Устройство для нанесения фоторезиста на пластины

 

с ь ©юз СОВФтские @щиад м тмы;е кмх

Фйсп бл ми

ОП ИАИЙЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 16.01.78 (21) 2574027/23-05 с присоединением заявки ¹ (23) Приоритет— (51) М..Кл, В 05 С 11/02

В 04 В 5/00

Геаударетеенный кемнтет.

CGCP (53) УДК 678.026. .34 (088.8) Опубликовано 25.04.80. Бюллетень ¹15

Дата опубликования описания 05. 05.80 ае мелам юееретеник а етермтай

H- И. Никулин (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА

HA ПЛАСТИ1-1 Ы

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий посредством центробежной силы и может быть использовано, в частности, для нанесения светочувствительного слоя на полупроводниковые пластины и фотошаблоны при химической фотогравировке.

Известна центрифуга для нанесения светочувствительного слоя на пластины, содержащая вертикально установленный барабан с держателем для закрепления пластины (1).

Недоста гком этого устройства является низкое качество покрытия.

Наибо.те -близким к изобретению по технической сущности и достигаемому результату является устройство для нанесения фоторезиста на пластины, содержащее корпус и сборник фоторезиста с установленной внутри него приводной оправкой с держателями для закрепления пластины (2) .

Однако такое устройство не обеспечивает нанесения на пластины равномерной по толщине и без разрывов («проколов») пленки фоторезиста малой толщины (0,2—

0,7 мкм и менее). Это объясняется тем, что в процессе образования пленки на фоторезист наряду с центробежными силами дейI

Д (

Цель изобретения — повышение качества, наносимой пленки фоторезиста.

Это;,îñòèãàåòñ —, -å.ì, что устройство снабжено вакуумной камерой, при этом сборник фоторезиста с приводной оправкой установлен в упомянутой камере.

На чертеже изображено предлагаемое устройство для нанесения фоторезиста на пластины в разрезе.

Устройство содержит корпус 1 и сбор26 ник 2 фоторезиста с установленной внутри него приводной оправкой 3, расположенной в подшипника 4, с держателями 5 для закрепления пластины 6. Привод 7 служит для вращения оправки 3. Устройство снаб728937

Формула изобретения

Составитель А, Ча;;-Ьорв

Редактор С. Суркова Гекред К. 1Луфрвв Корректор В. Сиивдкав

Заказ 1869/19 тнраж 819 цИИИПИ Государствеваого комитета СССР во делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж вЂ” -35, Раугвскав ааб., д. 4/5

Филиал ППП «Патевт», г. Ужгород, ул. Проектиав, 4 жено вакуумной камерой при этом сборник

2 фоторезиста с приводной оправкои 3 установлен в упомянутой камере.

Вакуумную камеру образует колпак 8 с корпусом 1 и уплотнениями 9 и 10.

Колпак 8 имеет штуцер 11 для подключения к вакуумной сети и капельницу 12 для подачи фоторезиста.

Устройство работает следующим образом.

В исходном положении колпак 8 снят.

Полупроводниковую пластину 6 укладывают на оправку 3 между держателями 5, после чего устанавливают колпак 8 на корпус 1.

Затем при помощи дозатора (на чертеже не показан) через капельницу 12 подают на пластину 6 дозу фоторезиста, колпак 8 подключают к вакуумной сети с давлением 3.10 и через 3 — 4 с привод 7. За это время под колпаком 8 создается разрежение и под действием атмосферного давления он прижимается к корпусу 1. Отпривода 7 через ременную передачу вращение передается оправке 3. Под действием центробежных сил фоторезист растекается по пластине 6, образуя светочувствительную пленку. По истечении определенного времени привод 7 выключают, а полость под колпаком 8 соединяют с магистралью нейтрального газа, например, азота. Когда давление под колпаком

8 станет равным атмосферному, колпак 8 снимают и передают пластину 6 на следующую операцию. Цикл повторяется.

Так как образование пленки фоторезиста осуществляется в вакууме, то дополнительное воздействие на фоторезист сил сопротивления окружающей среды практически отсутствует. Это способствует равномерному распределению слоя фоторезиста по всей поверхности пластины v. резкому уменьшению количества «проколо⻠— разрывов пленки.

Испытание данного устройства в лабораторных условиях пока" àëî,,что количество «проколов» уменьшилось на 10 — 15%, а т6 равномерность нанесенного слоя фоторезиста по толщине повысилась на 5 — 8%.

Устройство для нанесения фоторезиста на пластины, содержащее корпус и сборник фоторезиста с установленной внутри него приводной оправкой с держателями для закрепления пластины, отлича1оа4ееся тем, л9 970 с Целью повышениЯ качества вносимой пленки фоторезиста, оно снабжено вакуумной камерой, при этом сборник фоторезиста с приводной оправкой установлен в упомянутой камере.

11сточники информации, принятые во вним=."Iêå при экспертизе № 360110, кл. 3 04 В 5/00, 1970.

2. Авторское свидетельство СССР № 358019, кл. В 04 : =:/00, 1970 (прототип).

Устройство для нанесения фоторезиста на пластины Устройство для нанесения фоторезиста на пластины 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к нанесению покрытий из вязкотекучих материалов на плоскосложенную трубчатую ткань

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытия способом центрифугирования и может быть использовано для нанесения нескольких составов покрытия на оптическую подложку. Устройство для нанесения покрытия способом центрифугирования содержит бак устройства для нанесения покрытия, конструкция которого выполнена таким образом, чтобы он собирал избыток материала покрытия, сбрасываемого с оптической подложки, на которую он наносится. Устройство также содержит вращающийся держатель, конструкция которого выполнена таким образом, чтобы он принимал и поворачивал оптическую подложку, находящуюся в баке устройства для нанесения покрытия. Кроме того, устройство содержит несколько резервуаров для покрытия, каждый из которых содержит состав покрытия (материала) для выборочного покрытия оптической подложки. Также устройство содержит индексируемую платформу с резервуарами для покрытия, содержащую несколько резервуаров и перемещающую этапами выбранный резервуар для покрытия в положение выдачи над баком устройства для нанесения покрытия. Устройство для нанесения покрытия способом центрифугирования может содержать бак, выполненный с возможностью сбора избытка материала покрытия, сброшенного с покрываемой оптической подложки. Каждый резервуар для покрытия содержит материал покрытия для выборочного нанесения покрытия на оптическую подложку. Каждый резервуар для покрытия содержит продолговатую бочку и подвижный поршень для выпуска материала покрытия из резервуара для покрытия и каждый резервуар с составом покрытия выпускает материал покрытия через бесклапанное выпускное отверстие, расположенное на наружном конце бочки. Индексируемая платформа, на которой размещены резервуары для покрытия, выполнены с возможностью перемещения выбранного резервуара для покрытия в положение для выдачи, которое расположено над баком устройства для нанесения покрытия. Платформа с резервуарами для покрытия дополнительно содержит раздаточное устройство, которое расположено в положении для выдачи. Распыляющее устройство выполнено с возможностью зацепления в положении для выдачи с подвижным поршнем выбранного резервуара для покрытия, чтобы выпустить заданное количество материала покрытия из выбранного резервуара для покрытия. Кроме того, устройство может содержать по меньшей мере один блок отверждения. Каждый блок отверждения независимо выполнен с возможностью выборочного по меньшей мере частичного отверждения по меньшей мере одного материала покрытия, нанесенного на оптическую подложку. Каждый блок отверждения независимо содержит по меньшей мере один из следующего: блока термического отверждения; блока УФ-отверждения; блока ИК-отверждения и комбинации по меньшей мере двух из блоков. Техническим результатом изобретения является обеспечение возможности использования множества различных составов покрытия. 3 н. и 31 з.п. ф-лы, 6 ил.

Устройство для нанесения фоторезиста на пластины

Наверх