Установка для очистки аргона

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союэ Соеетскиэ

Социалистически»

Ресоуелик

Зависимое от авт. свидетельства ¹

Заявлено 14.1.1966 (№ 1049389/23-26) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 29.Х11,1967. Бюллетень № 3

Дата опубликования описания 29.II.1968

Кл. 17g, 1

12е, 3/01

МПК F 25j

В Old

УДК 621.593:66:074.321. .4:66.074.35 (088.8) Номитет оо делам иэобретений и открытии при Совете Министров

СССР

Авторы изобретения

Г. А, Гитцевич и В. A. Мочалов

Заявитель

УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИ АРГОНА

Изобретение относится к установкам, предназначенчым для очистки аргона от кислорода каталитическим гидрированием.

Известна установка для очистки аргона от кислорода, состоящая из последовательно соединенных газгольдера, холодильника, сепаратора, газодувки, подогревателя, реактора каталитического гидр ирования с устройством для подачи в него водорода, компрессора, блока адсорбционной осушки и реципиентов.

Однако эта установка громоздка, производительность ее невысокая.

Предлагаемая установка отличается от известной тем, что за газгольдером установлен компрессор высокого давления, соединенный через маслоотделитель и адсорбер с реактором каталитического гидрирования, и устройство для подачи водорода включено в установку перед компрессором, что упрощаег установку, а также повышает ее производительность.

На чертеже изображена схема установки.

Она состоит из последовательно соединенных газгольдера 1, компрессора 2 высокого давления, холодильника 8, маслоотделителя 4, адсорбера б для более тонкой очистки сжатого газа от масла, реактора б каталитического гидрирования, заполненного палла дированной активной окисью алюминия, холодильника 7, сепаратора 8, блока 9, адсорбционной осушки и реципиентов 10. Водород в установку подают перед компрессором высокого давления при помощи устройства 11, Установка работает следующим образом.

Сырой аргон с содержанием кислорода не более 2% из газгольдера 1 засасывается компрессором 2 высокого давления, сжимается до давления 100 — 200 атм, очищается от паров масла в маслоотделителе 4 и адсорбере 5.

10 Вместе с аргоном в компрессор из устройства

11 поступает дозированное количество водорода.

Затеи сжатая смесь газов подается в реактор б каталитического гидрировання. Нагре15 тый в результате экзотермической реакции и очищенный от кислорода аргон поступает в холодильник 7. После этого аргон освобождают от влаги, пропуская его через блок 9 адсорбционной осушки, и далее направляют в

20 реципиенты 10 и в блок очистки от азота.

Возвратный вентиль 12 служит для пуска установки и возврата некоторого количества аргона на всас компрессора. Установка снаожена автоматическими газоанализаторами для

25 непрерывного контроля за концентрацией кислорода в сыром аргоне на входе в газгольдер и водорода после смешения и реакции.

Система подачи водорода и автоматический контроль концентрации водорода нсключаю1

30 возмож ость образования взрывоопасной сме207943

Предмет изобретения

Составитель Ю. Паткин

Редактор А. Ушакова

Техред Л. Я. Бриккер

Корректоры: Л. П. Васильева и E. Ф. Полионоза

Заказ !85!5 Т)!раж 530 Подписное

Ц1-1И11ПИ Комитета по делам изобретен!ий и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типотр!!фи)!, Пр. C3llvlloBd, 2 си. Клапан 1), сблокированный с пусковым устройством компрессора, закрывается в случае остановки последнего, и подача водорода в установку прекращается.

Установка для очистки аргона от кислорода, состоящая из последовательно соединенных газгольдера, усгройства для подачи водорода, реактора каталитического гидрирования, .ñîлодильника, сепаратора, блока адсорбционной осушки и реципиентов, отличающаяся тем, что, с целью упрощения установки и повышения ее производительности, за газгольдером установлен компрессор высокого давления, соединенный через маслоотделитель и адсорбер с реактором каталитического гидрирования, и устройство для подачи водорода включено в установку перед компрессором.

Установка для очистки аргона Установка для очистки аргона 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к системам ультравысокого вакуума для обработки полупроводникового изделия, к геттерным насосам, используемым в них, и к способу обработки полупроводникового изделия

Изобретение относится к технике получения чистых (98,0-99,0%) инертных газов, в частности ксенона из отработанных газонаркотических смесей наркозных аппаратов
Наверх