Фотополимеризующаяся композиция для получения рельефных изображений

 

- оння

Git " 4l - Е;;,;;„;: Д

ОПИС ИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

275739

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства чав

Заявлено ОЗХ!.1967 (№ 1160659i23-4) с присоединением заявок ч" 1160689/23-4 и Ме 1160690/23-4

Кл. 571., 2/01

Приоритет

Опубликовано ОЗХ11.1970, Бюллетень М 22

Дата опубликования описания 22.Х.1970

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР.ЧГ1К G 03f 7/00

УД К 773.714.6.77.021.1 (088.8) Авторы изобретения

И. И. Ефименко и А, В, Соколов

Заявитель

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ

ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФНЫХ ИЗОБРАЖЕНИЙ

0,5 — 1

35

Изобретение относится к фотополимерпзующимся композициям для получения рельефных изображений, которые могут быть использованы, например, для получения печатных форм в полиграфии или для получения изделий, выполненных фотогравировкой, например при изготовлении полупроводниковых приборов — диодов, триодов и др., а также для изготовления металлических масок, сеток, шаблонов и других изделий в электронной промышленности.

Известны фотополимеризующиеся композиции, состоящие из полимера — сополимера бутадиена и акрилонитрила и сенсибилизатора азидного типа, например 2,6-ди-(4 -азидобензаль) циклогексанона.

Однако эти фотополимеризующиеся композиции удовлетворительно выдерживают действие кислых травнтелей низких и средних концентрац. - й. Концентрированные кислоты, например плавиковая, и особенно окислители, азотная кислота, разрушают эти фотополимеризующиеся композиции. В щелочных средах с концентрацией выше 5 /о эти фотополимеризующиеся композиции не применяются ввиду их недостаточной щелочестойкости.

Предлагаемая композиция отличается тем, что для получения рельефных изображений с высокой химической стойкостью к кислым и щелочным средам любой концентрации, а также высокой стойкостью при электролптических процессах в гальванических ваннах состав ее состоит из хлорвинилового полимера и сенспбилизатора азпдного типа, например 2,6-дп- (4 -азидобензаль) цпклогексанона.

Пример 1. Берут композицию следующего состава:

Лак ХСЛ (ГОСТ 73!3 — 55), лл

Сенспбилпзатор, г

Хлорбензол, лл

Толуол,лл

Расчетное количество сенсибплпзатора (очувствителя) растворяют в смеси хлорбен15 зола и толуола, добавляют в лак ХСЛ и фн. Полученный композиционный лак наносят на обезжиренную поверхность заготовки поливом с последующим цептрпфугпрованием. Для активации фототюлпмеризацпп

20 заготовку с нанесенным слоем подвергают термообработке при 100 — 120 С в течение

10 лин. Затем через стеклянный негатив ртутно-кварцевой лампой производят экспонирование слоя в течение 5 лин прп освещен25 ности 20000 лк. Полученную копию проявляют в смеси органических растворителей, например, бутнлацетат, ацетон и толуол в соотношении 1: 2: 7 об. ч. в течение 3 лин с последующей душевой промывкой водой для

30 удаления остатков растворенного слоя и

Полпхлорвпппловая смола, г

Сенспбилизатор, г

Цпклогексанон, лл

0,5 — 1

100

Перхлорвиниловая смола, г

Сенсибилизатор, г

Хлорбензол, ял

Толуол, лл

0,5 — 1

Составитель Э. Рамзова

Редактор О. Филиппова

Корректор T. А. Абрамова

Заказ 30!7/4 Тираж 480 Подписное

111-!ИИП11 Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 сушкой. Прп необходимости для увеличения адгезип полученного рельефного изобра>кения к подло>кке последнее подвергclIQT термообработке при 180 — 190 С в течение 10 вин до получения черного блестящего слоя.

Пример 2. Берут композицию следующего сосгава:

Расчетное количество смолы растворяют в толуоле, а сенсибилизатор в хлорбензоле. Полученные растворы сливают и фильтруют.

Композицшо наносят па обезжиренную поверхность заготовки путем полива с последующим центрифугированием. Для активации фотополимеризацпи заготовку с нанесенным слоем подвергают термообработке при

100 — 120 С в течение 10 лин. Через стеклянный негатив производят экспонирование слоя ртутно-кварцевыми лампами 5 лан при освещенности 20000 лк. Копшо проявляют в органических растворителях, например в смеси бутплацетат, ацетон, бутанол, в соотношении

1: 2: 7 об. ч. в течение 3 яlt!IL с последующей душевой промывкой водой для удаления остатков растворенного слоя и сушкой. При необходимости полученное рельефное изображение подвергают термообработке при 180—

190 С в течение 10 вин.

Пример 3, Берут композицию следующего состава:

5 Расчетное количество смолы и очувствителя (сенсибилизатора) растворяют в циклогексаноне. Полученный раствор фильтруют. Композицию наносят на обезжиренную поверхность заготовки путем полива с последующим

10 центрифугированием. С целью активации фотополимеризации заготовку с нанесенным слоем сушат при 100 — 120 С в течение 10,вин.

Затем через стеклянный негатив производят экспонирование с помощью ртутнокварцевой

15 лампы в течение 5 лик при освещенности

20000 лк. Копию проявляют в смеси циклогексапона и бутанола (2: 1) в течение 2—

3 лин с последующей душевой промывкой водой и сушкой. Для улучшения адгезии по20 лученного рельефного изобра>кения к подложке последнее нагревают до 180 — 190 С и выдерживают при этой температуре 10 яан.

Предмет изобретения

25 Фотополимерпзующаяся ком позиция для получения рельефных изображений на основе хлорвиниловых полимеров, отличающаяся тем, что, с целью получения рельефных изображений с высокой стойкостью к кислым и

30 щелочным средам любой концентрации, а также высокой стойкостью при электролитическпх процессах в гальванических ваннах, в состав композиции введен сенспбилпзатор азпдного типа, например 2,6-дп- (4 -азпдобен35 заль) циклогексанон.