Способ формирования субмикросекундных импульсов лазерного излучения

 

СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ СУБМИКРОСЕКУНД НЫХ ИМПУЛЬСОВ ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ, включающий возбуждение активной среды и воздействие излуче, ния на просветляющуюся среду и среду, обладающую двухфотонным поглощейи ем, отличающийся тем, что, с целью повышения стабильности генерационных параметров и увеличения энергии импульсов, воздействуют излучением на монокристалл теллурида цинка, являкицийся одновременно просветляющейся средой и средой, обладающей двухфотонным поглощением, охлажденный до 6-35 К с концентрацией дефектов 10 , создаю«щих в запрещенной зоне акцепторные (/) уровни.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИН (19) (! 1) 4(1)Н 01 S 3/11

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМ У СВИДЕТЕЛЬСТВУ

30НО

npodo bmoc ти кце

Юые яю баАЕНтния çoí7

Фиг.1

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3463088/18-25 (22) 05.07.82 (46) 30.06.85. Бюл. ))- 24 . (72) В.А.. Зюльков, В.П. Грибковский

В.А. Иванов, М.А. Котибников и В.Н. Павловский (71). Ордена Трудового Красного

Знамени институт физики АН БССР (53) 621.375,8(088.8) (56) 1. Венкин Г.В; и др. Одномодовый ОКГ с плавно перестраиваемой длительностью имнульсов. Кв.электро ника, 1971, В 6, с. 97-100.

2. Лисицын Л.М. Формирование импульсов ОКГ с помощью двухфотонного поглощения в Са As, письма в ЖЗТФ, 1969, 9, 282 (прототип). (54)(57) СПОСОБ ФОРИИРОВАНИЯ СУБИИКРОСЕКУНДНЫХ ИМПУЛЬСОВ ЛАЗЕРНОГО

ИЗЛУЧЕНИЯ, включающий возбуждение активной среды и воздействие излучения на просветляющуюся среду и среду, обладающую двухфотонным поглощением, отличающийся. тем, что, с целью повышения стабильности генерационных параметров и увеличения энергии импульсов, воздействуют излучением на монокристалл теллурида цинка, являющийся одновременно просветляющейся средой и средой, обладающей двухфотонным поглощением, охлажденный до 6-35 К с концентрацией дефектов 10 -10 см, создаю(S 1 -Ъ

° О щих в запрещенной зоне акцепторные уровни.

1094543

Изобретение относится к нелинейной оптике, квантовой электронике, а именно к способам формирования субмикросекундных лазерньн импульсов с перестраиваемой длительностью. S

Известен способ формирования субмикросекундных импульсов света, основанный на возбуждении лазерным излучением просветляющейся среды на основе органического красителя и нелинейной среды на основе кристалла типа КДР, создающей зависящие от уровня мощности потери излучения в резонаторе за счет генерации втоОой гаимониии (1).

Наиболее близким по технической сущности к изобретению является способ формирования субмнкросекундных импульсов лазерного излучения, включающий возбуждение активной среды и воздействие излучения на просветляющуюся среду и среду, об- . ладающую двухфотоннь|м поглощением (2) .

Недостатком описанных способов является недостаточная стабильность генерации вследствие невысокой фотохимической устойчивости органических просветляющихся сред и высокий пороггенерации вследствие паразит- 30 ных потерь излучения на элементах в резонаторе.

Цель изобретения — повышение стабильности генерационных парамет- . ров и увеличение энергии импульсов.

Поставленная цель достигается тем, что в способе формирования субмикросекундных импульсов лазерного излучения, включающем возбуждение активной среды и воздействие 40 излучения на просветляющуюся среду и среду, обладающую двухфотонным поглощением, воздействуют излучением .на монокристалл теллурида цинка, являющийся одновременно просветляющейся средой и средой,. обладающей двухфотонным поглощением, охлажден иый до .температуры 6-35 К, с концентрацией дефектов 10 -10 см, создающих в запрещенной зоне акцеп. — 50 торные уровни.

На фиг. I представлена энергетическая схема электронных переходов в полупроводнике P-типа проводимости, который представляет собой у монокристалл теллурида цинка. .На фиг. 2 — зависимость коэффициента пропускания монокристалла Т охлажденного до 6 К, от энергии падающего излучения 9I q< .

При воздействии на полупроводниковый элемент-теллурид цинка-излучения пропускание элемента сначала увеличивается. Это происходит за счет просветления примесной полосы поглощения в результате опустошения акцепторньк уровней примеси под воздействием мощного излучения (см. фиг. 1, переход 1). Потери излучения в резонаторе уменьшаются, и при достижении порога генерации формируется передний фронт лазерного импульса. Двухфотонное поглощение существенно не влияет на развитие генерации на этом этапе вследствие его малости. После насыщения поглощения в переходе 1 с увеличением энергии накачки возникает новый канал йоглощения из-эа двухфотонных переходов 2. Двухфотонное поглощение приводит к образованию нелинейных потерь, которые обуславливают уменьшение пропускания фильтра и компенсируют усиление в лазере. Нелинейные потери ограничивают нарастание плотности излучения в резонаторе, вследствие чего стабилизируется амплитуда лазерного импульса и увеличивается время сброса инверсной населенности в активном веществе, Последнее и позволяет получить импульс субмикросекундной длительности.

Для реализации такого режима работы необходимо, чтобы возникающие в полупроводником элементе при высоком уровне возбуждения нелинейные потери были значительны еще до порога разрушения материала. Это достигается охлаждением монокристаллов до 6-35 К. Причинами, препятствующими возникновению нелинейных потерь, могут быть следующие: 1) небольшой параметр нелинейности фильтра и, как следствие, значительное остаточное поглощение в филаитре, сохраняющееся вплоть до порога разрушения полупроводника (т.е. фильтр полностью не просветляется), 2) низкий порог разрушения материала.

Пример. Субмикросекуидный лазерный импульс формируется при возбуждении активной среды и воздействии излучения на полупроводниковый нелинейный элемент в виде плоскопараллельной пластинки легиро1094543

Ванного монокристалла теллурида цинка, помещенный в резонатор и Охлажденный до 6-35 К. Спектральная область, в которой возможно получение режима, ограничена интервалом 5

Длин Волн Ь Ъ = .7, — B KQToPQM

3 наблюдается поглощение с акцепторных уровней примеси (см. фиг. 1). Она заключена в промежутке 5500-5250 А.

В качестве акцепторной примеси могут выступать дефекты роста (остаточные примеси, собственные дефекты решетки) или же акцепторная примесь вводится путем легирования.

Концентрация дефектов выбирается в пределах 10 -10Л см Процесс генерации определяется изменением пропускания элемента с увеличением уровня возбуждения, показанным на фиг. 2, и происходит следующим образом, При малой мощности падающего излучения пропускание постоянно (участок 3). При достижении в реэонаторе мощности 0,01 МВт/см полупроводник начинает просветляться, потери излучения в резонаторе уменьшаются и при достижении порога генерации формируется передний фронт импульса (участок 4). Мощность излучения в резонаторе быстро возрас- ЗО тает до уровня, соответствующего максимальнОму пропусканию полупроводника, и стабилизируется вследствие ограничительного действия нелинейных пОтерь ОбуслОВленных ДВухфО .35 тонным поглощением, ведущих к уменьшению пропускания при больших уровнях накачки (участок 5).

Нелинейные потери увеличивают время сброса инверсной населенности 40 в активном элементе лазера, вслед= ствие чего лазерный импульс удлиня- ется. Регулировка длительности импульса осуществляется. изменением уровня накачки активного элемента. 45

Длительность импульса, определяемая коэффициентом нвлинейности 11< котоф рый..с учетом параметров резойатора и активной среды равен 280, может изменяться в пределах 40-400 нс. 50

Субмикросекундные импульсы света могут быть сформированы при возбуждении лазерным излучением теллурида цинка, охлажденного до 6-35 К, поскольку в этом интервале температур 55 на экспериментальной зависимости . коэффициента, пропускания Т (Wq *) . Наблюдае-.ся участок уменьшения пропускания, обуславливающий нелинейные потери, и соответственно. удлинение лазерного импульса. При

Т > 35 К теллурид цинка полностью не просветляется вплоть до порога разрушения материала и участок уменьшения пропускания не проявляется. о

При Т < 6 К режим получения субмикросекундных импульсов света не техйологичен из-за необходимости помещения теллурида цинка непосредственно в жидкий гелий и сложности получения температур ниже 4,2 К.

Описанный режим работы отличается высокой стабильностью. Не было отмечено никаких изменений в характеристиках полупроводникового элемента на основе теллурида цинка, охлажденного до гелиевых температур, после проведения 300 лазерных вспышек в режиме полного насыщения полосы поглощения, тогда как, например, при режиме работы с использованием просветляющейся среды на основе полиметинового красителя, после проведения аналогичного количества .вспышек необходимо проводить замену ,красителя для поддержания стабильной генерации.

Порог генерации зависит от коэффициента нелинейности фильтра и потерь излучения на элементах резонатора и в фильтре. Совмещение в одном полупроводнике функций просветляющегося фильтра и нелинейного элемента уменьшает паразитные потери приблизительно на 10Х. Уменьшение порога генерации вследствие этого приблизительно равно 25Х.

Таким образом, способ формирования субмикросекундных импульсов света обладает стабильностью генерации (за счет высокой надежности и устойчивости параметров полупровод-. никового элемента из теллурида цинка), более низким порогом генерации (на 25K), (за счет совмешщения . функций просветляющейся среды,и нелинейнопоглощающего элемента в од» ном кристалле), что дает возможность повысить энергосъем и КПД лазеров, генерирующих субмикросекундные импульсы света.

Способ позволяет .упростить конструкцию таких лазеров и сделать их более компактными за счет уменьшения числа элементов в резонаторе.

Он может применяться при низких.1094543 температурах. Эти свойства важны для перспективного использования таких лазеров в устройствах оптоэлектроники, космических исследованиях.

ZB га

3 -lg W y

Заказ 4510/4

Тираж 638 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/S

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород,. ул. Проектная, 4

Составитель О.Исаева

Редактор С.Титова Техред О.Ващишина Корректор А.Зимокосов

Способ формирования субмикросекундных импульсов лазерного излучения Способ формирования субмикросекундных импульсов лазерного излучения Способ формирования субмикросекундных импульсов лазерного излучения Способ формирования субмикросекундных импульсов лазерного излучения 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к неодимсодержащим твердотельным технологическим лазерам с пассивной модуляцией добротности резонатора

Изобретение относится к лазерной технике, а более конкретно, к твердотельным лазерным излучателям, используемым в импульсных лазерных дальномерах, локаторах, целеуказателях

Изобретение относится к материалам лазерной техники, в частности к материалам для изготовления пассивных лазерных затворов или систем развязки многокаскадных генераторов

Лазер // 2124791
Изобретение относится к лазерной технике, в частности к импульсным твердотельным лазерам с электрооптической модуляцией добротности, и может быть использовано при разработке импульсных источников лазерного излучения

Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к неодимосодержащим твердотельным технологическим лазерам с пассивной модуляцией добротности резонатора

Лазер // 2164724
Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к технологическим лазерам с активной модуляцией добротности резонатора

Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано в мощных лазерных системах

Изобретение относится к лазерной технике и может быть применено в нелинейных поглощающих элементах, используемых в качестве пассивных лазерных затворов и оптических развязок
Наверх