Стекло

 

Изобретение относится к производству оптических оксидных стекол, активированных полупроводниковыми соединениями и предназначенных для использования в качестве светофильтров и элементов лазерной техники. С целью повышения крутизны границы поглощения при сохранении нечувствительности к термообработке стекло включает, мае. %: SIO2 68,96-74.36; NaaO 14,89-16,06 ; CulnS- 0.74-0,99 ; CaO 3,68- 8,57; BaO 0,02-11,73 или Cd 0,02-10,01. Крутизна границы поглощения K-DArp-юо -DArp для данного стекла равна 0,2314-0,5500. 3 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ социмистических

РЕСПУБЛИК (s )s C 03 С 3/078

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ пРи гкнт сссР (21) 4720016/33 (22) 18.04.89 (46) 30.12.91. Бюл. I4 48 .(71) Минский радиотехнический институт (72) И.Л.Раков, И.В.Боднарь, С.Г.Котов, А.П.Молочко, А,А,Ставров и Н.П.Соловей (53) 666.22(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

М 517571, кл. С 03 С 3/04, 1974.

Авторское свидетельство СССР

t4 1527199, кл. С 03 С 3/089, 1987. (54) СТЕКЛО

Изобретение относится к производству оптических оксидных стекол, активированных полупроводниковыми соединениями и предназначенных для использования в качестве светофильтров и элементов лазерной техники, l

Целью изобретения является повышение крутизны границы поглощения при сохранении нечувствительности к термообработке.

Синтез стекла осуществляют путем плавления шихт, приготовленных иэ соответствующих реактивов; кварцевого песка, натрия углекислого, кальция углекислого, бария углекислого, кадмия углекислого,полупроводникового соединения CulnSz, находяшихся в мелкодисперсном состоянии, в газопламенной печи при максимальной температуре 1450+1 0 С с вь.держкой в течение

1 ч в восстановительных условиях, Для соБЫ 17О1б58 А1 (57) Изобретение относится к производству оптических оксидных стекол, активированных полупроводниковыми соединениями и предназначенных для использования в качестве светофильтров и элементов лазерной техники. С целью повышения крутизны rpaseqv поглощения при сохранении нечувствительности к термообработке стекло включает, мас. $. Si(h 68,96-74.36; NazG . 14,89-1e,об; Сапа.. 0,74-0,99; Саа 3,68—

8,57; ВаО 0,02-11, З или Cd 0,02-10,01.

Крутизна границы поглощения

К Dg — happ . . гР для данного стекла равна 0,2314-0,5500. 3 табл. здания восстановительной среды в шихту вводят уголь в количестве 2 мас. ф, (сверх

100 }, При этом для варки стекол, содержащий CdO,часть угля может быть замещена на серу в количестве 0,01-1,0 мас. fo (содержание угля должно быть не менее 1,0 мас. ф,). Выработку стекломассы осуществляют на холодную плиту с последующим отжигом стекол в муфельной электрической печи при

570% С в течение 2 ч. Исследования спектрал,н ых хара ктеристик проводят на образцах в виде полированнных плоскопараллельных плес 7:.lHок толщиной 2 мм.

В габл. 1 и 2 приведены конкретные состг =-.ы стекла,,Гля определения чувствительности к термообработке стекла подвергают темпера,.урной обработке при 650 С и выдержке

4 ч

Условия синтеза. и свойства стекол представлены в табл. 3.

Численное значение крутизны границы поглощения Рассчитывали Ао Формуlk = Иrra = Ioo : А„

11з табл, 3 видно, что данные стекла характеризцются сравнительно крутой rp8,ницей поглощения имеют неб у ь юпую пере . ходную: бласть„н8чуВствительны к термообраОотке и могут быть испОльзованы дл и с ветофил ьт РОВ, Отрезающих изл учен ие с длинОЙ волнь1 <1,1 MKM.

Формула изобретения

Стекло, включающее SiCI, Иа2О, CulnSg, о т л и ч а ю щ 8 е с я тем что. с целью

О повыиения крутизны границы пОглОщения при сохранении нечувствительности к термообработке, стекло дополнительно содержит СВО, Вао или CdO при следующем соотнименик компон8нтов, мас. . Я1С2

10 68,96-74,36; КарОз 14,89 — 16,06; CulnS2.

0,74-0,99; СВО 3,68-8;57; 880 0.,02-11,73 или CdG 0,02--10,01, Таблица1

1701658

ТаблицаЗ

Стекло саста

4 т

Все составы окрашивало

Составитель М. Гулгокич

Редактор Т, Лазоренко Техред M.Mîðãåíòàë Корректор М, Кучерявая

3"каз 4508 Тираж Подписное

ВИИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035. Москва, Ж 35. Раувская наб„4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101