Композиция, чувствительная к высокочастотному электрическому полю

 

Изобретение относится к записи информации в высокочастотном электрическом поле и позволяет улучшить качество композиции для сокращения времени получения изображения. Композицию готовят из следующих компонентов, мас.%: хлорид меди 5-16

ортофосфорная или фосфористая кислота 8-12

поливиниловый спирт остальное. 2 табл.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ ЕСПУБЛИН бр 4 С 03 G 17/00 1/72

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

H д ВТОРСНОМ,К СВИДЕТЕЛЬСТВУ г;:.;ъ q" i "1

L табл. 1, ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЦТИЯМ

ПРИ ГННТ СССР

1 (21) 4381966/31-12 (22) 1 5. 01 . 88 (46) 30. 1 2. 89. Бюл. У 48 (71) Институт общей и неорганической химии АН БССР (72) Т. Г.Лазарева, P.P. Свиридова, M.3.Гаврилов и И.Н, Ермоленко (53) 772.93(088.8) (56) Коротков К.Г., Хмыров С.В. Фотографирование поверхности твердого те-, ла посредством газового разряда при атмосферном давлении.-Журнал научной и прикладной фотографии и кинематографии, !982, т.27, У 2, с. 131.

Авторское свидетельство СССР

У 1097964, кл. G 03 С 1/72, 3 983.

Изобретение относится к записи информаций в высокочастотном электрическом поле и может быть использовано для выявления дефектов поверхности.

Целью изобретения является улучшение качества композиции для сокра" щения времени получения изображения.

Композиция на основе поливинилового спирта и хлорида меди содержит орфтофосфорную или фосфористую кислоI ту при следующем соотношении компонентов, мас.X: ллорид меди 5-16

Ортофосфорняя ипи фосфористая кислота 8-12

Поливиниловый спирт Остальное

П р им е р 1.К 15 мл 5%-ного раствора поливинилового спирта добавляют

0,7 мл 8%-ного раствора хлорида меди (II), В раствор вводят 0,3 мм 12%-ной ортофосфорной кислоты. Приготовлен2 (54) КОМПОЗИЦИЯ, ЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ K ВЫСОКОЧАСТОТНОМУ ЭЛЕКТРИЧЕСКОМУ ПОЛЮ (57) Изобретение относится к записи информации в высокочастотном электрическом поле и позволяет улучшить качество композиции для сокращения времени получения иэображения. Композицию готовят из следующих компонентов, мас.%: хлорид меди 5-16; ортофосфорная или фосфористая кислота 812; поливиниловый спирт остальное.

2 табл.

3 ную таким образом смесь поливают на подложку, площадью 400 см и высуши-, вают. Полученная пленка имеет толщину около 15 мкм и содержит, мас.X: хлорида меди (II) 5, ортофосфорная кислота 4, остальное поливиниловый спирт. Пленка подвергается воздействию высокочастотного поля напряженностью 5 кВ с частотой 25 кГц в течение 5 мин.

Аналогично получают пленки с иными массовыми. соотношениями компонентов.

Наличие эффекта электрочувствитель" ности таких композиций показано в

Пример 2. Пленки, полученные, как в примере 1, и содержащие, мас.X: хлорид (II) 4-20, фосфори-. стая кислота 4-15, поливиниповый спирт остальное, испытывают, как в

1532894

Таблица 1

Содержание ортофосфорной кислоты, мас.Ж

Наличие эффекта электрочувствительности при содержании хлорида меди (EI), мас.7

8

12

15 примере 1. Наличие эффекта электрочувствительности зарегистрировано при тех же соотношениях компонентов, что и в композициях на основе ортофосфорной кислоты (табл.1)

Пример 3 (по прототипу) .

Пленку, полученную, как в примере 1, и содержащую, мас.Ж: хлорид меди (II)

25, поливиниловый спирт остальное, испытывают как в примере 1. На пленке отсутствует изображение электрода, Термопроявление при 120 С. в течение

25 мин также не приводит к появлению изображения. Изображение проявля- 15 ется только при условии установки межэлектродного промежутка около

0,3 мм и последующем термопроявлении.

Пример 4. Пленку, полученную, как в примере 1,и содержащую мас.Ж: хлорид меди (IE) 16, ортофосфорная кислота 12, поливиниловый спирт остальное, испытывают, как в примере

1, но длительность воздействия эле,ктрического поля составляет 5, 10, 30 с, 1,,2, 5 мин. Изображение поверхности электрода возникает при минимальном времени воздействия поля

30 с. Дальнейшее увеличение длительности воздействия поля вплоть до

5 мин приводит лишь к увеличению оптической плотности изображения.

Пример 5. Для определения разрешающей способности предлагаемой электрочувствительной композиции пленку, полученную, как в при35 мере 1, и содержащую, мас.7. "хлорид меди (II) 16, ортофосфорная кисло— та 8, поливиниловый спирт остальное, испытывают, как в примере 1, но в ка- 40 честве нижнего электрода используют металлическую резную повехность со щелями 5-200 мкм. Наблюдается разрешение щели 1 0 мкм .

Таким образом, на предлагаемой электрочувствительной композиции.

v можно получать изображения поверхности с разрешением не менее 10 мкм.

Сравнительные характеристики предлагаемой композиции и по прототипу приведены в табл.2.

Таким образом, предлагаемая композиция позволяет интенсифицировать процесс получения изображения за счет исключения операции проявления,что уменьшает время получения изображения в 6-25 раз (в з;.висимости от длительности экспозиции), а также за счет того, что при использовании предлагаемой композиции отпадает необходимость устанавливать, как в прототипе, разрядный зазор между электродами. Кроме того, пленка с полученным изображением более эластична, чем в прототипе,и отличается значительно меньшим содержанием меди.

Формула из обре те ния

Композиция, чувствительная к высокочастотному эле ктриче скому полю, содержащая поливиниловый спирт и хлоридмеди,отличающаяся тем,что, i с целью улучшения качества композиции для сокращения времени получения изображения, она дополнительно содержит ортофосфорную или фосфористую кислоту при следующем соотношении компонентов, мас .7.:

Хлорид меди 5-16

Ортофосфорная или фосфористая кислота 8-12

Полинивиловый спирт Остальное

1532894

Таблица 2

Состав композиции, мас.X

Разрешение, мкм

Получение изображения

Время экспозиции с

Оптическая плотность иэображения без проявления

Без проявления

0,7 7 „„„= 400

l0

Термопроявление

0%1Л„„Ы 700

10

Т 120 С

25 мин

Редактор О. Спесивых

Заказ 8097/52

Тираж 411

Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, ул. Гагарина,f01

Предлагаемый

Хлорид меди (II)

16

Ортофсофорная ипи фосфоритная кислота 8

Полив нииповый спирт 76

По прототипу

Хлорид меди (II)

Поливиловый 25 спирт 75

Составитель Р.Лебедев

Техред М.Дидык Корректор В. Кабаций

Композиция, чувствительная к высокочастотному электрическому полю Композиция, чувствительная к высокочастотному электрическому полю Композиция, чувствительная к высокочастотному электрическому полю 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области регистрации информации электрофотографическим способом и может найти применение для вывода и регистрации информации

Изобретение относится к технике вывода алфавитно-цифровой и графической информации из ЭВМ и позволяет документировать информацию с экранов видеомониторов и телевизионных дисплеев ЭВМ и персональных компьютеров

Изобретение относится к способу дефектоскопии металлической, поверхности в высокочастотном злектрическом поле и позволяет упростить процесс выявления дефектов на металлической поверхности

Изобретение относится к устройствам для фотографирования объектов в токах высокой частоты и позволяет повысить электробезопасность при фотографировании биологических объектов

Изобретение относится к рельефографическому устройству для отображения построчной информации и позволяет повысить качество отображения, рельефной информации

Изобретение относится к лентопротяжным механизмам устройства электрохимической записи информации и позволяет повысить качество записи путем уменьшения коробления и смятия электрохимической бумаги в процессе записи информации

Изобретение относится к способу фотографирования на галоидсеребряном фотоносителе быстропротекагощих процессов со случайной величиной экспозиции , меньшей порога чувствительности фотоматериала, и позволяет повысить качество фотографирования путем уменьшения электроиндуцируемой вуали

Изобретение относится к устройству для определения количества токопроводящих

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для изготовления печатных плат и форм

Изобретение относится к способам получения голографических дифракционных решеток на позитивных фоторезистах, нанесенных на стеклянные подложки

Изобретение относится к способам получения фотополимеризующихся композиций, которые используют в технологии печатного монтажа и полиграфии для получения рельефных изображений

Изобретение относится к способам приготовления материалов для фотолитографии фоторезисторов, применяемых в производстве микросхем, печатных плат, и может быть использовано в микроэлектронике

Изобретение относится к фотографическому материалу, не содержащему соединений серебра, и может быть использовано в репрографии, при получении позитивных отпечатков с негативов в традиционной фотографии, при фотографической записи информации (например, лучом лазера или осциллографа)

Изобретение относится к композициям фоторезиста и может быть использовано в микроэлектронике для получения микросхем методом фотолитографии

Изобретение относится к способам получения фотополимеризующихся композиций для защитных рельефов, которые находят применение в технологии печатного монтажа и в полиграфии для получения рельефных изображений
Наверх