Устройство для нанесения покрытий в вакууме

 

Изобретение относится к технике производства пленочных покрытий. Цель изобретения - повышение качества получаемых покрытий. Установка содержит рабочую и шлюзовую 1 и 3 камеры, разделенные вакуумным затвором 2. В шлюзовой камере 3 установлен винт 15, соосный с винтом 16 перемещения тележки 5 с подложкодержателями в рабочей камере 1. Тележка 5 с подложкодержателями посредством роликов 13 и 14 и винтов 15 и 16 перемещается по направляющим 4 и 17 в рабочую камеру 1. Повышение качества обеспечивается подбором расстояния между обрабатываемыми подложками источником нагрева и источниками 9 напыления. При этом осуществляется регулировка по высоте тележки 5. 4 ил.

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для получения пленок в радиоэлектронной, радиотехнической и других отраслях промышленности. Целью изобретения является повышение качества покрытия за счет исключения загрязнений подложек в шлюзовой камере газоотделениями и пылью, которые создают элементы механизма перегрузки и перемещения подложек. На фиг. 1 схематично изображено устройство, общий вид; на фиг.2 то же, вид сверху; на фиг.3 сечение А-А на фиг.1 (верхнее положение днища тележки для подложкодержателей); на фиг.4 то же, нижнее положение днища тележки. Устройство содержит рабочую камеру 1 и отделенную от нее вакуумным затвором 2 шлюзовую камеру 3 с направляющими 4, тележкой 5 с днищем 6, регулируемым винтами 7 и 8 относительно стенок 9 и 10, со съемным подложкодержателем 11 с подложками 12, а также с роликами 13 и 14, входящими в зацепление с винтом 15, кинематически связанным с винтом 16 в рабочей камере 1, содержащей направляющие 17, источники нагрева 18, напыления 19 и 20 и очистки 21. Устройство работает следующим образом. После откачки шлюзовой камеры 3 открывается затвор 2 и тележка 5 с подложкодержателем 11, обрабатываемыми подложками 12 посредством роликов 13 и 14, винтов 15 и 16 перемещается по направляющим 4 и 17 в рабочую камеру 1. Затвор 2 закрывается, изделия обрабатываются в выбранной последовательности источником нагрева 18, источником очистки 21 путем введения в контакт с подложкодержателем 11 и при возвратно-поступательном перемещении источниками напыления 19 и 20. Затем затвор 2 открывается, тележка 5 перемещается в шлюзовую камеру 3, затвор закрывается, шлюзовая камера разгерметизируется, подложки 12 выгружаются. Наибольшая производительность устройства при наилучшем качестве покрытий обеспечивается подбором расстояния между обрабатываемыми подложками 12 и источниками нагрева 18 и напыления 19 и 20, регулировкой положения днища 6 тележки 5 относительно стенок 9 и 10 винтами 7 и 8. При этом обеспечивается также обработка изделий с различными габаритами. Кроме этого, подложки не загрязняются газоотделениями и пылью в шлюзовой камере.

Формула изобретения

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее шлюзовую камеру, рабочую камеру, вакуумный затвор, расположенный между ними, и тележку с подложкодержателями и роликами, выполненными с возможностью зацепления с винтом, расположенным в рабочей камере, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет уменьшения загрязнений подложек в шлюзовой камере элементами ее механизма перегрузки и транспортировки подложек, шлюзовая камера снабжена винтом, установленным соосно с винтом в рабочей камере, при этом ролики тележки выполнены с возможностью одновременного контактирования с винтом шлюзовой и рабочей камер.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к средствам наблюдения за процессом нанесения покрытий и может быть использовано в машиностроении, приборостроении и электронной промьшшенности для ко.нтроля толщины покрытий

Изобретение относится к обработке изделий в вакууме
Изобретение относится к способам получения керамических мишеней для нанесения покрытий в вакууме катодным распылением и может быть использовано при изготовлении пленочных интегральных схем с сегнетоэлектрическими элементами

Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано для загрузки и выгрузки изделий в вакуумных установках со шлюзовыми системами и устройствами нанесения покрытий

Изобретение относится к системам ультравысокого вакуума для обработки полупроводникового изделия, к геттерным насосам, используемым в них, и к способу обработки полупроводникового изделия

Изобретение относится к области нанесения покрытий, различных по назначению и составу, и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к технологии вакуумно-дуговой обработки металлов, в частности к производству многослойных лент
Изобретение относится к изготовлению приборов оптоэлектроники и может быть использовано при изготовлении дисплеев, светоизлучающих диодов и затворов полупроводниковых структур типа металл-диэлектрик-полупроводник

Изобретение относится к области изготовления самонесущих тонких пленок, в частности, к способам и устройствам для получения бериллиевой и бериллийсодержащей фольги, используемых для окон при регистрации низкоэнергетических излучений, и может найти применение в прикладной физике, машиностроении, при обработке металлов и в других отраслях промышленности

Изобретение относится к промышленному транспорту, в частности к устройству для непрерывной загрузки емкостей, например пластиковых бутылок

Изобретение относится к области нанесения покрытий и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к геттерной системе для очистки газовой рабочей атмосферы в процессах физического осаждения из паровой фазы
Наверх