Способ получения толстоплёночных структур для теплоэлектрических генераторов

Изобретение относится к электронной технике, и именно к производству толстопленочных структур на основе моносульфида самария, которые могут быть использованы в производстве теплоэлектрогенераторов (ТЭГ). Повышение выхода годных структур ТЭГ, обладающих высоким коэффициентом полезного действия на контактные площадки проводникового слоя, является техническим результатом изобретения. В предложенном способе резистивный слой наносят из смеси в необходимых пропорциях первой резистивной пасты и второй пасты, содержащей частицы моносульфида самария (SmS), при этом вжигание нанесенных слоев проводят двумя циклами при температуре 750-850°С в течение 50 минут, 7-10 минут из которых вжигание проводят при максимальной температуре, и при температуре 820-1200°С в течение 50 минут, 10-20 минут из которых проводят вжигание при максимальной температуре. 1 ил.

 

Изобретение относится к электронной технике, а именно к производству толстопленочных структур на основе моносульфида самария (SmS). Полупроводниковые материалы на основе моносульфида самария являются перспективными для создания n-типа термоэлектрогенераторов (ТЭГ). Изобретение может быть использовано в электронной, радиотехнической, атомной промышленности, в медицине и других отраслях промышленности

Уровень техники

Известен способ изготовления толстопленочных резисторов, защищенный патентом [1], согласно которому резистор изготавливается традиционными методами толстопленочной технологии, включающими последовательное нанесение методом трафаретной печати на какую-либо подложку проводниковых и резистивного слоев, их сушку и вжигание в воздушной атмосфере при требуемых температурах, причем сначала наносят первый проводниковый слой. Стекло или стеклокерамическая композиция, содержащиеся в резистивном слое, имеют в своем составе вещества, способные к восстановлению (оксиды переходных металлов в высшей степени окисления или их соединения). В результате их восстановления при вжигании в резистивном слое образуется электропроводящая фаза.

Недостатком известного способа является низкий коэффициент полезного действия теплоэлектрического генератора.

Известен способ изготовления прецизионных чип-резисторов по гибридной технологии, защищенный патентом [2], который включает последовательное формирование на изоляционной подложке на основе толстопленочной технологии электродных контактов. На основе тонкопленочной технологии формируется резистивный слой с последующим ломанием изоляционной подложки на чипы. Вначале на шлифованную (тыльную) поверхность изоляционной подложки наносят методом трафаретной печати слой серебряной или серебряно-палладиевой пасты с последующим ее вжиганием, образуя тем самым электродные контакты на тыльной стороне подложки. Затем на полированную (лицевую) сторону изоляционной подложки методом вакуумной (тонкопленочной) технологии напыляют резистивный слой, методом фотолитографии и ионного травления осуществляют образование топологии резистивного слоя на подложке, после чего методом трафаретной печати на лицевой стороне подложки поверх резистивного слоя наносят слой низкотемпературной серебряной пасты с последующим ее вжиганием, образуя тем самым электродные контакты на лицевой стороне. Далее методом лазерной подгонки подгоняют величину сопротивления резисторов в номинал. Затем методом трафаретной печати наносят на резистивный слой с последующим вжиганием слой низкотемпературной защитной пасты, образуя защитный слой, скрайбируют и ломают пластину изоляционной подложки на ряды (полосы). Методом вакуумной (тонкопленочной) технологии из сплава никеля с хромом на горцы рядов напыляют торцевой слой, соединяя при этом электрически между собой электродные контакты лицевой и тыльной сторон подложки, ломают ряды на чипы, гальваническим методом наносят поверх электродов -торцевого, на лицевой и на тыльной сторонах - слой никеля, а поверх слоя никеля гальваническим методом наносят слой припоя (сплав олова со свинцом).

Недостатком аналога является большое количество технологических операций как по тонкопленочной, так и по толстопленочной технологии, что делает трудоемкой его техническую реализацию.

Наиболее близким к заявляемому по технической сущности и достигаемому результату, выбранным в качестве прототипа, является способ изготовления толстопленочных резистивных элементов, защищенный патентом [3].

Данный способ изготовления толстопленочных резистивных элементов включает последовательное нанесение методом трафаретной печати на изолирующую подложку проводникового и резистивного слоев и, вжигание в воздушной атмосфере.

В способе чередуют нанесение проводникового слоя с вжиганием его на отдельные участки изолирующей подложки, при температуре 840-860°С в течение 55±5 минут, затем осуществляют нанесение резистивного слоя, а вжигание его при температуре 805±2°С в течение 70±5 минут, затем производят контроль номинала резистивных элементов, при завышенном номинале подгонку производят при температуре 820±10°С в течение 5-10 минут, а при заниженном номинале при температуре 690±10°С в течение 5-10 минут, далее производят лужение в расплавленном припое окунанием при температуре 250±10°С

На фиг. 1 изображена изолирующая подложка с проводниковыми и резистивными слоями.

Изолирующая подложка с проводниковыми и резистивными слоями состоит из изолирующей подложки 1 с торцами 2, 3, и плоскостями 4, 5 Изготовление толстопленочных резисторов по предлагаемому способу производят следующим образом: проводники и резисторы изготавливаются способом трафаретной печати. На изолирующую подложку 1 (торцы 2 и 3 и плоскости 4 и 5) последовательно наносят проводниковую пасту, например, серебряно-палладиевую. После каждого нанесения вжигают на воздухе при температуре 850°С в течение 50 минут. Затем наносят резистивную, например, рутениевую пасту 6 и вжигают на воздухе при температуре 805°С в течение 70 минут.

Недостатком этого способа толстопленочных резистивных элементов является недостаточно высокий выход годных годных элементов тепло-электрогенератора, связанный большим числом технологических операций

Техническая задача

Техническим результатом является повышение выхода годных резистивных элементов тепло- электрогенератора с высоким коэффициентом полезного действия за счет повышения управляемости технологического процесса

Решение

Для решения поставленной технической задачи предлагается следующее изобретение:

Способ изготовления толстопленочных структур на основе моносульфида самария (SmS), включающий последовательное нанесение на изолирующую подложку методом трафаретной печати проводникового слоя и резистивного слоя, отличающийся тем, что на контактные площадки проводникового слоя наносят резистивный слой из смеси в необходимых пропорциях первой резистивной пасты и второй пасты, содержащей частицы моносульфида самария (SmS), при этом вжигание нанесенных слоев проводят двумя циклами при температуре 750 - 850°С в течение 50 минут, 7-10 минут из которых вжигание проводят при максимальной температуре, и при температуре 820 - 1200°С в течение 50 минут, 10-20 минут из которых проводят вжигание при максимальной температуре.

Главным преимуществом способа является то, что им возможно создать достаточно толстые слои структур сульфида самария (до 200 мкм), а большой объем рабочего вещества (слой толщиной более 1 мкм) обуславливает большую мощность генерируемого сигнала, чем в сульфид-самариевых структурах, полученных с использованием технологии тонких пленок.

В качестве основы изготавливаемых элементов тепло-электрогенераторов используется изолирующая подложка (например, керамическая пластина). Методом трафаретной печати на поверхности пластины формируются проводниковые слои с использованием проводниковых паст. На сформированные контактные площадки и между ними наносится паста, содержащая частицы моносульфида самария, на основе которой будут сформированы резистивные элементы тепло-электрогенератора. Резистивные элементы на основе моносульфида самария формируются путем смешивания стандартной резистивной пасты с пастой на основе моносульфида самария, сушку для удаления легколетучего компонента и двух циклов вжигания при различной температуре. Режим вжигания включает термообработку в диапазоне температур 750 - 850°С длительностью 50 минут, 7-10 минут из которых проводятся при максимальной температуре, второй цикл вжигания длительностью 50 минут в диапазоне температур 820 - 1200°С, 10-20 минут из которых проводятся при максимальной температуре.

Нанесение всех слоев проводится методом трафаретной печати. Вначале наносится первый слой - проводниковый, для создания контактов и вжигание этого слоя.

Затем на полученные контактные площадки наносят резистивный слой из смеси в необходимых пропорциях первой резистивной пасты и второй пасты, содержащей частицы моносульфида самария (SmS), при этом вжигание нанесенных слоев проводят двумя циклами при температуре 750 -850°С в течение 50 минут, 7 - 10 минут из которых вжигание проводят при максимальной температуре, и при температуре 820 - 1200°С в течение 50 минут, 10-20 минут из которых проводят вжигание при максимальной температуре.

Пример.

Контроль параметров, полученных тепло-электрогенераторов (ТЭГ) проаодили с использованием массивной подогреваемой медной пластины. Подогрев, осуществляли с помощью промышленного фена до температуры 135°С. Контроль температуры осуществляли с помощью медь-коистантановых термопар, заделанных в объем пластины так, чтобы можно было оценить однородность распределения температуры исследуемого образца. В проведенных экспериментах однородность температуры находилась в пределах 1°С.

Для измерения параметров, полученных ТЭГ сигнал с контактов прибора через АЦП выводили на компьютер и проводили статистическую обработку результатов измерений. Напряжение, вырабатываемое ТЭГ составляло 35±1 мВ, а мощность при нагрузке 1 Ом составила 175±5 мкВт. Воспроизводимость процесса проверяли измерением параметров ТЭГ в течение 20 дней, оценивая среднеквадратичное отклонение результатов по стандартной методикее статистической обработки результатов измерений.

Для сравнения был изготовлен термоэлектрический генератор по способу - прототипу. В результате сравнительных испытаний было определено, что воспроизводимость параметров ТЭГ, изготовленных по предлагаемому способу, превосходила воспроизводимость параметров ТЭГ, изготовленного по способу - прототипу, не менее чем в 7 раз. Выход годных приборов, прошедших ресурсные испытания превысил 90%, что превысило аналогичный показатель по способу - прототипу на 25 - 30%.

Литература

1. Патент RU 2086027, кл. Н01С 17/06, опубл. 27.07.1997

2. Патент RU 2402088, кл. Н01С 17/06, опубл. 20.10.2010

3. Патент RU 2497217, кл. Н01С 17/06, опубл. 27.10.2013

Способ изготовления толстопленочных структур на основе моносульфида самария (SmS), включающий последовательное нанесение на изолирующую подложку методом трафаретной печати проводникового слоя и резистивного слоя, отличающийся тем, что на контактные площадки проводникового слоя наносят резистивный слой из смеси в необходимых пропорциях первой резистивной пасты и второй пасты, содержащей частицы моносульфида самария (SmS), при этом вжигание нанесенных слоев проводят двумя циклами при температуре 750-850°С в течение 50 минут, 7-10 минут из которых вжигание проводят при максимальной температуре, и при температуре 820-1200°С в течение 50 минут, 10-20 минут из которых проводят вжигание при максимальной температуре.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области электронной техники, а именно к средствам измерения, в которых применяют тонкопленочные тензорезисторы на металлической подложке. Способ изготовления тонкопленочной нано- и микроразмерной системы датчика физических величин с заданным положительным температурным коэффициентом сопротивления (ТКС) резистивных элементов заключается в том, что на планарной стороне твердотельной подложки методами вакуумного распыления образуют гетерогенную структуру из нано- и микроразмерных пленок материалов, содержащую тонкопленочные диэлектрические, резистивные и контактные слои, после чего с использованием фотолитографии и травления формируют резистивные элементы (тензорезисторы, терморезисторы), контактные проводники и контактные площадки к ним.

Изобретение относится к приборостроению, а именно к тонкопленочным платиновым терморезисторам на стеклянных подложках и способам их изготовления. Терморезисторы предназначены для дискретных измерителей уровня и могут быть использованы для контроля уровня и массового расхода компонентов топлива.

Изобретение относится к приборостроению - изготовлению тонкопленочных терморезисторов, предназначенных для дискретного контроля уровня и измерения массового расхода компонентов топлива. Тонкопленочный титановый терморезистор на гибкой полиамидной подложке прямоугольной формы, в центре которой размещен пленочный резистор в форме меандра, на краях короткой стороны расположены контактные площадки в виде клиньев.

Изобретение относится к области электроники и может быть использовано при изготовлении тонкопленочных чип резистивных высокочастотных (ВЧ) аттенюаторов. Техническим результатом является снижение времени напыления пленок и трудоемкости процесса.

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для изготовления тонкопленочных нано- и микроразмерных систем датчиков различных физических величин, предназначенных для прецизионных измерений. Оно обеспечивает возможность управляемого синтеза тонкопленочных резистивных элементов (тензорезисторов, терморезисторов) нано- и микроразмерных систем датчиков физических величин с заданным значением температурного коэффициента сопротивления (ТКС).

Изобретение относится к электронной технике, а именно к производству постоянных резисторов, и может быть использовано в электронной, радиотехнической и других смежных отраслях промышленности. В способе изготовления чип-резисторов, включающем формирование резистивного слоя путем напыления с последующей фотолитографией, формирование планарных контактов на лицевой стороне подложки, лазерную подгонку, формирование защитного слоя, разделение подложки на полосы, формирование торцевых контактов по тонкопленочной технологии, нанесение припоя, разделение полос на чипы, планарные контакты на лицевой стороне подложки формируют по тонкопленочной технологии, а планарные контакты на тыльной стороне подложки формируют одновременно с торцевыми контактами, дополнительно введены операции термообработки, термотренировки, подгонки в чипах, импульсной тренировки и термоэлектротренировки, при этом термообработку осуществляют после формирования резистивного слоя, термотренировку, подгонку в чипах, импульсную тренировку, формирование защитного слоя и термоэлектротренировку проводят после разделения на чипы.

Предлагаемое изобретение относится к электронной технике, в частности к технологическим процессам изготовления пленочных резисторов. Способ изготовления толстопленочных резистивных элементов включает последовательное нанесение методом трафаретной печати на изолирующую подложку проводникового и резистивного слоев с последующим вжиганием его в воздушной атмосфере.

Изобретение относится к электронной технике, а именно к производству постоянных резисторов, и может быть использовано в электронной, радиотехнической и других смежных отраслях промышленности при изготовлении прецизионных чип-резисторов. .

Изобретение относится к технологии электронной техники и может быть использовано при изготовлении электрорадиоизделий, входящих в состав устройств приема, передачи и обработки сигналов, а также датчиков параметров внешней среды. .

Изобретение относится к области микроэлектроники. .
Наверх