Способ выращивания риса

 

Изобретение относится к сельскому хозяйству и может быть использовано при возделывании риса в поливной культуре. Цель изобретения - повышение эффективности за счет снижения затрат электроэнергии и трудозатрат. При строительстве или реконструкции рисовой оросительной системы проводят рыхление поверхности почвы на глубину закладки электродов, наносят на разрыхленный слой токопроводящий материал (в объеме 0,15% к объему почвенного слоя), подают воду до полного насыщения разрыхленного почвенного слоя и под слоем воды проводят фрезерование почвенного слоя до образования гидросмеси. После образования то коп ро водящего слоя гидросмесь отстаивают, осветленную воду сбрасывают, а в токопроводящем слое размещают электроды. Напряжение электрического поля составляет 4-6 В, количество электродов уменьшается по сравнению с известным способом (без создания токопроводяшего слоя) в два раза, что обуславливает и сокращение трудозатрат на эту же величину. 3 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) 751349 (21) 4721487/15 (22) 19.06.89 (46) 15.02.92. Бюл. М 6 (71) Дальневосточный научно-исследовательский институт гидротехники и мелиорации Научно-производственного объединения "ДальНИИГИМ" (72) В.Л,Головин, Н.А.Гузев, Л,Н.Кузьменко и А.П.Хохл юк (53) 636.085(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

М 751349, кл. А 01 6 25/00, 1978. (54) СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ РИСА (57) Изобретение относится к сельскому хозяйству и может быть использовано при возделывании риса в поливной культуре, Цель изобретения — повышение эффективности за счет снижения затрат электроэнергии и

Изобретение относится к сельскому хозяйству, может быть использовано при воздел ывании риса в поливной, культуре и является усовершенствованием способа вы- . ращивания риса по основному авт. св . М

751349.

Известный способ выращивания риса заключается в том, что поверхность почвы затопляют водой, в почву и воду устанавливают электроды и. начиная с фазы кущения, подают на них разность электрических потенциалов; плюс — на воду, минус —.на почву, с таким расчетом, чтобы разность потенци, алов между почвой и водой в любой точке рисового поля не превышала 2-6 В.

Недостатком известного способа является его низкая эффективность, связанная

„„Я3„„1711723 А2 (я)ю А 01 G 25/00, А 01 В 79/00.

А 01 6 16/00 трудозатрат, При строительстве ипи реконструкции рисовой оросительной системы проводят рыхление поверхности почвы на глубину закладки электродов, наносят на разрыхленный слой токопроводящий материал (в объеме 0.15% к объему почвенного слоя), подают воду до полного насыщения. разрыхленного почвенного слоя и под слоем воды проводят фреэерование почвенного слоя до образования гидросмеси. После образования токопроводящего слоя гидросмесь отстаивают, осветленную воду сбрасывают, а в токопроводящем слое размещают электроды. Напряжение электрического поля составляет 4-6 В, количество электродов уменьшается по сравнению с известным способом (без создания токопроводяшего слоя) в два раза, что обуславливает и сокращение трудозатрат на эту же величину. 3 ил; со сложностью создания равномерного электрического поля в узконормируемом диапазоне разности потенциалов, что вызывает необходимость укладки в почвенный слой густой сети электродов.

Цель изобретения — повышение эффективности за счет снижения затрат электроэнергии и трудозатрат, Поставленная цель достигается тем, что в известном способе выращивания риса предварительно перед установкой электродов проводят рыхление почвенного слоя на глубину их закладки и на поверхность поля наносят диспергированный токопроводящий материал, после чего под споем воды проводят фрезерование почвы до образования гидросмеси с последующим отстаива1711723 нием и сбросом осветленной воды, а в образованный токопроводящий слой устанавливают электроды;

Отличительными признаками от основного изобретения являются следующие. 5

Предварительно перед установкой электродов проводят рыхление почвенного слоя на глубину их закладки, Предварительно перед установкой электродов на ловерхность поля наносят диспергированный токопроводя- 10 щий материал, после чего под слоем воды проводят фрезерование почвы, Проводят фрезерование почвы до образования гидросмеси с последующим отстаиванием и сбросом осветленной воды, В образованный 15 токопроводящий слой устанавливают электроды.

Наличие отличительных признаков в предлагаемом техническом решении позволяет получить следующий положительный 20 эффект: упрощается создание равномерного электрического поля в диапазоне 4-6 В, уменьшается более чем в два раза количество электродов, устанавливаемых в почвен- . ном слое, так как электрическое сохиро- 25 тивление токопроводящего слоя значительно меньше сопротивления почвы, при этом напряжение источника питания не превышает 6 В.

Отличительные признаки предлагаемо- 30

ro объекта не обладают функциональной самостоятельностью, так как функцией является образовать токопроводящий слой под пахотным горизонтом с подводом к нему электрического питания посредством ус- 35 тэновленных в этом слое электродов.

Указанная функция выполняется только при наличии всей совокупности отличительных признаков и только в этом случае достигается поставленная цель. 40

На чертежах изображены поперечные профили чека рисовой оросительной системы на различных стадиях осуществления способа. На фиг.1 изображено нанесение токопроводящего материала на поверх- 45 ность разрыхленного слоя почвы; на фиг.2— проведение фреэерования почвенного слоя под слоем воды и образование токовроводящего слоя: на фиг.3- закладка электродов и заполнение чека водой после посадки ри- 50 са.

На чертежах обозначены слои почвы 1 и воды 2, электроды 3, устанавливаемые в слой почвы 1, объединенные изолированным выводом 4, подсоединенным к источни- 55 ку 5 питания, электрода 6, устанавливаемые в слой воды 2, обьединенные изолированным выводом 4, также подсоединенные к источнику 5 питания. разрыхленный слой 7 почвы 1 с нанесенным на него диспергированным токопроводящим материалом 8, гидросмесь 9, образующаяся после фрезерования разрыхленного слоя 7 почвы 1 под слоем воды, токопроводящий слой 10, образующийся в процессе фрезерования и отстаивания гидросмеси 9, защитная стенка

11, устанавливаемая до фрезерования почвенного слоя для предотвращения попадания гидросмеси 9 в канал. Пунктиром показана глубина рыхления почвы 1, соответствующая глубине фрезерования и глубине установки электродов 3.

Способ осуществляют следующим образом.

При строительстве или реконструкции рисовой оросительной системы проводят выравнивание поверхности, например, с помощью скрепера и рыхление почвы 1 на глубину предполагаемой закладки электродов (показано пунктиром), На поверхность разрыхленного почвенного слоя 7 наносят диспергированный токопроводящий материал 8, например отходы абразивной обработки металлических изделий; в обьеме, например, 0,15;(к объему почвенного слоя

7 (фиг,1), Доза внесения токопровоуящего материала при этом составляет 4,5м /га. На поверхность подают воду иэ канала оросителя, .обеспечивая полное водонасыщение разрыхленного почвенного слоя 7, устанавливают защитную стенку 11, предотвращающую попадание гидросмеси в канал, и проводят его фрезерование, например, с помощью фреэы ФБН-2,8 под слоем воды по известной технологии. Фреэерование почвенного слоя Y проводят до образования гидросмеси 9 (фиг,2). При этом за счет того, что плотность токопроводящего материала, например алюминия 2,7 r/см, стали 7,8 з г/см, а плотность гидросмеси 1,20-1,30 г/см и размера частиц токопроводящега материала не меньше размельченньи частиц почвы гидросмеси 9 при фреэеровэнии слоя почвы 7, они имеет большую гидравлическую крупность, скорость оседания и, следовательно, концентрируются в нижней части слоя гидросмеси 9, образуя токопроводящий экрай Ю (фиг.З) мощность 3-5 сеа

Концентрация" токопровщримого материала в экране 10 составляет 1,0-1,5ф . Исследования показали, что при тэкойконцентрации токопроводящего материала (алюминиевые опилки) электрическое сопротивлеиие по сравнению с чистой почвой при естественной влажности снижается на 4060ф. Дальней иве увеличение концентрации (в опытэн до . 80®) не дает существенного снижения электрического сопротивления, После образования токопроводящего экрана 10 гидросмесь 9 отста1711723 ивается избыточная вода по мере ее осветления сбрасывается в канал-o poem ebb. До залива почвы 1 слоем воды 2 производят закладку электродов 3 токопроводящий слой 10, например, с помощью электрозаделывающего агрегата, обеспечивающего размотку проволоки с катушки и подачу через отверстие в лапе-рыхлителе на заданную глубину(фиг.3). 8 токопроводящем слое их располагают на расстоянии 12-16 м друг от друга. поскольку при внесении, например. 0,157ь к объему почвы I металлических опилок удельное электрическое сопротивление образующегося токопроводящего слоя 10 по сравнению с сопротивлением почвы уменьшается примерно в два раза, напряжение источника 5 питания поддерживают на уровне не более 6 8. После закладки электродов 3 их объединяют общим изолированным выводом 4 и выводят к источнику 5 питания. Электроды 6, размещаемые на поверхности почвы 1, устанавливают одновременно с посадкой семян. Для этого на сеялке закрепляют катушку с электропроводом. При движении сеялки провод разматывается с катушки и укладывается на поверхность рисового поля. Укладке электродов 6 производится в промежутках между электродами 3, уложенными втокопроводящем блоке 10. От поверхностных электродов 6 также делают вывод

4 к источнику 5 питания. Ток на электроды: плюс — на воду, минус - на почву, подают, начиная с фазы кущения растений. До куще20

Формула изобретения

Способ выращивания риса по авт. св. Q

751349, отл и ч а ю щи йс ятем, что. с целью повышения эффективности за счет снижения затрат электроэнергии и трудозатрат, 25 предварительно перед установкой электродов проводят рыхление почвенного слоя на глубину их закладки и на поверхность поля наносят диспергированный токопроводящий материал, после чего под слоем воды

30 проводят фрезерование почвы до образования гидросмеси с последующим отстаиванием и сбросом осветленной воды. а в образованный токопроводящий слой устанавливают электроды.

35 ния режим орошения обычный, после нача ла злектростимулирования уровень поливной воды можно без ущерба для урожая снизить вдвое.

5 Экономический эффект предлагаемого технического решения достигается за .счет сокращения расхода электроэнергии, так как образуемый токопроводящий слой позволяет поддерживать напряжение не выше

10 6 В. При этом обеспечивается создание более равномерного электрического поля, Кроме того, вдвое уменьшается длина электродов. Образование токопроводящего экрана наиболее эффективно при необходи15 мости одновременного проведения планировки, например, с использованием способа планировки поверхности поля мелиоративной системы.

1711723

Фиг. 3

Cga ° 3 . Составитель В.Головин

Редактор М.Кобылянская Техред ММаргентал Корректор В.Гирняк

Заказ 476 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35. Раушская наб„4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101