Способ обработки силикатного щелочесодержащего стекла

 

Изобретение относится к оптической промьшшенности, а именно к способам химической обработки щелочесодержащих стекол. Цель изобретения - повьшение химической устойчивости. Способ обработки силикатного щелочесодержащего стекла осуществляют парами тетрахлорида кремния при 150- 180°С в течение 0,5-1 ч с последующим удалением непрореагировавших продуктов потоком инертного газа. Способ обеспечивает стабильность геометрических параметров деталей и снижает выщелачивание. 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК 511 4 С 03 С 23/00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4206491/31-33 (22) 09. 03,87 (46) 23.10.88 Бюл. У 39 (71) Ленинградский технологический институт им.Ленсовета (72) Т.В.Шакина, Г.Н,Кузнецова и M.À.Åðåìååâà (53) 666.105(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР . Ф 812780, кл. С 03 С 23/00, 1979.

Авторское свидетельство СССР

К- 624889, кл. С 03 С 23/00, 1977. (54) СПОСОБ ОБРАБОТКИ СИЛИКАТНОГО

ЩЕЛОЧЕСОДЕРЖАЩЕГО СТЕКЛА

„„SU,» 14 2026 А1 (57) Изобретение относится к оптической промышленности, а именно к способам химической обработки щелочесодержащих стекол. Цель изобретения повышение химической устойчивости.

Способ обработки силикатного щелочесодержащего стекла осуществляют парами тетрахлорида кремния при 150180 С в течение 0,5-1 ч с последующим удалением нелрореагировавших продуктов потоком инертного газа. Способ обеспечивает стабильность геометрических параметров деталей и снижает выщелачиваниее. 1 табл.

1432026

Вьпцелачивание

Na<0

Способ

Время обработки, ч

ТемпеРеагент ратура, ОС

6, О 10 моль/г

Известный

Без обработки

Предлагаемый по примерам:

0,4 10 моль/г

0,5 10 моль/г

0.,46 10 моль/г

SiClg

SiClq

SiC1) 0,5

180 l 60

0,65

150

1,0

Изобретение относится к способу повышения химической устойчивости щелочесодержащих силикатных стекол, применяемых в оптической промьпппенности и микроэлектронике.

Цель изобретения — повьппение химической устойчивости, Поверхнос"ь стекла обрабатывают парами SiCi при 150-180 С в течение 10

0,5-1 ч и непрореагировавшие продукты удаляют током инертного газа (аргона, азота).

В результате обработки происходит объединение щелочными ионами незначи-15 тельного по глубине слоя стекла за счет их миграции на поверхность, что приводит к формированию в объеме стекла крутого градиентного слоя. Последний тормозит дальнейшую диффузию ще- 20 лочных ионов за счет конденсации групп Si-0-Si т.е. за счет уплотне— ния сетки стекла.

Применение данного реагента исключает возможность внедрения в по- 25 верхностный слой стекла иных, не со45

Из данных таблицы следует, что обработка стекла парами тетрахлорида кремния снижает вьпцелачивание Na„0 в 12-15 раз.

Таким образом, предлагаемый способ обработки обладает высокой реакционной способностью при более низкой температурной обработке и позволяет получать стекла с повышенной химической устойчивостью.

Предпагаемый способ термообработки обеспечивает стабильность геометрических параметров оптических деталей и не приводит к внедрению в сетку держащихся в стекле элементов, так как кремний уже входит в состав стекла, а хлор в соединении с натрием легко удаляется в виде налета вьппелачивания при смывании водой. Кроме того, применяемый реагент обладает вы— сокой реакционной способностью при низкой температуре обработки стекла, что обеспечивает стабильность геометрических параметров оптических изделий и не приводит к изменению оптических свойств материала.

Пример 1-3. Стекло (или изделие) загружают в реактор проточного типа и обрабатывают парами четыреххлористого кремния (ЫС1,1) в потоке сухого инертного газа-носителя аргона в течение 0,5-1 ч при 150 †1 С.

Избыток реагента уделяют сухим аргоном при той же температуре в течение

1 ч, после чего обработанные образцы выгружают. условия конкретных примеров и свойства полученных материалов представлены в таблице. стекла инородных элементов из газовой фазы, изменяющих оптические свойства изделий.

Ф о р м у л а и з о б р е т е н и я

Способ обработки силикатного щелочес.одержащего стекла парами тетрахлорида кремния с последукщим удалением негрореагировавпплх продуктов потоком инертного газа, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью повышения химической устойчивости, обработку ведут при 150-180 С в течение 0,5-1 ч.

Способ обработки силикатного щелочесодержащего стекла Способ обработки силикатного щелочесодержащего стекла 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к стекольной промьшленностн и может быть использовано при производстве стекольного и технического стекла и стеклоизделий

Изобретение относится к области стеклоделия, в частности к способам обработки поверхности стекла

Изобретение относится к промышленности строительных материалов, в частности к производству архитектурно-строительного стекла, и может найти применение для изготовления светорассеивающих перегородок, дверей, окон, а также для производства сортовой посуды

Изобретение относится к технологии обработки оптических деталей с высокоточными асферическими поверхностями

Изобретение относится к стекольной промышленности, и в частности к оборудованию для изготовления электрообогревных гнутых и плоских изделий остекления

Изобретение относится к обработке стеклоизделий из медицинского стекла

Изобретение относится к стекольной промышленности, в частности к производству, стеклянных трубок, изготавливаемых методом непрерьшного вытягивания из расплава стекломассы

Изобретение относится к технологии производства кинескопов
Изобретение относится к технологиям лазерной обработки твердых материалов, и, в частности к технологии создания изображений внутри объема прозрачных изделий с различными цветовыми эффектами
Изобретение относится к лазерной технологии и может быть использовано для создания художественных изделий и маркировки прозрачных материалов

Изобретение относится к областям регистрации информации путем литографического формирования рельефных микроструктур и может быть использовано в оптотехнике, голографии, электронной технике, полиграфии и прочее

Изобретение относится к легкой или пищевой промышленности и может быть использовано при формировании изображений в прозрачном или малопрозрачном материале различных изделий, таких как емкости (бутылки, банки, флаконы, графины и т.д.), предметы широкого потребления (стекла очков, защитные стекла часов, всевозможные панели каких-либо приборов, сувенирные изделия и т.п.)

Изобретение относится к устройству для формирования изображений в изделиях из прозрачного и малопрозрачного для видимого излучения материала
Изобретение относится к производству художественных стеклянных изделий

Изобретение относится к способу очистки подложки и к нанесению на нее покрытий
Изобретение относится к способу обработки поверхности подложки
Наверх