Патент ссср 167836

 

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства ¹

Заявлено 05Х1.! 963 (№ 840400/23-4) Кл, 121, 37 с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 05.11.1965. Бюллетень ¹ 3

Дата опубликования описания 15.II.1965

NIiK, С Oib

Государственный комитет ло делам изобретений и открытий СССР

УДК

: вторы изобретения

Г. Ф. Лымарь, И. В, Поликанов и С. А. Медведев

Заявитель

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ КАРБИДА КРЕМНИЯ

Подписная группа М 45

Известный способ получения монокристаллов карбида кремния гексагональной модификации (а — SiC) заключается в том, что при пользовании обычной трубчатой печью сопротивления с графитовым нагревателем при температуре 2500 С в течение 10 — 16 час в среде азота или водорода в полости цилиндра выращивают а — SiC в виде топких пластин. Выход продукта составляет 1 — 3% от исходной загрузки.

Предложенный способ отличается тем, что процесс выращивания ведут в вакууме. Кристаллы получают в виде крупных объемных монокристаллов а — SiC. Выход составляет

30 — 40% от исходной загрузки.

Пример 1. Для выращивания используют вакуумную печь сопротивления с графитовым нагревателем. Мощность печи 30 — 40 кна, регулировка мощности плавная. Точность стабилизации мощности 0,3%. Диаметр горячей 30ны нагревателя 90 чл, высота 200 л.и. Материал нагревателя, экранов и тигля — графит.

В графитовый тигель диаметром 70 — 80 лл и высотой 140 лл загружают исходный карбид кремния, который предварительно травят в кипящей царской водке пли смеси азотной и плавиковой кислот для удаления поверхностных загрязнений. Средний размер кристаллов исходного карбида кремния 0,5 — 1 5 л я.

Тигель закрывают графитовой крышкой и помещают внутрь нагревателя в таком положении, чтобы температура дна тигля была на

60 — 100=С ниже, чем в верхней его части, а с постепенным ее повышением печь откачивают при вакууме не ниже 10 - л.ч рт. ст. (2 — 3 час откачки). По достижении 1900 — 1950=С тигель выдерживают в течение 1 час (повышение температуры (рабочий) до 2150 С должно зани10 мать не более 15 лин). Прп 2100 — 2250 С процесс продолжается б — 8 vac, вакуум

10 — .чл рт. ст, Кристаллы а — SiC легко отделяются от

P — SiC. Большинство а — SiC (по рентгено15 структурному исследованию) принадлежит политипу бН, однако часто встречаются кристаллы политипов 21R и 4Н.

После подобной двукратной перекристаллизации выросшие мопокристаллы а — S!C бес2О цветны, имеют проводимость и-типа и удельное сопротивление до 10:- о,и сл.

В процессе вакуумной перекрпсталлизации возможно легирование растущих кристаллов, для чего в исходный карбид добавляют при25 меси в виде элементов или их соединений. Ha1IPHMPP, !IPH 10038!

167836

Предмет изобретен ия

Составитель Т. И. Ухорская

Редактор Л. Г. Герасимова Текред А. А. Кудрявицкая Корректор Л. В. Тюняева

Заказ 12/4 Тираж 500 Формат бум. 60 90,"8 Объем 0,13 изд, л, Цена 5 коп.

ЦНИИПИ Государственного комитета по делам изобретений и открытий СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типография, пр, Сапунова, 2

1. Способ получения монокристаллов карбида кремния путем перекристаллизации через газовую фазу при высоких температурах, отличающийся тем, что, с целью увеличения выхода карбида кремния гексагональной модификации, перекристаллизацию ведут в вакууме (не ниже 10=" мм рт. ст.) при непрерывном откачивании.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что выращивание монокристаллов ведут при температурах 2100 — 2250 С с градиентом температуры 6 — 10 С при однородном заполнении верхней половины тигля исходным карбидом кремния с величиной зерен 0,05 — 1,5 м и.

Патент ссср 167836 Патент ссср 167836 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано в технологии получения тонкопленочных многослойных покрытий

Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых соединений типа А3N и может быть использовано при изготовлении эпитаксиальных структур различного назначения

Изобретение относится к полупроводниковой области техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии для снижения плотности дефектов в эпитаксиальных структурах

Изобретение относится к способу и устройству для изготовления монокристаллов карбида кремния

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и приборов

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и приборов

Изобретение относится к синтетическим драгоценным камням из полупрозрачного монокристаллического карбида кремния и может быть использовано в ювелирной промышленности

Изобретение относится к оборудованию для производства элементов полупроводниковой техники и, в частности, предназначено для создания полупроводниковых соединений азота с металлами группы A3
Наверх