Устройство для ослабления яркости света

 

Класс 42h, 20Г»,% 207422

СССР

Р ьсГГ Яч 1

1 » и >

И222ад„,;., I

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Н. И. Бортников

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСЛАБЛЕНИЯ ЯРКОСТИ СВЕТА

Звивги»о f6 1»олв 1056 г. вв ¹ 554840 в Комитет ио делам пвобрете»»й и открь1тий ири Совете Ми»»строя СССР

Известны приспособления для ослабления светя и спектральных приборах по высоте линии по сложной заьисимости.

Описываемое устройство отличается от известных ием, что оно выполнено в виде двух частей, состоящих кя»ждая из двух плоских диафрагм с

11рямоуголы1ым отверст исм, между которыми находится пространственная деталь с криволинейной поверхностью, образующие которой параллельны между собой; причем указанные прострянствсгн1ыс детали расположены в системс трехлинзового я: роматичсского копдепсора между средней и крайними линзами так, что

Нх рыбочис поверхности находятся с противоположных сторон оптической осп системы.

Зт<1 Осооснность Г10зволяст Ослабить яркость света»о любому паперед заданному закону без влияния селективной избирательности в поглощении лучей разных длин волн. г1а чертеже изображено устройство описываемого изобретения, где источник светя — 1, первая конденсорн,1я линзы — 2, вторая линза — Р, третья линза — 4, диафрагма — 6 1 рГ»межу. точного изображения источника, диафрагмы щслп — 6 н щель спектографа — 7.

В системе трехлипзового коиденсоря располагаются две системы логарифмической объемной диафрагмы.

Первая нз них находится между первой и второй линзами конденсора в составе логарифмической объемной диафрагмы и вспомогательных диафрагм обычного типа с прямоугольными отверстиями 9 и 5.

ВтОряя система расположена между второй и третьей линзами кондснсоря II составе логарифмической объемной диафрагмы 10 и вспомогательных диафрагм обычного типа с прямоугольнымlf отверстиями

11 и 12.

Действие системы трехлинзового

КОНДСНСОРГI СОСТОИТ В ТОМ, ЧТО ЛИНЗ11

2 проецирует увеличенное изображение источника светя 1 HB плоскость линзы 8, а линза 3 проецирует плоскость линзы 2 на щель 7. Диафрагма 6 ограничивает высоту щели ?.

Линза 4 проецирует плоскость линзы

3 с изображением источника ня пло;хость коллимяторного объектива 0 107411 спектрографа и служит для лучшего заполнения отверстия объектива.

Г1рсдмст изобретения

Устройство для ослаоления яркости света, например, в спектральных приборах по высоте спектральной линии, отлича ющсеся тем, что, с целью ослабления яркости света по любому наперед заданному закону без влияния селективной избирательности в поглощении лучей разных длин волн, оно выполнено в виде двух частей, состоягцих каждая из двух плоских диафрагм с прямоугольным отверстием, между которыми находится пространственная деталь с криволинейной поверхностью, образующие которой параллельны между собой, причем указанные пространственные детали расположены в системс трехлинзового ахроматического конденсора между средней и крайними линзами так, что их рабочие поверхности находятся с противоположных сторон оптической оси системы.

Отв. редактор Л. Г. Голандский

Стандартгиз. 11оди. к пея. 11/111 1958 г, Объем 0,25 il. 7. Тираж 800. Цена 50 кои.

Типография Комитета по делам изобретений ti открытий прн Совете Министров СССР

Москва, Неглинная, д. 23. Зак. 1190

Устройство для ослабления яркости света Устройство для ослабления яркости света Устройство для ослабления яркости света Устройство для ослабления яркости света 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области физической органической химии, к разделу спектрофотометрии растворов, находящихся при повышенном давлении, и используется для научных исследований

Изобретение относится к измерительному устройству (14), содержащему датчик (16) для определения, по меньшей мере, одного компонента и/или, по меньшей мере, одного из свойств материала (4), причем датчик (16) содержит, по меньшей мере, один источник (18) освещения, который направляет, по меньшей мере, один световой луч (20) на подлежащий исследованию материал (4), а измерительное устройство (14) содержит, по меньшей мере, один эталонный объект (34, 32, 33) для калибровки измерительного устройства (14), при этом часть светового луча (20) источника (18) освещения отклоняется на эталонный объект (34, 32, 33) так, что устраняется необходимость в попеременном переходе с исследуемого материала на эталонный объект
Наверх