Вакуумная электронно-плазменная установка

 

Вакуумная электронно-плазменная установка для обработки мелкодисперсных материалов, содержащая вакуумную камеру, в которой соосно и последовательно установлены катодный узел плазмотрона, выполненный в виде катододержателя с полым катодом, центральной трубки ввода обрабатываемого материала и штуцера подачи плазмообразующего газа, и анод, отличающаяся тем, что, с целью улучшения качества обрабатываемого материала, анод выполнен в виде водоохлаждаемого кольца, а установка снабжена по меньшей мере тремя дополнительными катодными узлами, расположенными под анодом и направленными рабочими торцами к оси плазмотрона.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электротехнике, предназначено для возбуждения разряда в импульсном генераторе электроэрозионной плазмы и может быть использовано в вакуумных сильноточных электроразрядных устройствах технологического назначения, например, для нанесения покрытий

Изобретение относится к плазменной технике и может использоваться при создании ловушек заряженных частиц или плазмы для удержания последних

Изобретение относится к электротехнике, а именно к дуговым устройствам (плазмотронам), используемым для нагрева газов до высоких температур с помощью электрической дуги, и может применяться в металлургических и металлообрабатывающих технологических процессах в частности при разделительной резке металлов, сварке и плазменно-технической обработке

Изобретение относится к электротехнике, предназначено для возбуждения разряда в импульсном генераторе электроэрозионной плазмы и может быть использовано в вакуумных сильноточных электроразрядных устройствах технологического назначения, например, для нанесения покрытий

Изобретение относится к электротехнике, а именно к дуговым устройствам (плазмотронам), используемым для нагрева газов до высоких температур с помощью электрической дуги, и может применяться в металлургических и металлообрабатывающих технологических процессах в частности при разделительной резке металлов, сварке и плазменно-технической обработке

Изобретение относится к электротехнике, а именно к устройствам для нагрева материалов электрической дугой к дуговым плазмотронам косвенного действия, и может быть использовано в электротермических процессах, например, для плавления материалов, получения порошков, обработки поверхности изделий

Изобретение относится к электротехнике, а именно к устройствам для нагрева газов до высоких температур с помощью электрической дуги, и может быть использовано в плазмохимических, металлургических и металлообрабатывающих технологических процессах, в частности, для нанесения всевозможных покрытий, а также в исследовательских целях

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано в различных технологических процессах, проводимых в поле электрического разряда, в частности при обработке порошков, газов, аэрозолей для целей плазмохимии, при сфероидизации и т.д
Наверх