Способ определения качества фотовольтаического p-n перехода

При определении качества фотовольтаического перехода освещают p-n переход монохроматическим светом с длиной волны λ, определяемой соотношением:, мкм,

где Eg - ширина запрещенной зоны полупроводника, эВ; Eg,top - ширина запрещенной зоны полупроводника (z-1)-го p-n перехода в солнечном элементе (z - порядкой номер, отсчитываемый от освещаемой поверхности, p-n перехода, у которого определяют его качество) при z ≥2; Eg,top=1-4 Еg, эВ, при z=1. Изменяют интенсивность P освещения и измеряют возникающее напряжение Vос холостого хода при каждом значении P и аппроксимируют полученную зависимость между Vос и Р. Определяют из полученной аппроксимированной зависимости значения рекомбинационного и диффузионного фотовольтаических параметров Р0r и P0d. Далее пропускают через p-n переход прямой ток различной плотности J, измеряют интенсивность генерируемой краевой электролюминесценции L при каждом значении J и аппроксимируют полученную зависимость между L и J. Находят из полученной аппроксимированной зависимости значения рекомбинационного и диффузионного электролюминесцентных параметров kr и kd и определяют качество фотовольтаического p-n перехода по величине плотности рекомбинационного тока насыщения J0r и плотности диффузионного тока насыщения J0d. Технический результат заключается в возможности диагностирования фотовольтаического р-n перехода, находящегося в составе многопереходного солнечного элемента. 3 ил.

 

Способ определения качества фотовольтаического p-n перехода относится к фотоэнергетике, а именно к фотоэлектрическим преобразователям солнечной энергии на основе фотовольтаических p-n переходов из полупроводников А3В5 и может быть использован в электронной промышленности для диагностики структур, применяемых в фотоэлектрических преобразователях.

Одной из задач при разработке однопереходных и многопереходных солнечных элементов является диагностирование фотовольтаического p-n перехода, входящего в состав солнечного элемента. Диагностирование состоит в оценке качества p-n перехода, которое характеризуется показателями качества: J0r - плотностью рекомбинационного тока насыщения, А/см2, J0d - плотностью диффузионного тока насыщения, А/см2, позволяющими определить его расчетную эффективность (КПД), в том числе потенциальную, то есть предельную эффективность того солнечного элемента, который может быть создан на основе диагностируемого p-n перехода. Качество диагностируемого p-n перехода отражено в его характеристике, а именно потенциальной эффективности η, которую определяют как η=f(C), где C - кратность концентрирования солнечного излучения, равная ,

где Рinc - удельная мощность падающего солнечного излучения, Вт/см2, Pinc, С=1 - удельная мощность неконцентрированного солнечного излучения, Вт/см2, при C=1. Эта характеристика зависит от J0r, J0d - показателей качества фотовольтаического p-n перехода. Для p-n переходов из полупроводников А3В5 при C>1 зависимость η=f(C) или эквивалентно η=f(Jg), т.к. Jg=C·Jg,C=1 имеет вид:

где - безразмерное переводное напряжение;

η=η′/100% -безразмерная эффективность;

η′- коэффициент полезного действия, %;

Jg - плотность фотогенерируемого тока, А/см2;

Jg,С=1 - плотность фотогенерируемого тока при С=1, которая равна плотности тока короткого замыкания, Jg,C=1=JSC,C=1, А/см2;

T- абсолютная температура, К;

α=8,61·10-5В/K - переводной коэффициент;

е≈2,78 - основание натуральных логарифмов.

В случае многопереходного солнечного элемента его эффективность определяется эффективностями составляющих p-n переходов и примерно равна сумме этих эффективностей.

Известен способ определения качества фотовольтаического p-n перехода (см. В.М.Андреев, В.А.Грилихес, В.Д.Румянцев. - Фотоэлектрическое преобразование концентрированного солнечного излучения, Л.: Наука, 1989 г., стр.29-31), включающий измерение прямого тока J в зависимости от приложенного напряжения V. Из полученной зависимости J=f(V) определяют последовательное сопротивление и показатель качества J0r - плотность рекомбинационного тока насыщения. Точность определения другого показателя J0d - плотности диффузионного тока насыщения меньше, чем точность определения J0r, из-за влияния нормированного последовательного сопротивления (RS, Ом·см2) на форму зависимости J=f(V), и зависит от величины RS. Кроме того, этот способ не позволяет определить зависимость J=f(V) для отдельного фотовольтаического p-n перехода, входящего в состав многопереходного солнечного элемента.

Недостатками известного способа являются низкая точность определения последовательного сопротивления и, следовательно, безрезистивной характеристики, не учитывающей последовательное сопротивление структуры, а также неприменимость известного способа в случае многопереходных солнечных элементов.

Известен способ определения вольтамперных характеристик фотовольтаического прибора (см. патент ЕР № 1686386, МПК G01R 31/26, опубликован 02.08.2006), включающий освещение фотовольтаического p-n перехода имитатором солнечного излучения с широким спектром, измерение тока короткого замыкания I SC в зависимости от напряжения холостого хода VOC с последующим построением вольтамперной характеристики прибора.

Недостатком известного способа является его неприменимость для p-n перехода, входящего в состав многопереходного солнечного элемента. Наиболее близкий к заявляемому способу является способ определения качества фотовольтаического p-n перехода, применяемый для однопереходных солнечных элементов из А3B5 Si (см. F. Recart, Н. Mäckel, A.Cuevas, R.A.Sinton. -Proc. 4th Word Conf. on Photovoltaic Energy Conversion (WC PEC-4). - Hawaii, 2006, p.1215), совпадающий с заявляемым техническим решением по большинству существенных признаков и принятый за прототип. В способе-прототипе p-n переход освещают немонохроматическим светом. Измеряют напряжение холостого хода (VOC, В) в зависимости от варьируемой интенсивности освещения P (интенсивность освещения допустимо измерять в фотовольтаических относительных единицах). Полученную зависимость между VOC и P аппроксимируют суммой двух экспоненциальных компонент, рекомбинационной и диффузионной, уравнением, имеющим соответственно 2 участка:

где Р0r - рекомбинационный фотовольтаический параметр, отн. ед.;

P0d - диффузионный фотовольтаический параметр, отн. ед.

В результате аппроксимации определяют фотовольтаические параметры - Р0r и P0d. Измеряют также плотность тока короткого замыкания JSC в зависимости от интенсивности освещения. Полученную зависимость JSC = f(P) аппроксимируют на начальном участке линейной зависимостью P=χ·JSC, из которой определяют переводной параметр, с помощью которого производят преобразование фотовольтаических параметров в показатели качества p-n перехода J0r=P0r/χ, J0d=P0d/χ. На основе этих показателей качества в дальнейшем по формуле (1) получают характеристику η = f(C) или эквивалентно η=f(Jg).

Недостатком способа-прототипа является его неприменимость к многопереходным солнечным элементам. В этом случае неосвещенный p-n переход включен по отношению к фототоку освещенного p-n перехода в обратном направлении, поэтому режим тока короткого замыкания неосуществим, и соответственно нельзя определить переводной параметр - χ. Целью заявляемого способа является экспериментальное определение показателей качества p-n перехода - J0r, J0d и их использование для получения искомой характеристики: эффективность - кратность концентрирования солнечного излучения или эквиалентно эффективность - фотогенерируемый ток.

Задачей заявляемого технического решения являлась разработка такого способа определения качества фотовольтаического p-n перехода, который бы позволял диагностировать p-n переход, находящийся в составе многопереходного солнечного элемента.

Поставленная задача решается тем, что предлагается способ определения качества фотовольтаического p-n перехода, в соответствии с которым освещают p-n переход монохроматическим светом с длиной волны λ, определяемой соотношением:

где Еg - ширина запрещенной зоны полупроводника диагностируемого p-n перехода, эВ;

Eg,top - ширина запрещенной зоны полупроводника (z-1)-го p-n перехода в солнечном элементе (z - порядкой номер, отсчитываемый от освещаемой поверхности, p-n перехода, у которого определяют его качество) при z≥2; Еg,top=1.4 Еg, эВ, при z=1;

Изменяют интенсивность P света и измеряют возникающее напряжение холостого хода Vос при каждом значении P и проводят аппроксимацию полученной зависимости между Vос и P уравнением (2):

Определяют из полученной аппроксимированной зависимости значения фотовольтаических параметров Р0r и Р0d. Кроме того, пропускают через p-n переход прямой ток различной величины, измеряют интенсивности генерируемой краевой электролюминесценции L (интенсивность электролюминесценции допустимо измерять в отн. ед.) при каждом значении плотности тока J, A/см2 и проводят аппроксимацию полученной зависимости между L и J уравнением

где kr - рекомбинационный электролюминесцентный параметр, А·см-2 (отн.ед.)-1/2; kd - диффузионный электролюминесцентный параметр, А·см-2(отн.ед.)-1. Находят из полученной аппроксимированной зависимости значения kr и kd и определяют качество фотовольтаического p-n перехода по величине плотности рекомбинационного тока насыщения J0r и плотности диффузионного тока насыщения J0d, определяемых из соотношений:

В дальнейшем на основе полученных значений J0r и J0d по формуле (1) может быть определена характеристика η=f(C) или эквивалентно η=f(Jg).

Заявляемый способ определения качества фотовольтаического p-n перехода иллюстрируется чертежами, где

на фиг.1 приведена фотовольтаическая зависимость VOC=f(P) GaSb p-n перехода;

на фиг.2 показана электролюминесцентная зависимость L=f(J) GaSb p-n перехода;

на фиг.3 приведена зависимость потенциальной эффективности η от плотности генерируемого фототока Jg, пропорционального кратности концентрирования солнечного излучения для GaSb p-n перехода (напряжение αТ=0,025 В - при комнатной температуре), Рinc,C=1=136 мВт/см2 (АМО), где АМО - спектр солнечного излучения, соответствующий нулевой атмосферной массе, Jg,С=1=JSC,C=1=40 мА/см2 (АМО, GaSb).

Заявляемый способ определения качества фотовольтаического p-n перехода поясняется на примере GaSb p-n перехода, являющегося нижним узкозонным каскадом двухпереходного GaAs/GaSb солнечного элемента (тандема). Ширина запрещенной зоны GaSb Еg =0,726 эВ, что соответствует длине волны 1,7 мкм - верхней границе диапазона из выражения (3). GaSb p-n переход освещался полупроводниковым лазером λ = 1,3 мкм, генерирующим напряжение холостого хода V0c от 0,18 до 0,44 В в зависимости от интенсивности освещения. Полученная зависимость V0c=f(Р) (см. фиг.1) была аппроксимирована уравнением (2), и определены фотовольтаические параметры Р0r=7,1·10-3 отн. ед., Р0d=1,0·10-6 отн. ед. Через GaSb p-n переход пропускался прямой ток, генерирующий краевую люминесценцию. В диапазоне плотностей тока (0,1-7,0) А/см2 измерялась интенсивность краевой электролюминесценции в относительных единицах. Полученная зависимость L=f(J) (см. фиг.2) была аппроксимирована уравнением (4), и определены люминесцентные параметры: kr=3,3 А·см-2(отн.ед.)-1/2, kd=42 A·см-2(отн.ед.)-1. По выражению (5) определены показатели качества фотовольтаического p-n перехода: J0r=3.73·10-5А/см2, J0d=5.48·10-9А/см2, т.е. GaSb p-n переход продиагностирован.

Далее полученные показатели качества использованы для построения по уравнению (1) искомой зависимости η=f(Jg) или эквивалентно η=f(С) - расчетной потенциальной эффективности от плотности фотогенерируемого тока (см. фиг.3), который пропорционален кратности концентрирования солнечного излучения (С).

Способ определения качества фотовольтаического p-n перехода, включающий освещение p-n перехода монохроматическим светом с длиной волны λ, определяемой соотношением:

где Еg - ширина запрещенной зоны полупроводника, эВ;
Еg,top - ширина запрещенной зоны полупроводника (z-1)-ого p-n перехода в солнечном элементе (z-порядкой номер, отсчитываемый от освещаемой поверхности, p-n перехода, у которого определяют его качество) при z≥2; Eg,top=1,4 Еg,эВ, при z=1,
изменение интенсивности P освещения и измерение возникающего напряжения VOC холостого хода при каждом значении P, аппроксимацию полученной зависимости между VOC и P уравнением:
, отн. ед.;
где Р0r - рекомбинационный фотовольтаический параметр, отн. ед.;
VOC - напряжение холостого хода, В;
α=8,61·10-5 - переводной коэффициент, B/K;
Т - абсолютная температура, K;
P0d - диффузионный фотовольтаический параметр, отн. ед.; определение из полученной аппроксимированной зависимости значений Р0r и P0d, пропускание через p-n переход прямого тока различной плотности J, измерение интенсивности генерируемой краевой электролюминесценции L при каждом значении J, аппроксимацию полученной зависимости между L и J уравнением:

где J - плотность прямого тока, А/см2;
L - интенсивность генерируемой краевой электролюминесценции, отн. ед.;
kr - рекомбинационный электролюминесцентный параметр, А·см-2 (отн. ед.)-1/2;
kd - диффузионный электролюминесцентный параметр, А-см-2 (отн. ед.)-1; нахождение из полученной аппроксимированной зависимости значений kr и kd и определение качества фотовольтаического p-n перехода по величине показателей качества фотовольтаического p-n перехода J0r, J0d, определяемых из соотношений: , A/см2; , A/см2,
где J0r - плотность рекомбинационного тока насыщения, А/см2; J0d - плотность диффузионного тока насыщения, А/см2.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области испытаний изделий электронной техники и может быть использовано для оценки качества и надежности изделий микро- и наноэлектроники, применяемых в аппаратуре с длительными сроками эксплуатации.

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации полупроводниковых изделий (диодов, транзисторов, интегральных схем), и может быть использовано для разделения изделий по надежности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры.
Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации транзисторов, и может быть использовано для выделения транзисторов повышенной надежности из партии в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры.

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации интегральных схем (ИС), и может быть использовано для выделения из партии ИС повышенной надежности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры.

Изобретение относится к области электронной техники, в частности предназначено для разбраковки КМОП микросхем, изготовленных на КНД структурах, по радиационной стойкости.
Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано для испытаний и отбраковки полупроводниковых изделий в процессе их изготовления и эксплуатации.

Изобретение относится к электроизмерительной технике, в частности к устройствам для измерения параметров фотоэлектрических преобразователей (ФЭП) энергии светового излучения в электрическую, и предназначено для автоматизированного контроля солнечных элементов (СЭ), генераторов тока (ГТ) и батарей фотоэлектрических (БФ) при освещении их импульсным ксеноновым излучателем на заводе-изготовителе и в эксплуатирующих организациях.

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано в технологии изготовления полупроводниковых изделий (ППИ), а также для анализа изделий, отказавших у потребителя.

Изобретение относится к испытательной технике и может быть использовано для оценки технологии производства изделий электронной техники, например интегральных микросхем и полупроводниковых приборов, и на входном контроле приборостроительных предприятий.

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации полупроводниковых приборов (ПП), и может быть использовано для отбора из партии ПП повышенной надежности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной промышленности.
Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации полупроводниковых изделий (ППИ), и может быть использовано для отбраковки из партии полупроводниковых изделий, менее стойких к электростатическим разрядам
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к способам обеспечения качества и надежности полупроводниковых приборов, и может быть использовано для сравнительной оценки надежности партий полупроводниковых приборов как на этапе производства, так и на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры
Изобретение относится к области контроля и может быть использовано для ускоренного контроля качества изготовления полупроводниковых приборов химическим способом, в частности диэлектрических пленок резистивных компонентов гибридных интегральных схем
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к способам обеспечения качества и надежности интегральных схем (ИС), и может быть использовано для сравнительной оценки надежности партий ИС как на этапе производства, так и на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к технологии радиоэлектронной аппаратуры и может быть использовано для контроля параметров полупроводниковых диодов при их производстве

Изобретение относится к измерительной технике, в частности к технике измерения тепловых параметров полупроводниковых приборов после изготовления

Изобретение относится к испытаниям сохраняемости инфракрасного (ИК) многоэлементного фотоприемного устройства (МФПУ), содержащего клеевые соединения в вакуумированной полости, с рабочей температурой фоточувствительных элементов ниже температуры окружающей среды, предназначенного для регистрации ИК-излучения

Изобретение относится к технике измерения тепловых параметров полупроводниковых диодов и может быть использовано на выходном и входном контроле качества изготовления полупроводниковых диодов и для оценки их температурных запасов

Изобретение относится к области микроминиатюризации и технологии радиоэлектронной аппаратуры и может быть использовано для контроля параметров полупроводниковых диодов при их производстве
Наверх