Устройство для совмещения заготовки твердой схемы с фотошаблоном и экспонирования

 

О П И С А Н И Е 36757

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союэ Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 23.Ч! П.1968 (№ 1264238!26-25) с присоединением заявки ¹

Приоритет

Опубликовано 23.1.1973. Бюллетень ¹ 8

Дата опубликования описания 16.III.1973

М. Кл. H 05k 3/10

Н 011 19/00

Комитет по делам изобретеиий и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.382.2/3(088 8) Авторы изобретения

А. М. Лутченко, М. П. Шеходанов, И. С. Коровин, Н. А. Холстова, С. А. Сиянов, В. Н. Крепцева и Н. П. Лесковская

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОВМЕЩЕНИЯ ЗАГОТОВКИ ТВЕРДОЙ

СХЕМЫ С ФОТОШАБЛОНОМ И ЗКСПОНИРОВАНИЯ

Изобретение относится к области электронной техники и предназначено для изготовления твердых схем и полупроводниковых приборов.

Известные устройства для совмещения заготовки твердой схемы с фотошаблоном и экспонирования, содержащие манипулятор для совмещения заготовки с фотошаблоном, микроскоп, лампу экспонирования, блоки управления и питания, характеризуются недостаточно высокой точностью совмещения, так как рабочий зазор между заготовкой и фотошаблоном, необходимый для совмещения, устанавливается или щупом, или по базовым упорам.

В предлагаемом устройстве повышение точности совмещения достигается тем, что манипулятор снабжен механизмом прецизионной регулировки рабочего зазора между заготовкой твердой схемы и фотошаблоном.

Кроме того, механизм прецизионной регулировки рабочего зазора выполнен в виде двух подвижных плит, одна из которых снабжена микровинтом и неподвижно соединена с подвижной гильзой, в которой шарнирно закреплен рычаг, проходящий через окно штока манипулятора и связанный с другой подвижной плитой. При этом свободный конец рычага взаимодействует с микровинтом так, что заданный посредством лимба зазор между рычагом и пятой микровинта при движении штока манипулятора вверх образует соответствгнно зазор между подвижными плитами, обеспечивающий при последующем опускании штока манипулятора и зафиксированном положении подвижной гильзы рабочий зазор между фотошаблоном и заготовкой твердой схемы.

На чертеже показан манипулятор с механизмом регулировки рабочего зазора.

Манипулятор содержит шток 1 с плитой 2, подвижную гильзу 8 с плитой 4, цилиндр 5, 10 жестко связанный с каретками б и 7, корпус

8 с закрепленным на нем фотошаблоном 9 и опорную плиту 10. На штоке размещена колонка 11 со сферическим столиком 12 и закрепленной на нем заготовкой 18 твердой

15 схемы. На плите 4 размещена резьбовая втулка 14 с микровинтом 15 и лимбом lб. Рьтчаг 17, шарнирно связанный с подвижной гильзой 8, выступом опирается на основание паза штока манипулятора. На цилиндре 5 размещена тормозная камера 18 с плунжером 19.

Под действием сжатого воздуха шток двигается вверх и поворачивает рычаг 17, который свободным концом упирается в микро25 винт 15 и обеспечивает жесткую кинематическую связь с плитой 4 гильзы 8, Система шток — подвижная гильза двигается .вверх до прижатия заготовки 18 к фотошаблону. Тормозная камера 18 плунжером 19 фиксирует

30 подвижную гильзу в верхнем положении.

Полость цилиндра 5 соединена с вакуумной

367571

Поднисное

Тираж 755

Изд. № 1164

Заказ 530/12

Типография, пр. Сапунова, 2

3 магистралью и шток 1 со столиком 12 опускаются вниз относительно зафиксированной подвижной гильзы до упора плиты 2 в плиту

4; Рычаг l7 возвращается в исходное положение. В случае необходимости изменение величины рабочего зазора достигается поворотом микровинта, после чего цикл повторяется.

Точная ориентация по углу заготовки относительно фотошаблона производится механизмом, выполненным в виде гидропровода, который содержит две камеры, соединенные гидропроводом, два сильфона со штоками, Кроме того, он снабжен микровинтом, который воздействует через систему шток — сильфон — шток на рычаг, обеспечивающий точный поворот заготовки твердой схемы.

Контроль за процессом совмещения осуществляется при помощи микроскопа. Экспонирование проводится после совмещения рисунка заготовки и прижатия к фотошаблону.

Предмет изобретения

1. Устройство для совмещения заготовки твердой схемы с фотошаблоном и экспониро4 вания, содержащее манипулятор для совмещения заготовки с фотошаблоном, микроскоп, лампу экспонирования, отличающееся тем, что, с целью повышения точности совмещения, в

5 него введен механизм прецизионной регулировки рабочего зазора между заготовкой твердой схемы и фотошаблоном.

2. Устройство по и. 1, отличающееся тем, что механизм прецизионной регулировки рабочего зазора выполнен в виде двух подвижных плит, одна яз которых снабжена микровинтом и неподвижно соединена с подвижной гильзой, в которой шарнирно закреплен рычаг, проходящий через окно штока манипулятора и связанный с другой подвижной плитой; при этом свободный конец рычага взаимодействует с микровинтом таким образом, что заданный посредством лимба зазор между рычагом и пятой микровинта при движении штока манипулятора вверх образует соответственно зазор между подвижными плитами, обеспечивающий при последующем опускании штока манипулятора и зафиксированном положении подвижной гильзы рабочий зазор между

25 фотошаблоном и заготовкой твердой схемы.

Устройство для совмещения заготовки твердой схемы с фотошаблоном и экспонирования Устройство для совмещения заготовки твердой схемы с фотошаблоном и экспонирования 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам для фотолитографических процессов, и может быть использовано при изготовлении микросхем

Изобретение относится к технологии трехмерных микромеханических систем
Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых наноматериалов и предназначено для управляемого выращивания наноразмерных нитевидных кристаллов кремния

Изобретение относится к стеклянным подложкам большого диаметра, пригодным для формирования подложек фотошаблонов стороны матрицы и стороны цветного фильтра в жидкокристаллических панелях на тонкопленочных транзисторах

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в производстве электровакуумных приборов, вакуумных интегральных СВЧ-схем и других микросхем

Изобретение относится к фотолитографии и может быть использовано в микроэлектронике

Изобретение относится к способам создания резистивной маски на поверхности подложки
Наверх