения вращения подложек на 180° за один оборот карусели, один из которых выполнен в форме кольца, а второй - в форме разомкнутого кольца.

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и позволяет изменять расположение покрываемой детали относительно источника распыляемого или испаряемого материала с сохранением осевого вращения детали - подложки. Устройство состоит из опорного фланца 1, в котором выполнены концентрические пазы 4 для разворачивания устройства относительно оси вакуумной камеры и установки стоек 6, посредством которых закрепляется подложкодержатель 7. Подложкодержатель 7 выполнен в виде пластины с проушинами 9 в виде полудисков. По внешнему радиусу полудисков расположены отверстия 10 для закрепления стоек 6. В пластине подложкодержателя 7 установлен подшипниковый узел 13. В подшипниковый узел 13 устанавливается вал 19, вращение которому передается через гибкую передачу 20 от привода вращения 21. На вал 19 крепится втулка 22 с помощью быстросъемных фиксаторов 23. К втулке 22 крепится второй подложкодержатель 24 с покрываемой деталью 25. 4 ил.

Наверх