Способ подачи шихты в стекловаренную печь
Владельцы патента RU 2748566:
Автономная некоммерческая организация высшего образования «Белгородский университет кооперации, экономики и права» (RU)
Изобретение относится к области получения различных видов стекол и может быть использовано в стекольной промышленности. Технический результат заключается в снижении энергоемкости за счет непрерывной равномерной подачи шихтового материала в стекловаренную печь, что приводит к увеличению скорости провара шихты. Способ подачи шихты в стекловаренную печь включает подготовку шихты и загрузку ее в бункер стекловаренной печи, а затем подачу шихты в загрузочные карманы стекловаренной печи, причем способ предусматривает стекловаренную печь плазменного типа, а подачу шихты осуществляют непрерывно с помощью динамического напора отходящих плазмообразующих газов при давлении 0,27-0,29 МПа. 2 табл.
Изобретение относится к области получения различных видов стекол и может быть использовано в стекольной промышленности.
Из уровня техники известны ряд способов подачи шихты в стекловаренную печь, их недостатком является высокая энергоемкость.
Наиболее близким решением к предлагаемому способу по технической сущности и достигаемому результату является способ механической подачи шихты в загрузочные карманы стекловаренной печи (Химическая технология стекла и силлатов: Учебник для вузов/ М.В. Артамонова, М.С. Асланова, И.М. Бужинский и др.; Под ред. Н.М. Павлушкина. - М.: Стройиздат, 1983. - 432 с.), включающий подготовку шихты и загрузку ее в бункер стекловаренной печи, а затем порционную подачу шихты двумя роторами с вращающими секторами в загрузочные карманы стекловаренной печи.
Недостатком данного способа является высокая энергоемкость.
Технический результат предлагаемого изобретения заключается в снижении энергоемкости за счет непрерывной равномерной подачи шихтового материала в стекловаренную печь.
Технический результат достигается тем, что способ подачи шихты в стекловаренную печь включает подготовку шихты и загрузку ее в бункер стекловаренной печи, а затем подачу шихты в загрузочные карманы стекловаренной печи, причем способ предусматривает стекловаренную печь плазменного типа, а подачу шихты осуществляют непрерывно с помощью динамического напора отходящих плазмообразующих газов при давлении 0,27-0,29 МПа.
Заявленное изобретение отличается от прототипа тем, что способ предусматривает стекловаренную печь плазменного типа, а подачу шихты осуществляют непрерывно с помощью динамического напора отходящих плазмообразующих газов при давлении 0,27-0,29 МПа.
Предлагаемый способ позволяет снизить энергозатраты за счет непрерывной равномерной подачи шихты с помощью динамического напором отходящих плазмообразующих газов плазменного факела стекловаренной печи, что приводит к увеличению скорости провара шихты.
Сопоставительный анализ известного и предлагаемого способов представлен в таблице 1.
Опытным путем установлено оптимальное давление динамического напора отходящих плазмообразующих газов при подаче шихты в загрузочные карманы стекловаренной печи (таблица 2).
Как видно из таблицы 2, оптимальное давление динамического напора отходящих плазмообразующих газов для подачи шихты в загрузочные карманы стекловаренной печи составляет 0,27-0,29 МПа.
Пример подачи шихты в стекловаренную печь.
С помощью лабораторного смесителя и тарельчатого гранулятора осуществляют подготовку шихты. Затем включают стекловаренную печь плазменного типа. С помощью вытяжной вентиляции стекловаренной печи отходящий плазмообразующий газ плазменного факела подают в ее бункер. Шиберами стекловаренной печи обеспечивают давление динамического напора этих газов в пределах 0,27-0,29 МПа, с помощью которых осуществляют непрерывную подачу шихты в загрузочные карманы стекловаренной печи.
Способ подачи шихты в стекловаренную печь, включающий подготовку шихты, загрузку ее в бункер стекловаренной печи, а затем подачу шихты в загрузочные карманы стекловаренной печи, отличающийся тем, что способ предусматривает стекловаренную печь плазменного типа, а непрерывную подачу шихты осуществляют динамическим напором отходящих плазмообразующих газов при давлении 0,27-0,29 МПа.