Способ свч-обработки диэлектрических материалов

 

Изобретение относится к электротехнике. Цель изобретения - повышение КПД. При СВЧ-обработке диэлектрического материала, проходящего на конвейерной ленте под излучателем, контролируют и поддерживают на заданном уровне толщину слоя материала, под лентой устанавливают экран, а у излучателя - датчик суммарного коэффициента отражения и, перемещая экран в зоне заданного растояния от ленты, поддерживают суммарный коэффициент отражения минимальным. 1 ил.

СО1ОЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИЛЛИСТИ II=CKMX

РЕСГТУЬЛИК

<511s Н 05 В 6/06

ГОСУДЛРСТИГННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОЬРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ 1КНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1О О ! (р

I1= — агсй(), Р1 1

188 о Р7 (21) 4622675/07 (22) 20,12.88 (46) 07.08.91. Бюл. N. 29 (71) Московский институт инженеров сельскохозяйственного производства им. В. П.

Горячкина (72) И, Ф, Бородин, С, В. Вендин. С. Г. Кузнецов и М. Д. Михайлов (53) 621.365.52(088,8) (56) Авторское свидетельство СССР

N 1416068. кл. А 01 В 47/00, 1987.

Патент США N4492839,,кл. Н 05 В 9/06, 1986. (54) СПОСОБ С ВЧ-ОБРАБОТКИ ДИЭЛ Е КТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ

Изобретение относится к электротехнике, предназначено для обработки диэлектрических материалов электромагнитным полем СВ4 и может быть использовано в

СВЧ-установках сельскохозяйственного и промышленного назначения.

Цель изобретения — повышение коэффициента полезного действия, На чертеже изображено устройство для реализации способа.

Устройство содержит источник 1 электромагнитных колебаний, который соединен с камерой 2, Через камеру 2 проходит конвейерная лента 3, под которой находится экран 4, параллельный ленте 3. Камера 2 на входе и выходе снабжена устройствами загрузки 5 и выгрузки 6.

Привод 7 экрана 4 снабжен датчиком 8 перемещения и имеется датчик 9 коэффициента отражения, Выходы двух датчиков B u

9 подключены к мультиплексору 10, при этом его выход через аналого-цифровой

SU 1669087 А1 (57) Изобретение относится к электротехнике. Цель изобретения — повышение коэффициента полезного действия. При

СВЧ-обработке диэлектрического материала, проходящего на конвейерной ленте под излучателем, контролируют и поддерживают на заданном уровне толщину слоя материала, под лентой устанавливают экран, а у излучателя — датчик суммарного коэффициента отражения и. перемещая экран в зоне заданного расстояния от ленты. поддерживают суммарный коэффициент отражения минимальным. 1 ил. преобразователь 11 подключен к микропроцессорному устройству 12, один выход которого подключен к загрузочному устройству

5, а второй — к приводу 7 экрана 4.

В микропроцессорное устройство 12 при помощи клавиатуры 13 вводится код обрабатываемого материала, которому соответствуют значения его электропроводимости о и действительной части диэлектрической проницаемости A. Эти данные содержатся в памяти микропроцессорного устройства 12 и могут быть взяты из справочника.

Способ осуществляется следующим образом.

Микропроцессорное устройство 12 осуществляет расчет толщины обрабатываемого материала li по формуле

1669087 (2) (3) 25 и подает управляющий сигнал на ус<ройство загрузки 5 для поддержания заданной тол цины обрабатываемого материала, Толщина конвейерной ленты lz выполненной из диэлектрика выбирается из соотношения

lPe 1 — ДЛИНа ВОЛНЫ ИЗЛУчЕНИЧ В ВОЗДУШНОЙ среде, м; е. г — действительная часть диэлектрической проницаемости материала ленты. ! ".сстояиие 1з между конвейерной лен. s,I 3 «экра< о<1 1 уста«авливается по соот<ишани<о

Б процессе работы датчик 9 контролируеl су<1марный отраженный сигнал и с no10IJlью привода 7 путем перемещения

"-кр;<на поддерживается минимум суммар«ого козффиееис «та отражения.

Б кач< с Гве 11римера конкретной реали зац1<и способа предлагается случай СБЧобработки тепличного грунта на

CB (-ус<ановка с длиной электромагнитной волны излуча«ия <.= 0,126 м. Проводимость тепличного грунта и =- 1.10 см, действи ельная часть диэлектрической проницаемости грунта 1= 2,0, Материал конвейерной ленты фторопласт (EQ= 2,6).

Г таком случае тепличный грунт, высо1ои слоя 11=0,51 м, подают на конвейерной ле«те, тол<дина которой 0,039 м, под излучател<: и воздействует на него электромагнит< ым полем СБЧ. Расстояние между л нтой и электромагнитным экраном поддерживается равным 0,13 м.

По маре нагрева поступающего в камеру 2 грунта его диэлектрические характеристики меняются, и частности действительная час1ь диэлек1рической проницаемости. Б результате меняется коэффициент отражения — он уходит от настроенчого минимума и все больше энергии возвращается в источник 1 электромагнитных колебаний, увеличиваются потери электрической энергии и повышается его температура.

Применяемое микропроцессорное устройство вданном случаеслужитдля предотвращения описанной ситуации и 110 указанному алгоритму позволяет добиться максимальной энергопередачи от источника 1 электромагнитных колебаний к грунту.

5 Устройство за счет уменьшения отраженной части энергии электромагнитных колебаний снижает энергоемкость процесса. Благодаря наличи<о микропроцессорного блока расширяется диапазон

10 обрабатываемых материалов.

Формула изобретения

Способ СВЧ-обработки диэлектрических материалов, при котором материал

15 подают на конвейерной ленте под излучатель СВЧ, воздействуют на него электромагнитным полем и контролируют толщину слоя обрабатываемого материала, отличающийся тем,что,сцелью

20 повышения коэффициента полеэногодейстBvI;I, толщину vî<-1<1åéåðíîé ленты, выполненной из диэлектрика, выбирают по формуле где 1г — толщина конвейерной ленты, м;

); длина электромагнитной волны излу30 чения (в воздушной среде), м; гг — действительная часть диэлектрической проницаемости конвейерной ленты; толщину слоя обрабатываемого материала поддерживают равной

i1 =- " агсть („), А ;1 где l1 — тол<ци«a слоя обрабатываемого материала, м; о- проводимость обрабатываемого материала, см; г1 — действительная часть диэлектрической проницаемости обрабатываемого ма1С териала, под лентой устанавлива<от регулируемый электромагнитный экран на расстоянии, от нее, равном !з

50 1

<з = агст9(у, ) дг:-, щŠ— Š— - I> 1 в процессе обработки материала контролируют суммарный коэффициент отражения и поддерживают его минимум перемещением электромагнитного экрана, 1669087

Составитель О.Турпак

Редактор С.Патрушева Техред М.Моргентал . Корректор Н.Король

Заказ 2660 Тираж 477 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва. Ж-35, Раушская наб„4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул.Гагарина, 101