Светочувствительный материал

 

О П И СА Н И Е

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Саоетских

Социалистических

Рес1тублик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 11 IV.1968 (¹ 1231856/23-4) М. Кл. 6 03f 1/72 с присоеднпe:ïlcì заявки №

Приоритет

Опубликовано 24.11.1972. Бюллетень ¹ 8

Дата опубликования описания 7.IV.1972

Комитет по лолам изобретений и открытий при Сосете Иннистрсе

ССС?

УДК 771.531.17 (088.8) Авторы изобретения

Ю. С, Боков, Н. В. Викулина, Б. A. Догадкин, Б. В. Ероф

А. В. Ларина, В. П. Лаврищев, В. В. Марков, С. Ф. Наум

О. Д. Юрина и Г. Д. Яровая

Заявитель

СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ MATEPHAJI

Изобретение касается светочувствительного материала, фоторезиста, который применяется в электронной, радиотехнической и полиграфической промышлен oc T л.

Известен свсточувствительный материа 7, 5 состоящий из гподложки и светочуBcTBHTPJIBHoго слоя на основе полимера — циклокаучука и сенсибилизатора, например диазида.

Подобные фоторезисты обладают целым рядом достоинств: удовлетворительная светочув- 10 ствительность, хорош;е защитные свойства.

Они используются при получении пленочнык микросхем, печатных .I.7àò, масок, в гальванических опер а циях.

Свойства этих фоторсзисторов и, в первую 15 очередь, адгезия,, имическая стойкость, разрешающая способность, определяются характером входящего в состав фоторезиста — Нолимера (циклокаучука).

В свою очередь свойства последнего оппе- 20 деляются методом его получения, молекулярным весом и т. д.

Эти циклокаучуки получают путем модификации натурального каучука.

В связи с этим, вышеописанные полимеры и 25 фотосоставы на ик основе имеют ряд недостатков, среди которых можно отметить: сложность технологического процесса получения циклокаучуков; невозможность получения этими способами:полимеров с большим молеку- 30 лярным Весом и со степенью циклизации — 1007с, колебание свойств цпклокаучука и, следовательно, фоторезистов в зависимости от вида исходного натурального каучука. Такие фоторезисты, po,le того) имею."г недостаточно =ысокую разрешающую способность, что в значительной c7åBåíè ограничивает область ик применения (воспроизводят отдельную 7Нншо шириной -30 як). Однако в настоящее время имеется необкодимость использования негативных фоторззпстов, обладающик, наряду с хорошими защитными свойствами, также и удовлетворительной разрешающей способностью.

Целью изобретения является получение светочувствительного материала (фоторезиста), обладающего высокими и стабильными защитными свойствами и высокой, по сравнению с ранее существовавшими составами, разреша1ощсй способностью.

По предлагаемому способу светочувствительный материал состоит из подложки и светочувствительного слоя на основе сенсибилизатора, например диазида и полимера — полициклогексадиена-l,3 пли сополпмера циклогексадиена-1,3 с ненасыщенным этпленовым соединением. Указанные полимеры получены Н3вестным способом, Полимер и сенсибнлизатор вводят в соотношении, Всс. ч.: 100:2 — 5.

Яля получения этик. материалов полицикло330421

Составитель Э. Рамзова

Редактор Л. Новожилова

Техред 3. Тараненко

Эаказ 873/14 Изд Хо 343 Тираж 448 11одписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская tûá., д. 4,5

Типография, пр. Сапунова, 2 гексадиен-1,3 или его сополимеры, например с изопреном или дивинилом (кол-во последних колеблется в пределах от 0,5 до 20о/о), растворяют в смеси толуола и ксилола или другой подходящей смеси и к полученному раствору добавляют сенсибилизатор, например диазид, в количестве 2 — 10 4 от веса полимера.

Благодаря использованию предлагаемых негативных светочувствительных композиций, появилась возможность получения защитных покрытий, обладающих, наряду с высокой адгезией и химической способностью также и повышенной разрешающей способностью.

Использование данных фотосоставов позволяет:воспроизводить отдельные элементы схемы размером 5 — 10 мк (по сравнению с

-30 мк для других негативных фоторезистов) .

Разрешающая способность составляет около

7 мк при толщине пленки 2 мк и ширине клина,проявления около 2 мк.

Этот факт открывает большую возможность использования предлагаемых материалов, в микроэлектронике при получении твердых схем, пленочных микросхем, высокоточных масок и т. д.

Кроме того, предлагаемые композиции обладают большей воопроизводимостью в свойствах, чем аналогичные составы на Основе циклокаучуков, так как исходный полимер в этом случае получается путем полимеризации, а не модификации.

Пример 1. Готовят р аствор 100 г полициклогексадиена-1,3 (с молекулярным весом

5129, йодным числом 290 и вязкостью (т1

0,25), полученного по авт. св. СССР № 191797, в смеси 100 мл ксилола и 300 мл толуола, и в раствор вводят 2 г 2,6-ди-4 -азидобензаль) -4метилциклогексанона.

Раствор наносят на,пластинку из кремния.

После удаления растворителя, на подложке образуется пленка толщиной 1 мк. Последнюю облучают через фотошаблон УФ-светом лампы ДРШ-250 на расстоянии 270 мм в течение 7 мин. Затем полученное изображение проявляют IB ксилоле, который удаляет необлученные участки. Элемент схемы на фотошаблоне шириной 7 мк воспроизводится на фоторезисте.

5 После сушки и термообработки при 170 С в течение 15 мин, кремний травят в травителе (HF, НИОз — 1:7) на глубину 50 мк.

П р и и е р 2. Готовят раствор. 100 г сополимера циклогексадиена-1,3 и изопрена (соотно10 шение мономеров 1: 0,1) с йодным числом

270 и вязкостью (т1) 0,18, в смеси 200 мл ксилола и 200 мл толуола и в раствор вводят

4,4 -диазидохалкон в количестве 2 г (сополимер получен по заявке ¹ 1235266/23-5).

15 Можно использовать также сополимер циклогексадиена-1,3 и изопрена в соотношении мономеров 1: 0,2 и с йодным числом 290 и вязкостью (т1) 0,19.

Далее действуют аналогично примеру 1.

20 Пример 3. Готовят раствор 100 г сополимера циклогексадиена-1,3 и дивинила (соотношение мономеров 1: 0,2) с йодным числом

267 и вязкостью (т1) 0,295 в 400 мл н-ксилола и в раствор вводят 2 г 2,6-ди- (4 -азидобен25 з аль) -4-метилциклогексанона.

Полученный раствор наносят на медную пластину толщиной 150 мк.

Далее действуют аналогично примеру 1.

30 Предмет изобретения

1. Светочувствительный материал, состоящий из подложки и светочувствительного слоя на основе полимера и сенсибилизатора, на35 пример диазида, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности материала, обладающего высокой адгезией и химической стойкостью, в качестве полимера в него введен полициклогексадиен-1,3 или со40 полимер циклогексадиена-1,3 с ненасыщенным этиленовьв| соединением.

2. Материал по п. 1, отличающийся тем, что полимер и сенсибилизатор введены в соотношении, вес. ч.: 100: 2 — 5.