Патент ссср 378996

 

ОП И А-Н-И Е

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Союз Советскик

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (б!) Зависимое от авт. свидетельства— (22) Заявлено 12.07.71 (21) 1681450/26-25 (51) М. Кл. Н 01137/02 с присоединением заявки— (32) Приоритет—

Опубликовано 15.06.74. Бюллетень № 22

Дата опубликования описания 30.06.75

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 621.9.018 (088.8) (72) Авторы язобретения

А. Н. Кабанов, А. А. Кафафов и М. П. Голубков (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЛУЧЕВОЙ

ОБРАБОТКИ

Изобретение относится к электроннолучевой обработке материалов, в частности к обработке материалов, обладающих свойством светиться под воздействием электронной бомбардировки.

Известное устройство для электроннолучевой обработки материалов, обладающих свойством светиться под воздействием электронной бомбардировки, содержащее систему формирования электронного пучка, блок управления интенсивностью пучка, рабочую камеру, столик с изделием, сканирующую систему, шаблон, причем сканирующая система состоит из электроннолучевой просвечивающей трубки (ЗЛТ), характеризуется геометрическими искажениями, вносимыми отклоняющей системой трубки, нестабильностью питающих напряжений и разъюстировкой электроннооптической системы в процессе работы.

Предлагаемое устройство позволяет повысить точность обработки благодаря исключению ЭЛТ, которая является дополнительным источником ошибок воспроизведения шаблона, для чего в нем сканирующая система выполнена в виде узла, содержащего изделие, подлежащее обработке, и последовательно расположенные над изделием вдоль оси, параллельной его поверхности, зеркало, установленное под углом 45 к говерхности изделпя, и объектив, в фокусе которого расположен шаблон.

На чертеже схематически представлено предлагаемое устройство.

Устройство содержит электронную пушку 1, магнитную линзу 2, отклоняющую систему 8, генератор 4 разверток, зеркало 5, изделие 6, объектив 7, шаблон 8, фоточувствительный элемент 9, модулятор 10.

10 Устройство работает следующим образом.

Изделие сканируют электронным пучком по закону линейной построчной развертки.

Развертку пучка осуществляют при помощи отклоняющей системы и генератора развертки. Если электронный пучок находится на участке изделия, не подлежащем обработке, то ток пучка достаточен лишь для того, чтобы обеспечить свечение материала, не вызывая его структурных превращений.

Световой поток, создаваемый облучаемым участком, отражается от зеркала и фокусируется объективом в плоскости шаблона. Непосредственно за шаблоном установлен фоточувствительный элемент. Если световой поток проходит через прозрачные участки шаблона, фоточувствительный элемент вырабатывает сигнал, который через модулятор воздействует на электронный пучок, увеличивая

ЗО его интенсивность до величины, достаточной

378996

Предмет изобретения

Составитель И. Еремина

Техред Л. Акимова Корректор И. Симкина

Редактор С. Батыгин

Заказ 369/751 Изд. Ме 1719 Тира>к 760 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Я-35, Раушская наб., д. 4/5

Тип. Харьк. фил. пред. «Патент» для обработки изделия. Если световое пятно выходит на непрозрачный участок шаблона, ток пучка автоматически уменьшают до исходной величины.

Устройство для электроннолучевой обработки материалов, обладающих свойством светиться под действием электронного луча, содержащее систему формирования электронного пучка, блок управления интенсивностью пучка, рабочую камеру, столик с изделием, сканирующую систему и шаблон, отличаюи4ееся тем, что, с целью повышения точности

5 обработки, сканирующая система выполнена в виде узла, содержащего изделие, подлежащее обработке, и последовательно расположенные над изделием вдоль оси, параллельной его поверхности, зеркало, установленное

10 под углом 45 к поверхности изделия, и об>ектив, в фокусе которого расположен шаблон.

Патент ссср 378996 Патент ссср 378996 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к источникам ВУФ-фотонов и химически активных частиц, предназначенным для поверхностной обработки ВУФ-излучением, а также для плазмохимического травления и наращивания материалов на подложках с большой общей обрабатываемой площадью

Изобретение относится к области технической физики, конкретнее к средствам настройки и контроля работы рентгеновских микроанализаторов
Наверх