Раствор для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливинилового спирта

 

Сотов Советских

Социалистических

Республик

ОП ИСАНИЙ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К А®ТОЯСКОМУ СВИДЕТИЛЬСТВУ (lu865886 (6!) Дополнительное к авт.свмд-ву (22)Заявлено 040679 {21) 2778879/23-26 с ярмсоедмненмен замвкм М— (23) Приоритет (5! )Мв КЛ.

С 09 К 13/02//

С 23 F 1/00

Ibeyaapctsawu4 квинтет ссср по деми хзвбретенх!1 х открытх11

Опубликовано 230981. Бюллетень М 35 (53) УДК 62! . .794.42 (0SS.8) Дата опубликования описания 250981 㻠— -.

А.Ф. Суницкнй, И.Н. Кочкин, И.И. Овчинникйв и В.Ф. Киселева к

I т

k - "; к.!

t — .., (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) РАСТВОР ДЛЯ УДАЛЕНИЯ С ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ

ФОТОРЕЗИСТА НА ОСНОВЕ ПОЛИВИНИЛОВОГО

СПИРТА

Изобретение относится к радиозлектронной промышленности и используется в ,производстве печатных плат.

Известен раствор для удаления с печатных плат фоторезиста (светочувствительного слоя) на основе поливинипового спирта, содержащий щавелевую кислоту !50-200 г/л, хлористый натрий

50-100 г/л (1 ).

Наиболее близк тм по технической сущlO ности и достигаемому результату является раствор для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливинилового спирта, содержащий перекись водорода и воду (концентрация перекиси водорода 15X) (2).

IS

Недостатком указанных растворов является разрушающее воздействие их на металлорезист, что вызывает необходимость восстановления его,. ретуширования рисунка схемы и приводит к повышению трудоемкости.

Цель изобретения — исключение разрушения металлорезиста sa счет образования на его поверхности защитного слоя, Поставленная цель достигается раствором для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливинилового спирта, содержащим перекись водорода, едкий натрий, сернокислый натрий и воду при следующем соотношении компонентов, вес.X:

Перекись водорода

301-ная 55-60

Едкий натрий 2-2,5

Сернокислый натрий 1-!, 25

Вода Остальное

Отличительными признаками раствора являются наличие в нем едкого натрия и сернокислого натрия, а также определенное соотношение компонентов в растворе.

Выбор состава обусловлен тем, что перекись водорода в процессе воздействия на фоторезист "вскипает" ввиду каталитического действия едкого нат865886

Сначала приготовляют 10Х-ный раствор едкого натрия, 5Х-ный раствор сернокислого натрия. Смешивают ЗОХ-ную перекись водорода с 5Х-ным раствором сернокислого натрия и IOX-ным раствором едкого натрия в следующем объемном соотношении, мл:

Перекись водорода

30Х-иая 500-600 !

О Едкий натрий

IOX-ный

Сернокислый натрий

5Х-ный 200-250

После смешивания раствор готов к

1з использованию.

Печатную плату с нанесенным слоем фоторезиста на основе поливинилового спирта, имеющую металлореэист на рисунке схемы, помещают в подогретый

2О до 35-40 С раствор, содержащий пе0 рекись водорода, едкий натрий, сернокислый натрий и воду. Результаты процесса удаления фоторезиста представлены в таблице.

200-250

Состояние

Количество

Время удаления фоторезиста, мин

Компоненты

Состав, У ингредиентов, вес. Х металлорезиста

Перекись водорода

Едкий натрий

Сернокислый натрий

Хорошее

Разрушений нет

1,25

Остальное

Хорошее

2,25

Разрушений нет

До I л

Хорошее

2,5

Разрушений нет

1,0

До 1л

Как видно из таблицы, состояние металлорезиста после воздействия раствора в широком интервале соотношений компонентов и времени хорошее, разрушений нет.

Печатные платы, изготовленные с использованием данного раствора для рия, вызывая при этом деструктуризацию фоторезиста.

Сернокислый натрий в свою очередь, воздействуя на металлорезист "оловосвинец"у "QJIQBD-свинец-висмут" образует нерастворимый слой сернокислого свинца, который защищает металлорезист от дальнейшего разрушения.

Несоблюдение укаэанного в предлагаемом растворе соотношения едкого натрия и сернокислого натрия отрицательно сказывается на процесс раэдубливания фоторезиста.

В случае недостатка, равно как и избытка, едкого натрия замедляется скорость деструктуризации фоторезиста, недостаток сернокислого натрия не обеспечивает образования необходи= мого устойчивого слоя сернокислого свинца на поверхности металлорезиста, а избыток его приводит к образованию рыхлого слоя.

Раствор готовят следующим образом, I1 Перекись водорода

Едкий натрий

Сернокислый натрий

Вода

I!! Перекись водорода

Едкий натрий

Сернокислый натрий

Вода ю удапения фоторезиста по своему ка- честву отвечают требованиям "ОСТ4.

077.000 ° 1976, редакция 1-75. Платы печатные. Общие технические условия" °

Результатами длительной проверки в опытном и серийном производстве установлено:

5 86588

1. Объем работ по ретушированию с целью восстановления рисунка схемы печатных плат после удаления фоторезиста снижается в 2-3 раза, что снижает в целом трудоемкость их изготов ления на 10Х.

2. Повышение устойчивости металлорезиста за счет образования поверхностного слоя сернокислого свинца сокращает брак при травлении на 10- 10

15Х.

3. Предлагаемый раствор позволяет использовать дешевую низкосортную перекись водорода по ГОСТ 177-77 (техническая А, Б, В).

И формула изобретения

Составитель С. Лотхова

Редактор С. Патрушева Техред Т.Маточка Корректор Г. Решетник

Заказ 7989/38

Тираж 687 Подпис но е

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород. ул. Проектная, 4

Раствор для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливннилового спирта, содержащий перекись водорода и воду, о т л и ч а ю щ и й6 d с я тем, что, с целью исключения разрушения металлорезиста за счет образования на его поверхности защитного слоя, раствор дополнительно содержит едкий натрий и сернокислый натрий при следующем соотношении компонентов, вес.1:

Перекись водорода

307-ная 55-60

Едкий натрий 2-2, 5

Сернокислый натрий 1-1,25

Вода Остальное

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Платы печатные многослойные.

Типовые технологические процессы.

ОСТ ГО.054.043. 1972, ред. 1-71 с. 35.

2. Платы печатные многослойные.

Типовые технологические процессы.

ОСТ 4ГО.054.043. 1972, ред. 1-71, с, 35.(прототип).

Раствор для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливинилового спирта Раствор для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливинилового спирта Раствор для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливинилового спирта 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к снижению отложений сульфида железа в трубах
Изобретение относится к составам композиций для регенерации сеткотрафаретных печатных экранов, полученных с помощью фоторезистов, и может быть использовано в полиграфической, электронной и радиотехнической промышленности

Изобретение относится к материалам для обработки поверхностей стекла, ситалла и кварца и может быть использовано в оптико-электронной промышленности при изготовлении оптических деталей

Изобретение относится к составу для травления поверхности резины перед металлизацией и может быть использовано в машиностроении, в частности, при нанесении композиционных, антифрикционных и защитных полимерных покрытий на резинотехнические изделия (РТИ) методом электроосаждения

Изобретение относится к составам для химической активности поверхности политетрафторэтилена

Изобретение относится к химической промышленности, в частности к получению травителя порошкообразных электролюминофоров постоянного тока на основе сульфида цинка
Наверх