Очистительное устройство электрографического

 

385466

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К ПАТЕНТУ

Со.оз Советских

Социалистииеских

Республик

Зависимый от патента №вЂ”

М. Кл. 6 03g 15/08

Заявлено 24 111.1969 (№ 1322406/28-12)

Приоритет—

Опубликовано 29 1/.1973. Бюллетень № 25

Дата опубликования описания 16.Х.1973

Государственный квинтет

Совета Мнннотров СССР по дмам нзобретеннй н открытнй

УДК 772.93(088.8) Авторы изобретения

Иностранцы

Стефен Франсис Ройка и Роберт Луис Емеральд (Соединенные Штаты Америки) Иностранная фирма

«Ранк Ксерокс Лимитед» (Великобритания) Заявитель

ОЧИСТИТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО ЭЛЕКТРОГРАФИЧЕСКОГО

АППАРАТА

Известный электрографический аппарат имеет движущийся фотополупроводниковый материал, покрывающий цилиндр, или гибкую бесконечную ленту с расположенными вокруг электрографического слоя технологическими устройствам и элактроврафического процесса (зарядки, экспозиции, проявления, переноса изображения на несущую поверхность, например бумагу, и очистки материала от остатков порошкового проявителя) . Для очистки материала от остаточного порошкового изображения служит очистительное устройство, которое содержит гибкое очищающее лезвие с угловатым острием, установленное под углом к контактируемому с ним движущемуся фотополупроводниковому материалу с остатками проявителя. При этом лезвие удаляет проявитель путем срезания его с материала, для чего острый угол, образуемый между лезвием и поверхностью, несущей скрытое электростатическое изображение, направлен в сторону, противоположную движению 1материала. При таком действии лезвия очистительного устройства возможен быстрый износ очищаемого материала при неоднократном его использова,нии.

В предлагаемом очистительном устройстве электрографического аппарата лезвие имеет соскабливающее действие и образует угол от

20 до 90 с очищаемой поверхностью. При этом угол своей вершиной направлен в сторону движения материала. По мере накопления проявителя на лезвии при очистке оно периодически может быть отведено от очищаемого ма5 териала. В зоне очистки предусмотрены средства для подачи на фотополупроводниковый слой сухого твердого смазочного материала.

Очищающее лезвие может состоять из нескольких лезвенных сегментов или может быть при1О менено несколько гибких очищающих лезвий.

Для саморегулирования положения лезвие установлено шарнирно относительно фотополупроводникового слоя.

Кроме того, фотополупроводниковый мате15 риал, покрывающий цилиндр, может иметь одну или несколь ко параллельных канавок, проходящих аксиально вдоль материала, а очищающее лезвие может иметь средство для ограничения его перемещения, не допускающее

2О попадание лезвия в канавку. При этом длина каждой из канавок должна быть меньше ширины фотополупроводникового материала и длины каждого из гибких очищающих лезвий.

На фиг. 1 схематичесии изображен электрографический аппарат с одним из вариантов очистительного устройства согласно изобретению, поперечный. разрез, на фиг. 2 — то же, но с другим вариантом исполнения очищающего лезвия .и канавками на поверхность материала; на фиг. 3 — 5 различные варианты

385466 расположения очищающего лезвия относительно поверхности фотополупроводникового материала; на фиг. 6 — 7 — схема крепления очищающего лезвия; на фиг. 8 — очищающее лезвие, состоящее из нескольких сегментов; на фиг. 9 — 11 — расположение очищающих лезвий и аксиальных канавок относительно фотополупроводникового материала; на фиг. 12— вариант исполнения электрографического аппарата.

Электрографический аппарат содержит вращающийся цилиндр 1, покрытый фотополупроводниковым слоем 2, однородно заряженным при помощи генерирующего корону устройства 8. Вокруг вращающегося цилиндра в технологической последовательности,размещены устройство 4 для экспонирования изображения на фотополупроводниковый материал, проявляющее устройство 5, в корпусе которого помещен порошок проявителя, наносимый на поверхность светочувствительного слоя цилиндра для получения ксерографического порошкового изображения, которое переносится на движущееся бумажное полотно б, закрепляемое затем, например, при помощи нагревателя 7.

Для очистки поверхности материала от остатка проявителя служит очистительное устройство 8, под которым может быть установлен лоток 9 для сбора проявителя.

Очистительное устройство содержит гибкое очищающее лезвие 10, например, прямоугольного сечения, которое для самоустановки подвиж но закреплено в поворотном держателе 11 на оси 12. Лезвие контактирует с очищаемой поверхностью и установлено под углом к .ней (угол а). При нормальной работе устройства угол а составляет 20 — 90 . Вершина угла лезвия должна быть направлена в сторону движения материала для обеспечения сос кабливающего действия лезвия, кото рое усиливается под действием веса лезвия и его держателя.

Лезвие может быть установлено с наклоном вершины в сторону движения накапливаемого проявителя (фиг. 3 и 4) и с наклоном в противоположную сторону движению материала (фиг. 5). При этом вершина угла должна быть направлена в сторону движения материала.

По мере накопления проявителя на лезвии последнее отводится от материала при помощи кулачкового механизма, содержащего кулачок 18, укрепленный на держателе лезвия и периодически взаимодействующий при повороте цилиндра со вторым кулачкам 14, неподвижно зафиксированным на цилиндре. При повороте последнего кулачки контактируют один с другим, причем кулачок 14 перемещается по криволинейной поверхности кулачка 18, в результате чего держатель с лезвием пр иподнимается над поверхностью цилиндра, обеспечивая свободное движение цилиндра. Остатки порошка проявителя при этом перемещаются вместе с цилиндром и поступают в резервуар

65 проявляющего устройства 5 для повторного ,использования.

Давление, оказываемое,на поверхность материала в результате совместного действия лезвия с держателем и веса кулачка, уравновешивается пружиной 15.

В качестве варианта исполнения оч ищающее лезвие может состоять из нескольких гибких лезвенных сегментов 1б, которые закреплены в пластинах 17 и 18 при помощи заклепок. Каждый из сегментов лезвия может перемещаться через любую неровность поверхности очищаемого материала (фиг. 8).

Для саморегулирования положения лезвия держатель 19 его может быть шарнирно установлен относительно поверхности цилиндра 1 в сочленениях 20 и 21, свободно поворачивающихся относительно один другого (фиг. 7).

Очистительное устройство может иметь несколько гибких лезвий 22 — 24, распределенных по всей, длине очищаемой поверхности,материала. Лезвия в этом случае могут быть закреплены в общем держателе 25.

Длина очищающих лезвий может быть меньше ширины очищаемого материала (фиг.

11), при этом лезвия 2б — 28 закреплены в держателях 29 — 81 и длина каждого из них меньше ширины цилиндра 1.

Для сбора остатков проявляющего порошка,на поверхности фотопроводникового материала может быть выполнено одна или несколько параллельных канавок 82 — 84, расположенных аксиально вдоль оси цилиндра. При этом длина каждой из канавок может быть меньше ширины фотополупроводникового материала и меньше, чем длина каждого очищающего лезвия (фиг. 11). По этому варианту исполнения гибкое очищающее лезвие 85 также подвижно укреплено под углом к очищаемому материалу в поворотном держателе

8б (фиг. 2).

Лезвие находится под действием пружины

87, прижимающей его к поверхности материала. Винт 88, установленный в кронштейне 89, ограничивает нижнее положение лезвия.

Вза имное расположение канавок и лезвий предотвращает попадание лезвий в ка навки во время движения цилиндра и обеспечивает только сбор проявителя.

При вращениями цилиндра остатки порошкового проявителя соскабливаются с поверхности материала и перемещаются лезвием вдоль поверхности до попадания остаточного порошка в канавки, где ска пли ваются и при повороте цилиндра сбрасываются в резервуар проявляющего устройства 5.

В зоне очистки поверхности фотополупроводникового материала предусмотрено средство для подачи на материал сухого твердого смазочного матер нала. В частном случае твердый смазочный материал смешивают с порошковым проявителем в резервуаре проявляющего устройства 5,и подают на поверхность фотополупроводникового материала вместе с проявителем.

385466

В другом случае сухой, смазочный материал содержится в распылителе 40 и выпускается из него на поверхность материала через отверстие 41.

По следующему варианту исполнения (фиг.

12! электрофотогра1фический аппарат имеет в качестве многократно используемого фотополупроводникового материала гибкую бесконечную ленту 42, перемещаемую вдоль технологических устройств электрофотографического процесса. В этом .варианте заряженная, экспонированная в зоне 48, а затем проявленная при памощи устройства 44 поверхность пропускается через порошковое облако сухого твердого смазочного материала в камере 4á, откуда подается в зону 4б переноса изображения на движущуюся бумажную полосу 47.

Остатки проявителя обрабатываются коронирующим электродом 48 для снятия заряда, а затем счищаются с поверхности материала очистительным устройством 49 и собираются в лоток. Очищаются остатки проявителя лезвием, закрепленным в подвижном держателе.

Предмет и зо бр етен и я !. Очист ителыное устройство электрографического аппарата, содержащее гибкое очищающее лезвие с угловатым острием, установленное под углом к контактируемому с ним перемещающемуся фотополупроводниковому материалу с остатками проявителя, отличающееся тем, что, с целью обеспечения соскабливающего действия лезвия и меньшего износа очищаемого материала, лезвие установлено так, что образует угол 20 — 90 с очищаемым материалом, направленный своей вершиной в сторону движения материала, причем по мере накопления проявителя на лезвии, оно может быть отведено от очищаемого материала, а в зоне очистки предусмотрены средства для подачи на фотополупроводниковый материал сухого твердого смазочного материала.

2. Устройство по и. 1, отличающееся тем, что очищающее лезвие состоит из,нескольких лезвенных сегментов.

3. Устройство по и. 1, отличающееся тем, что предусмотрено несколько гибких очищающих лезвий.

4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что длина каждого,из гибких очищающих лез16 вий меньше ширины очищаемого материала.

5. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что фотополупроводниковый материал, покрывающий цилиндр, имеет, по крайней мере, одну канавку, проходящую аксиально вдоль ма20 терпала, а очищающее лезвие снабжено средством для ограничения его перемещения, не дспускающим попадания лезвия в канавку. б. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что акснально вдоль фотополупровод1ннкового материала предусмотрено несколько параллельных канавок.

7. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что длина каждой,из канавок меньше ширины фотополупроводникового материала.

8. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что длина каждой из канавок меньше, чем длина каждого .из гибких очищающих лезвий.

9. Устройство по п, 1, отличающееся тем, что, с целью саморегулирования лезвия, оно установлено шарнирно относительно фотопслупроводниковой поверхности.

385466 т 4 2 /о

Составитель М. Лиманова

Техред T. Курилко Корректоры Н. Прокуратова и Л. Царькова

Редактор Ю. Хацинская

Тип. Харьк. фил. пред. «Патент»

Заказ 508/1554 Изд. № 661 Тираж 523 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, 5К-35, Раушская наб., д. 4/5