Способ изготовления дифракционных решоток-матриц для копирования реплик

 

1 1

Оп ИСАЙ И Е

ИЗОБРЕТЕН Ия (il) 56!923

Союз Советских

Социаттистических

Республик (61) Дополнительное к агт. свид-ву (22) Заявлено 11.02.75 (21) 2103794/10 (51) М Кл G 02В 5/18 с присоединением заявки №

Государственный комитет

Совета Министров СССР оо долам и3абретений и открытий (23) Приоритет

Опубликовано 15.06.77. Бюллетень № 22

Дата опубликования описания 20.07.77 (53) УДК 535.421(088.8) (72) Авторы изобретения

С. А. Стрежнев, E. И. Штырков и И. Б. Хайбуллин (71) Заявитель (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ДИФРАКЦИОННЫХ

РЕШЕТОК-МАТРИЦ ДЛЯ КОПИРОВАНИЯ РЕПЛИК

Изобретение относится к технологии изготовления оптических элементов.

Современные дифракционные решетки в большинстве случаев изготавливают на относительно толстых слоях алюминия (0,1—

10 мкм), нанесенных на полированную заготовку из стекла термическим испарением в вакууме (III группа прочности). Поэтому поверхностный слой решеток после их изготовления необходимо упрочнять. Упрочнение особенно важно для решеток, служащих в качестве матриц при изготовлении копий дифракционных решеток.

Известен способ изготовления дифракционHbIx решеток-матриц на слоях алюминия (1), заключающийся в нанесении на алюминированную поверхность решетки с подслоем титана защитной оксидной пленки путем оксидирования решетки в электролите, например

0,5% растворе двухзамещенного фосфорнокислого аммония.

Недостатком этого способа является необходимость нанесения подслоя титана, который позволяет для создания защитной оксидной пленки на поверхности решетки оксидировать слой алюминия, поскольку с другим подслоем — хромом (2, 3), наиболее распространенном в производстве решеток, слой алюминия не оксидируется. Однако подслой — титан, полученный термическим испарением в вакууме, является достаточно вязким материалом. Даже незначительные капли (брызги) титана, полученные в процессе его испарения, при нарезании решеток прилипают к алмаз5 ному резцу и вызывают порчу всех последующих штрихов и всей решетки в целом. Процесс оксидирования, производимый после нарезания, решетки, не всегда обеспечивает получение очень прочной защитной оксидной

10 пленки на поверхности решетки, которая бы позволила производить с нее многократное копирование.

Прототипом настоящего способа является способ изготовления дифракционных решеток15 матриц, изготовленных на слоях алюминия (4), заключающийся в нанесении на алюминированную поверхность решетки слоя двуокиси кремния, например, катодным распылителем кремния в кислороде и гпдрофобизации

20 нанесенного слоя посредством алкилгалоидсиланов и алкилалкоксисиланов. Недостатком этого способа является то, что не удается нанести монолитный слой двуокиси кремния, в результате чего уже после нескольких актов

25 копирования заштрихованная поверхность решетки становится непригодной для дальнейшего копирования (слой двуокиси кремния отслаивается).

Целью изобретения является увеличение

30 прочности, решетки.

561923

Составитель В. Ванторин

Техред 3. Тараненко

Редактор С. Хейфиц

Корректор А. Степанова

Заказ 1613/2 Изд. М 55! Тираж 633 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская паб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, в

Это достигается тем, что по предлагаемому способу упрочнение производят путем бомбардировки поверхности решетки ионами кислорода с энергией, превышающей 1 кэВ.

Дифракционные решетки-матрицы по описываемому способу изготавливают следующим образом.

На полированную поверхность подложки решетки из стекла наносят термическим испарением в вакууме любым из известных методов слой алюминия толщиной, необходимой для нанесения штрихов дифракционной решетки.

В слое алюминия формируют штрихи решеток при помощи прецизионных алмазных резцов на специальных делительных машинах.

Поверхностный слой алюминия, в котором сформированы штрихи решеток, бомбардируют быстрыми ионами кислорода на ионном ускорителе, например ИЛУ-З.

Пример. Проводилось изготовление дифракционных решеток-матриц на слоях алюминия. Слои алюминия толщиной 1 мкм наносились с подслоем хрома на подложку из стекла термическим испарением в вакууме.

После нанесения штрихов, решетку бомбардировали быстрыми ионами (150 кэВ) кислорода на ионном ускорителе ИЛУ-3. Доза облучения 10" ион/сма, плотность тока порядка

1 мка/см . В результате решетка допускала многократную чистку ватой со спиртом, ультразвуковую чистку поверхности в жестко л режиме, а также многократное копирование.

При этом не наблюдалось изменений спектральных характеристик и ухудшения внешнего вида решеток.

Использование предлагаемого способа изготовления дифракционных решеток-матриц обеспечивает по сравнению с существующими способами следующие преимущества: а) возможность изготовления матриц, обладающих большой механической прочностью, которая позволит по предварительным данным увеличить не менее чем в два раза количество копий, снимаемых с одной дифракционной решетки-матрицы; б) возможность изготовления решеток для работы в жестких эксплуатационных условиях с многократной чисткой заштрихованной по10 верхности решетки; в) увеличение срока службы решеток, возможность получения слоев алюминия с подслоем хрома — основным материалом в производстве дифракционных решеток, а также с любым другим подслоем, удовлетворяющим требованиям технологии изготовлсния дифракционных решеток.

Формула изобретения

20 Способ изготовления дифракционных решеток-матриц для копирования реплик путем нанесения на полированную подложку из стекла подслоя металла, например хрома, слоя алюминия, формирования штрихов решеток и

25 упрочнения поверхности сформированной решетки, отличаюш,ийся тем, что, с целью увеличения прочности решетки, упрочнение производят путем бомбардировки поверхности решетки ионами кислорода с энергией, пре30 вышающей 1 кэВ.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

1. Авторское свидетельство ¹ 239745, кл.

G 02В 5/18, 1969.

35 2. Журнал «Оптико-механическая промышленность», № 3, 1957, с. 47.

3. Журнал «Оптико-механическая промышленность», № 4, 1957, с. 56.

4. Авторское свидетельство № 155965, кл.

40 G 02В 5/18, 1969 (прототип).

Способ изготовления дифракционных решоток-матриц для копирования реплик Способ изготовления дифракционных решоток-матриц для копирования реплик 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области спектрального приборостроения

Изобретение относится к голографии и может быть использовано для перевода многоракурсных стереоскопических фотоизображений объектов в голографические

Изобретение относится к дисплеям, а конкретнее к дифракционным дисплеям (отражающим или пропускающим), в которых за счет нового метода, использующего дифракцию, каждый пиксел характеризуется полным диапазоном длин волн дифрагированного света (например, образует полную гамму цветов)

Изобретение относится к области визуально идентифицируемых элементов для ценных документов

Изобретение относится к лазерной технологии, более конкретно - к лазерным резонаторам

Изобретение относится к лазерной технологии, более конкретно к лазерным резонаторам
Наверх