Устройство для нанесения фоторезиста на пластины

 

(ii) 555%7

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Ооез Советских

Социалистических

Республик (51) М. Кл. В 05С 11/02

В 04В 5/00 (б1) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 29.12.75 (21) 2307518/05 с присоединением заявки № (23) Приоритет

Опубликовано 30.04.77. Бюллетень № 16

Дата опубликования описания 20.0б.77

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 66,067.57 (088.8) (72) Авторы изобретения

В. H. Комаров, Н. И. Никулин и И. И. Поярков (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ HAHECEHHSJ ФОТОРКЗИСТА

НА ПЛАСТИНЫ

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий с помощью центробежной силы, и может быть, в частности, использовано для нанесения светочувствительного слоя (фоторезиста) на пластины при химической фотогравировке.

Известно устройство для нанесения светочувствительного слоя на пластины при химической фотогравировке, включающее барабан и держатели для закрепления пластин в горизонтальной плоскости (1).

Однако в таком устройстве имеет место проскальзывание обрабатываемой пластины относительно барабана в начальный момент нанесения фоторезиста, что является основной причиной получения неравномерного по толщине слоя фоторезиста на пластине. Кроме того, в процессе обработки пластины фоторезист попадает на обратную сторону пластины и на фиксирующие штыри, что влечет за собой необходимость проведения дополнительной операции отмывки обратной стороны пластины, промывки фиксирующих штырей после обработки каждой пластины.

Известно устройство для нанесения фоторезиста па пластины, содержащее сборник фоторезиста, установленную внутри него приводную оправку с вакуумной полостью (2).

Конструкция известного устройства не исключает возможности попадания фоторезиста на обратную сторону пластины, что ведет к необходимости введения в технологический процесс дополнительной операции отмывки обратной стороны пластины и является недостатком конструкции, загрудняющнм автоматизацию процесса.

Недостатком известного устройства является также сложность конструкции и изготовления, обусловленная подводом вакуума к

10 вращающейся оправке.

Цель изобретения — исключение попадания фоторезиста на обратную сторону пластины.

Для этого предлагаемое устройство снабжено крыльчаткой, соосно установленной с зазо15 ром на оправке. Кроме того, в стенках оправки выполнены радиальные отверстия.

На фиг. 1 изображен общий вид устройства в разрезе; на фиг. 2 — разрез по А — А на фиг. 1.

20 Устройство содержит корпус 1, сборник фоторезиста 2, оправку 3 с вакуумной полостью

4 и радиальными отверстиями 5, электропривод б оправки, крыльчатку 7 с электроприводом 8.

25 Устройство работает следующим образом.

Пластину 9 устанавливают на оправку 3 и включают электропрнвод 8 крыльчаткп 7. Под действием крыльчатки 7 воздух через радиальные отверстия 5 оправки 3 откачивается из

30 вакуумной полости 4. В вакуумной полости 4

555917

Щи. 2

Составитель Ю. Введенский

Редактор Т. Никольская Техред 3. Тарасова

Корректор О. Тюрина

Заказ 1157 13 Изд. ¹ 428 Тираж 944 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 создается раз1)ежсние, !!адe>!

По истечении определенного времени приводы

6 и 8 отключают, пластину 9 снимают с оправки 3 и передают на операцию сушки фоторезиста. Цикл повторяется.

Описанная конструкция устройства полностью исключает попадание фоторезиста на обратную сторону пластины. Кроме того, устройство, по сравнению с известным, имеет более простую конструкцию, обладает повышенной надежностью в работе, проще в эксплуатанин за счет исключения элементов подвода вакуума к вращающейся оправке.

Формула изобретения

5 .. Устройство для нанесения фоторезиста на пластины, содержащее сборник фоторезиста, установленную внутри него приводную оправку с вакуумной полостью, о т л и ч а ю щ ее с я тем, что, с целью исключения попада)0 ння фоторезиста на обратную сторону пластины, оно снабжено приводной крыльчаткой, соосно установленной с зазором на оправке.

2. Устройство для нанесения фоторезиста на пластины по п. 1, о т л и ч а ю щ е е с я тем, 15 что в стенках оправки выполнены радиальные отверстия.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

1. Авт. св. № 360110, кл. В 04 b 5/00, 1972.

2. Авт. св, № 358019, кл. В 04 b 5/00, 1970 (прототип).

Устройство для нанесения фоторезиста на пластины Устройство для нанесения фоторезиста на пластины 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к нанесению покрытий из вязкотекучих материалов на плоскосложенную трубчатую ткань

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытия способом центрифугирования и может быть использовано для нанесения нескольких составов покрытия на оптическую подложку. Устройство для нанесения покрытия способом центрифугирования содержит бак устройства для нанесения покрытия, конструкция которого выполнена таким образом, чтобы он собирал избыток материала покрытия, сбрасываемого с оптической подложки, на которую он наносится. Устройство также содержит вращающийся держатель, конструкция которого выполнена таким образом, чтобы он принимал и поворачивал оптическую подложку, находящуюся в баке устройства для нанесения покрытия. Кроме того, устройство содержит несколько резервуаров для покрытия, каждый из которых содержит состав покрытия (материала) для выборочного покрытия оптической подложки. Также устройство содержит индексируемую платформу с резервуарами для покрытия, содержащую несколько резервуаров и перемещающую этапами выбранный резервуар для покрытия в положение выдачи над баком устройства для нанесения покрытия. Устройство для нанесения покрытия способом центрифугирования может содержать бак, выполненный с возможностью сбора избытка материала покрытия, сброшенного с покрываемой оптической подложки. Каждый резервуар для покрытия содержит материал покрытия для выборочного нанесения покрытия на оптическую подложку. Каждый резервуар для покрытия содержит продолговатую бочку и подвижный поршень для выпуска материала покрытия из резервуара для покрытия и каждый резервуар с составом покрытия выпускает материал покрытия через бесклапанное выпускное отверстие, расположенное на наружном конце бочки. Индексируемая платформа, на которой размещены резервуары для покрытия, выполнены с возможностью перемещения выбранного резервуара для покрытия в положение для выдачи, которое расположено над баком устройства для нанесения покрытия. Платформа с резервуарами для покрытия дополнительно содержит раздаточное устройство, которое расположено в положении для выдачи. Распыляющее устройство выполнено с возможностью зацепления в положении для выдачи с подвижным поршнем выбранного резервуара для покрытия, чтобы выпустить заданное количество материала покрытия из выбранного резервуара для покрытия. Кроме того, устройство может содержать по меньшей мере один блок отверждения. Каждый блок отверждения независимо выполнен с возможностью выборочного по меньшей мере частичного отверждения по меньшей мере одного материала покрытия, нанесенного на оптическую подложку. Каждый блок отверждения независимо содержит по меньшей мере один из следующего: блока термического отверждения; блока УФ-отверждения; блока ИК-отверждения и комбинации по меньшей мере двух из блоков. Техническим результатом изобретения является обеспечение возможности использования множества различных составов покрытия. 3 н. и 31 з.п. ф-лы, 6 ил.

Устройство для нанесения фоторезиста на пластины

Наверх