Устройство электродугового нанесения металлических покрытий в вакууме

 

(19)SU(11)1184291(13)A1(51)  МПК 6    C23C14/32(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина:

(54) УСТРОЙСТВО ЭЛЕКТРОДУГОВОГО НАНЕСЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

Изобретение относится к области вакуумной металлизации, а именно, к устройствам электродугового нанесения защитных покрытий. Целью изобретения является расширение технологических возможностей протяженных электродуговых испарителей путем обеспечения программного управления областью перемещения катодных пятен дуги по рабочей поверхности расходуемого катода. На фиг. 1 и 2 изображена конструкция предлагаемого устройства (фиг. 1 боковая проекция, фиг. 2 вид в плане); на фиг. 3 приведена блок-схема системы питания и управления; на фиг. 4 график зависимости выходного напряжения дифференциального усилителя от положения катодного пятна (КП) на рабочей поверхности катода при различных значениях управляющего напряжения. Кривая I устойчивое положение КП в центре катода (Uупр 0); кривая II устойчивое положение КП на конце катода Uупр.ni); кривые III и IV соответствуют промежуточному положению КП на катоде; кривая V устойчивое положение КП вначале катода (Uупр. ni). Устройство электродугового нанесения покрытий содержит протяженные анод 1 и расходуемый катод 2 (фиг. 1 и 2), систему 3 осевого перемещения КП, источник электропитания 4 и датчик положения КП, выполненный в виде проводника 5, размещенного над рабочей поверхностью протяженного катода 2 и снабженного датчиками тока 6, подключенными к его выводам, программатором 7 и дифференциальным усилителем 8. Входные клеммы датчиков тока 6 подключены к входу дифференциального усилителя 8, выходы которого соединены с системой 3 осевого перемещения КП, выходные клеммы датчиков тока соединены друг с другом и подключены к положительной клемме источника электропитания 4, а программатор 7 подключен к входным клеммам одного из датчиков тока 6 и дифференциального усилителя 8. Предлагаемое устройство имеет медный катод длиной 1000 мм, шириной 100 мм и толщиной 10 мм. Анодом испарителя является вакуумная камера. Катод размещен между полюсами электромагнита, создающего напряженность магнитного поля на рабочей поверхности катода 30Э. В качестве датчика положения КП применена водоохлаждаемая трубка из нержавеющей стали 8x0,6, расположенная на расстоянии 50 мм от рабочей поверхности катода и проходящая вдоль его оси симметрии. Для того, чтобы полезный управляющий сигнал с датчика был максимальным по величине, необходимо, чтобы Rg >> Rш, где Rg сопротивление проводника датчика положения КП. Rш сопротивление шунта (датчика тока). Рабочий ток в цепи датчика положения КП составлял 30А и подбирался с помощью балластного резистора, включенного в цепь датчика. В качестве датчиков тока использовались шунты на 30А и 75В. Коэффициент усиления дифференциального усилителя К 500. В качестве программатора использовался неуравновешенный мост, состоящий из параллельно включенных цепей из потенциометра и двух последовательно включенных резисторов. На мост подавалось напряжение от гальванического элемента через ограничивающий резистор. С моста снималось напряжение порядка 75 10-3 В и подавалось на один из входов дифференциального усилителя. Устройство электродугового нанесения металлических покрытий работает следующим образом. С помощью системы поджига между анодом 1 и катодом 2 в вакууме возбуждается дуговой разряд в парах расходуемого материала катода. При подаче положительного потенциала на датчик положения катодного пятна по обеим ветвям датчика протекают токи i1 и i2, величина которых определяется сопротивлением ветвей Х и (l-Х), т. к. область выхода тока находится напротив местоположения КП на поверхности катода (фиг. 3). При изменении положения КП длина ветвей проводника сопротивления меняется, а следовательно, изменяются и токи, протекающие по ним, сигнал о которых подается с датчиков тока 6 на входные клеммы дифференциального усилителя 8. Напряжение на выходе усилителя пропорционально разности токов в ветвях датчика положения КП. На выходе усилителя 8 подключена электромагнитная катушка системы 3 осевого перемещения КП, причем полярность подключения катушки такова, что создаваемое ею магнитное поле вынуждает КП дуги совершать движение в направлении, при котором разбаланс токов в ветвях уменьшается. Воздействие магнитного поля на катодное пятно прекратится, когда напряжение на выходе дифференциального усилителя станет равным нулю. Смещение катодного пятна в ту или иную сторону от положения равновесия мгновенно вызывает реакцию со стороны магнитного поля, вынуждающего КП вернуться в положение равновесия. При подаче с программатора 7 управляющего сигнала на один из входов усилителя 8 нулевое напряжение на выходе усилителя образуется при различных соотношениях токов в ветвях проводника сопротивления датчика положения КП. Изменяя по программе управляющее напряжение на входе дифференциального усилителя, можно обеспечить программное управление областью перемещения КП, что позволяет расширить технологические возможности испарителя, а именно: получать любое соотношение компонент расходуемых материалов в наносимом покрытии, получать покрытия заданной переменной толщины и регулировать область перемещения КП в соответствии с размером обрабатываемого изделия. Величина напряжения на выходе дифференциального усилителя, реагирующего на разность токов в датчиках, определяется соотношением: Uвых= KN(i1-i2)KNi , где К коэффициент усиления;
n коэффициент преобразования тока в датчике. Если на один из входов подать дополнительный сигнал Uупр, то напряжение на выходе усилителя
Uвых= KNi + KVупр. Поскольку устойчивое положение КП на катоде при Uвых. 0, то из последнего выражения следует, что величина управляющего напряжения изменяется в пределах от ni до (-ni) (фиг. 4). При этом положении КП на катоде изменяется от 0 до Х l. Таким образом, если обеспечить возможность установки нулевого значения напряжения на катушке электромагнита системы перемещения КП при нахождении КП в определенной точке катода и изменять это напряжение в сторону, отличную от нуля (той или иной полярности), при уходе КП из этой точки так, чтобы направление вектора напряженности магнитного поля способствовало перемещению КП в сторону вышеуказанной точки на катоде, то точка на поверхности катода, где напряжение на катушке электромагнита равно нулю, является точкой устойчивого положения КП. Если в процессе работы испарительного устройства имеется возможность изменять установку нулевого значения напряжения на катушке электромагнита (это значение связано с устойчивым положением КП в определенной точке катода) по заданной программе, то, в соответствии с программой будет изменяться местоположение устойчивого положения КП.


Формула изобретения

УСТРОЙСТВО ЭЛЕКТРОДУГОВОГО НАНЕСЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее протяженные анод и расходуемый катод, систему осевого перемещения катодного пятна вдоль рабочей поверхности катода, датчик положения катодного пятна и источник электропитания, отличающееся тем, что, с целью расширения технологических возможностей путем обеспечения программного управления областью перемещения катодного пятна дуги по рабочей поверхности расходуемого катода, датчик положения катодного пятна выполнен в виде проводника, установленного над рабочей поверхностью катода, и снабжен датчиками тока, подключенными к его выводам, а также программатором и дифференциальным усилителем, причем входные клеммы датчиков тока подключены к входам дифференциального усилителя, выходы которого соединены с системой осевого перемещения катодного пятна, выходные клеммы датчиков тока соединены друг с другом и подключены к положительной клемме источника электропитания, а программатор подключен к входным клеммам одного из датчиков тока и дифференциального усилителя.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электронной технике, в частности к способам получения тонких пленок плазменным реактивным нанесением в вакууме

Изобретение относится к области нанесения покрытий и может быть использовано в машиностроении для нанесения защитных покрытий

Изобретение относится к области микроэлектроники

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано в машиностроении и станкостроительной промышленности

Изобретение относится к вакуумной ионно-плазменной технике, предназначенной для нанесения покрытий при их одновременном облучении ускоренными ионами и используемой для модификации поверхностей материалов и изделий в машино- и приборостроении, в инструментальном производстве и других областях

Изобретение относится к области нанесения покрытия и может быть использовано для нанесения покрытий на режущий инструмент с помощью электрической дуги в вакууме в атмосфере химически активных газов

Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано при упрочнении коленчатых валов двигателей внутреннего сгорания
Изобретение относится к способу нанесения многослойного покрытия на режущий инструмент и может быть использовано в различных отраслях машиностроения при металлообработке
Изобретение относится к способу нанесения многослойного покрытия на режущий инструмент и может быть использовано в различных отраслях машиностроения при металлообработке

Изобретение относится к области нанесения тонкопленочных покрытий в вакууме

Изобретение относится к вакуумно- электродуговому устройству для нанесения высококачественных покрытий и может быть использовано в машиностроении, инструментальной, электронной, оптической и других отраслях промышленности для модификации поверхностей материалов
Наверх