Устройство для обработки диэлектрических подложек в тлеющем разряде

 

Устройство для обработки диэлектрических подложек в тлеющем разряде, содержащее рабочую камеру, подложкодержатель, нагреватель-катод и источник питания нагревателя-катода, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции и расширения функциональных возможностей, катод выполнен в виде гирлянды из нескольких подвижных трубок, электрически соединенных между собой с возможностью изменения конфигурации по форме обрабатываемой подложки.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к металлургии, в частности к износостойким многослойным покрытиям, наносимым в вакууме на детали узлов трения, инструмент и инструментальную оснастку

Изобретение относится к способу изготовления режущего медицинского инструмента и может найти применение в медицине при изготовлении инъекционных игл, ножей, скальпелей, ножниц, долот и др

Изобретение относится к химикотермической обработке металлов и сплавов, в частности к лазерному легированию , и может быть использовано для упрочнения поверхности деталей, работающих в условиях динамических контактных нагрузок

Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано для вакуумного нанесение тонких пленок и покрытий из импульсных потоков ускоренной электроэрозионной плазмы

Изобретение относится к области технологии изготовления приборов оп тоэлектроники, а именно к способам получения пленок на основе оксидов индия и олова для тоякоЛпеночных электролюминесцентньпс и жидкокрис таллических

Изобретение относится к области плазмохимического травления проволоки (П), преимущественно диаметром до 150 мкм, и может быть использовано в машиностроительной и приборостроительной промышленности

Изобретение относится к ионно-плазменным технологиям создания защитных, оптических декоративных и иных слоев на поверхности изделий из металла, стекла, керамики

Изобретение относится к способам, предназначенным для электродуговой обработки поверхностей металлических деталей, более конкретно - к способам, предназначенным для катодной обработки деталей в вакууме
Изобретение относится к области физики взаимодействия мощного лазерного излучения с веществом, преимущественно в исследованиях термодеядерного управляемого синтеза

Изобретение относится к области машиностроения и может быть использовано для напыления вакуумно-плазменных покрытий в электронной, оптической и других отраслях промышленности

Изобретение относится к отражающим пластмассовым пленкам, пропускающим свет и сохраняющим свойства в течение длительного времени

Изобретение относится к вакуумной ионно-плазменной технологии обработки поверхности твердого тела и предназначено для улучшения и придания требуемых электрофизических, химических и механических свойств поверхности изделий из металлов и сплавов, полупроводников, диэлектриков, сверхпроводников и других материалов
Изобретение относится к области изготовления изделий из сплава на основе кремния, преимущественно распыляемых мишеней, которые могут быть использованы при нанесении тонких покрытий для электронной, оптической, компьютерной техники
Наверх