Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов с металлическим ядром и оболочкой из металл-оксидной керамики



Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов с металлическим ядром и оболочкой из металл-оксидной керамики
Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов с металлическим ядром и оболочкой из металл-оксидной керамики
Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов с металлическим ядром и оболочкой из металл-оксидной керамики
Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов с металлическим ядром и оболочкой из металл-оксидной керамики
Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов с металлическим ядром и оболочкой из металл-оксидной керамики
Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов с металлическим ядром и оболочкой из металл-оксидной керамики
Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов с металлическим ядром и оболочкой из металл-оксидной керамики
B22F2202/13 - Порошковая металлургия; производство изделий из металлических порошков; изготовление металлических порошков (способы или устройства для гранулирования материалов вообще B01J 2/00; производство керамических масс уплотнением или спеканием C04B, например C04B 35/64; получение металлов C22; восстановление или разложение металлических составов вообще C22B; получение сплавов порошковой металлургией C22C; электролитическое получение металлических порошков C25C 5/00)

Владельцы патента RU 2776119:

федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева-КАИ" (КНИТУ-КАИ) (RU)

Изобретение относится к способу изготовления структурно-градиентных по степени сродства к кислороду частиц порошкового материала. Осуществляют направленную подачу в поток термической плазмы, формируемой в инертном газе, порошка исходной шихты, содержащего химические элементы для формирования ядра и оболочки. Термическую плазму формируют электродуговым, высокочастотным или сверхвысокочастотным плазмотроном, при этом в инертный газ добавляют кислород в количестве от 0,01 до 2 об.%. В качестве упомянутой исходной шихты используют порошок сплава металлов, который расплавляют в потоке термической плазмы с образованием сферических капель, подвергнутых поверхностному окислению за счет взаимодействия с кислородом. В результате осуществляют формирование частиц порошка с ядром из металла, имеющего минимальную степень сродства к кислороду среди металлов, содержащихся в упомянутом сплаве, и оболочкой на основе оксидов металлов, имеющих повышенную по сравнению с металлом ядра степень сродства к кислороду среди металлов, содержащихся в упомянутом сплаве. Обеспечивается целенаправленное получение структурно-градиентных порошковых материалов, формируемых в процессе обработки исходной шихты в потоке термической плазмы без привлечения процессов испарения и конденсации вещества. 1 з.п. ф-лы, 5 ил., 1 табл., 1 пр.

 

Изобретение относится к способам получения структурно-градиентных (композитных) порошковых материалов путем плазмохимических реакций в потоке термической плазмы.

Известен способ получения металлокерамической порошковой композиции (Патент RU 2644834 C1, B22F 9/04 (2006.01), С22С 1/04 (2006.01), B22F 1/02 (2006.01), С22С 19/03 (2006.01), С22С 29/02 (2006.01) опубликован 14.02.2018, Бюл. №5), включающий приготовление порошковой смеси и механический синтез смеси в планетарной мельнице, отличающийся тем, что в качестве исходных компонентов порошковой смеси используют порошок жаропрочного сплава на основе никеля и порошок армирующих наночастиц MeCN и/или МеС, где Me - элементы Ni, Ti, Та, Mo, Hf, V, Si, при этом механический синтез порошковой смеси проводят в планетарной мельнице при частоте вращения 200-250 об/мин в течение 15-30 мин в среде аргона в размольных кюветах с применением размольных шаров из стали ШХ15 диаметром 5 мм, причем соотношение массы обрабатываемой смеси и шаров составляет 1:8, а соотношение объема шаров к объему размольной кюветы составляет 1:5. Недостатками данного способа получения структурно-градиентного порошкового материала типа ядро-оболочка является дискретно-точечный характер получаемой оболочки в виде наночастиц, механически запрессованных в поверхность ядра, зависимость качества металлургического контакта между ядром и оболочкой от твердости материалов, их образующих, а также потенциальная возможность загрязнения конечного продукта материалом размольных шаров в планетарной мельнице.

Известен способ плазменно-растворного получения наночастиц типа сердцевина/оболочка (Патент RU 2620318 С2, B22F 9/24 (2006.01), B22F 1/02 (2006.01), H01L 35/14 (2006.01), B82Y 30/00 (2011.01) опубликован 24.05.2017, Бюл. №15), включающий генерирование плазмы в растворе, содержащем два типа растворенных солей металлов, с обеспечением высаживания первого металла и второго металла, причем сначала генерируют плазму путем приложения первой мощности с обеспечением селективного высаживания упомянутого первого металла, который имеет больший окислительно-восстановительный потенциал, чем упомянутый второй металл, для формирования сердцевин наночастиц, а затем генерируют плазму путем приложения второй мощности, которая больше первой мощности, с обеспечением высаживания упомянутого второго металла, который имеет меньший окислительно-восстановительный потенциал, чем упомянутый первый металл, на поверхности упомянутых сердцевин из первого металла для формирования оболочек наночастиц. Данный способ позволяет получить наноразмерные металлические частицы типа сердцевина/оболочка, однако не позволяет создавать микрочастицы с подобной структурой и ограничен в выборе химического состава сердцевины/оболочки - невозможно использовать керамические материалы.

Известен способ вакуумно-плазменного нанесения покрытий (Патент RU №2145362, МПК С23С 14/34, опубл. 10.02.2000), включающий осаждение покрытия в инертном газе с помощью системы, состоящей из обрабатываемой детали и экрана в виде сетки, при этом осаждение ведут в сочетании с ионной бомбардировкой подложки при давлении инертного газа 10-2÷10-1 Па. Устройство для реализации данного способа содержит источник, в вакуумной камере находятся катод из напыляемого материала, анод, обрабатываемая деталь с экраном, установленным на определенном расстоянии от детали, находятся под отрицательным потенциалом источника. Изобретение позволяет получать покрытия с нанокристаллической структурой. Недостатками данного способа является высокая вероятность агрегации получаемого порошка в плотном поверхностном слое, существенный разброс толщины наносимого покрытия между частицами в поверхностном и глубинном слое и необходимость осуществления процесса в вакууме.

Наиболее близким к предлагаемому способу изготовления структурно-градиентных порошковых материалов является способ (Патент №2693989 от 21.08.2018) изготовления структурно-градиентных порошковых материалов по первому варианту, включающий направленную подачу в поток индуктивно-связанной плазмы порошка для формирования ядра и присадочного материала для образования оболочки за счет процессов испарения присадочного материала в потоке плазмы и конденсации его паров на поверхности ядра, отличающийся тем, что в качестве присадочного материала используется порошок металла микронного или субмикронного размера.

Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов по второму варианту, включающий направленную подачу в поток индуктивно-связанной плазмы порошка для формирования ядра и присадочного материала для образования оболочки за счет процессов испарения присадочного материала в потоке плазмы и конденсации его паров на поверхности ядра, отличающийся тем, что в качестве присадочного материала используется аэрозоль раствора соли металла.

Способ изготовления структурно-градиентных порошковых материалов по третьему варианту, включающий направленную подачу в поток индуктивно-связанной плазмы порошка для формирования ядра и присадочного материала для образования оболочки за счет процессов испарения присадочного материала в потоке плазмы и конденсации его паров на поверхности ядра, отличающийся тем, что используется присадочный материал в газообразном состоянии.

Во всех трех способах прототипа структурно-градиентные материалы создаются за счет процессов испарения-конденсации, при котором на поверхность частицы-ядра в потоке плазмы осаждаются частицы испаренного вещества материала оболочки. Таким способом можно получить композитные частицы, при условии, что температура плавления материала ядра существенно выше, чем материала оболочки. Например, получение частиц с керамическим ядром и металлической оболочкой.

Недостатком способа изготовления структурно-градиентных порошковых материалов по прототипу является сложность синтеза методом испарения-конденсации частиц ядро-оболочка с оболочкой микронного диапазона толщины, если температура плавления материала ядра ниже температуры плавления материала оболочки (например, ядро металл, оболочка - керамика). Упомянутый в прототипе способ создания керамической оболочки из частиц присадочного материала нанометрового размерного диапазона позволяет создавать оболочки толщиной не более одного-двух диаметров осаждаемых частиц, т.е. только нанометрового диапазона.

Технической проблемой, на решение которой направлено предлагаемое техническое решение, является целенаправленное получение структурно-градиентных порошковых материалов, формируемых в процессе обработки исходной шихты в потоке термической плазмы без привлечения процессов испарения и конденсации вещества.

Технический результат предлагаемого способа изготовления структурно-градиентных порошковых материалов заключается в получении из исходной шихты структурно-градиентных порошковых материалов микрометрового диапазона.

Технический результат в способе изготовления структурно-градиентных порошковых материалов, включающий направленную подачу в поток термической плазмы, формируемой электродуговым, высокочастотным или сверхвысокочастотным плазмотроном в инертной атмосфере, например, аргона порошка исходной шихты для формирования ядра и оболочки, отличающийся тем, что в плазмообразующий инертный газ добавляется кислород в количестве от 0,01 до 2 объемных процентов, а в качестве исходной шихты используется порошок сплава металлов, причем, металлы для формирования ядра должны иметь минимальную степень сродства к кислороду среди металлов, входящих в сплав, а металлы для формирования оболочки должны иметь максимальную степень сродства к кислороду среди металлов, входящих в сплав.

На Фиг 1 схематически изображен процесс осуществления предлагаемого способа изготовления структурно-градиентных порошковых материалов, например, в потоке индуктивно-связанной плазмы.

Порошок исходной шихты 1 посредством устройства подачи 2 вводится в поток индуктивно-связанной плазмы 3, создаваемый высокочастотным плазматроном 4 в атмосфере инертного газа, например, аргона. В поток индуктивно-связанной плазмы 3 из подающего устройства, например, баллона 5, добавляется кислород 6 в количестве от 0,01 до 2 объемных процентов. В потоке плазмы частицы порошка исходной шихты за счет высокой температуры (4000-8000 К) нагреваются и расплавляются. Капли расплава порошка 1 взаимодействуют с кислородом 6, присутствующим в плазме, и происходит их поверхностное окисление и последующая сегрегация химических элементов в расплаве с формированием металлического ядра и оболочки из оксидной керамики. В дальнейшем сформированные частицы 7 направляются в конденсационную камеру 8, где происходит их охлаждение.

Рассмотрим пример осуществления предлагаемого способа изготовления структурно-градиентных порошковых материалов в потоке термической, например, индуктивно-связанной плазмы. В качестве исходной шихты выбираем сплав, в котором содержатся металлы, формирующие ядро и оболочку. Требованием к металлам для создания ядра - минимальные (по сравнению с другими компонентами сплава) значения сродства к кислороду. Требованием к металлам для создания оболочки -максимальные (по сравнению с другими компонентами сплава) значения сродства к кислороду. Подготавливается нужная размерная фракция исходной шихты. Перед началом осуществления предлагаемого способа изготовления структурно-градиентных порошковых материалов в высокочастотном плазматроне 4 зажигаем разряд, устанавливаем требуемые значения расходов плазмообразующего газа (например, аргона). В поток индуктивно-связанной плазмы 3 добавляем кислород 6 в количестве от 0,01 до 2 объемных процентов. После того, как разряд в плазматроне стабилизировался, посредством устройства подачи 2 в поток индуктивно-связанной плазмы 3 вводят порошок исходной шихты 1, частицы которого переходят в расплавленное состояние и за счет сил поверхностного натяжения сфероидизируются. В расплавленном состоянии в частицах исходной шихты ускоряются диффузионные процессы. Более подробно эти процессы схематично представлены на Фиг. 2. Через внешнюю поверхность частицы 7 атомы кислорода 8 проникают вглубь ее, как показано на Фиг. 2. Поскольку распределение атомов кислорода в плазме однородно за счет вихревых процессов, в частице формируется сферически симметричное распределение кислорода с границей 9. Атомы металлов 10, имеющих повышенную степень сродства к кислороду, начинают диффундировать в насыщенную кислородом приповерхностную область 10, вытесняя оттуда атомы металлов 11, имеющих пониженную степень сродства к кислороду. В результате этих процессов наступает динамическое равновесие, при котором основная часть легко окисляемых металлов сконцентрирована в насыщенной кислородом оболочке, а трудно окисляемые металлы, наоборот, сконцентрировались в сферическом ядре частицы. Сформировавшаяся таким образом композитная частица 7 попадает в конденсационную камеру 8, где происходит ее отвердевание (Фиг. 1). Изменяя концентрацию кислорода в плазме, можно менять глубину его проникновения в частицы исходной шихты и, следовательно, регулировать толщину создаваемой оболочки. Чем больше концентрация кислорода в плазме - тем толще оболочка композитной частицы и меньше диаметр ее ядра.

Пример 1. Получение структурно-градиентного порошкового материала с металлическим ядром и оболочкой из металл-оксидной керамики по предлагаемому способу в потоке индуктивно-связанной плазмы. В качестве исходной шихты используется порошок сплава на основе железа ПР-08ХН53БМТЮ. Химический состав сплава приведен в Таблице. Видно, что в состав сплава входят металлы, имеющие низкое сродство к кислороду, такие как никель и высокое сродство к кислороду, такие как ниобий, хром, железо. Химические элементы в частицах исходной шихты распределены однородно, что подтверждается исследованием шлифов частиц с использованием сканирующего электронного микроскопа с приставкой для локального рентгеноспектрального энергодисперсионного микроанализа. Результаты исследований пространственного распределения основных элементов, входящих в состав сплава ПР-08ХН53БМТЮ, в поперечном сечении частиц присадочного материала представлены на Фиг. 3.

Перед началом осуществления предлагаемого способа изготовления структурно-градиентных порошковых материалов в высокочастотном плазматроне 4 (Фиг 1) зажигаем разряд, устанавливаем требуемые значения расходов плазмообразующего газа (например, аргона). После того, как разряд в плазматроне стабилизировался, в плазмообразующий газ (аргон) подаем кислород в количестве 0,05 объемных процентов. Далее посредством устройства подачи 2 в поток индуктивно-связанной плазмы 3 вводят порошок исходной шихты 1, который переходит в расплавленное состояние. Под действием сил поверхностного натяжения капли расплава исходной шихты принимают сферичную форму. За счет взаимодействия с кислородом начинается процесс поверхностного окисления частиц с проникновением кислорода в толщу частицы. Металлы, имеющие высокую степень сродства к кислороду (хром, железо, ниобий), диффундируют в насыщенную кислородом поверхностную зону с образованием оксидов. За счет симметрии частицы и равномерной концентрации кислорода в ее окружении, формируется сферически симметричная оболочка из оксидов металлов, имеющих высокую степень сродства к кислороду. Напротив, металлы имеющие низкую степень сродства к кислороду (никель), концентрируются в центральной области, в которой кислород отсутствует, и формируют металлическое ядро композитной частицы. Результирующее пространственное распределение химических элементов в поперечном сечении частицы представлено на Фиг. 4. Видно, что сформировано четко ограниченное сферическое ядро из никеля, окруженное сферической оболочкой керамики на основе оксидов хрома, железа и ниобия.

Размеры ядра и оболочки можно варьировать путем изменения концентрации кислорода в потоке термической плазмы. При увеличении концентрации кислорода глубина его проникновения в толщу частицы увеличивается, при этом диаметр металлического ядра уменьшается, а толщина керамической оболочки, наоборот, увеличивается. На Фиг 5 изображено пространственное распределение химических элементов в поперечном сечении частицы композитного порошка, синтезированного при концентрации кислорода в плазме 0,03 объемного процента. Видно, что по сравнению с Фиг 3 произошло увеличение диаметра ядра с одновременным уменьшением толщины оболочки.

Применение предлагаемого способа изготовления структурно-градиентных (композитных) порошковых материалов, по сравнению с прототипом, позволит без применения процессов испарения-конденсации формировать в потоке термической плазмы из порошка присадочного материала структурно-градиентные порошковые материалы с заранее заданными свойствами.

1. Способ изготовления структурно-градиентных по степени сродства к кислороду частиц порошкового материала, включающий направленную подачу в поток термической плазмы, формируемой в инертном газе, порошка исходной шихты, содержащего химические элементы для формирования ядра и оболочки, отличающийся тем, что термическую плазму формируют электродуговым, высокочастотным или сверхвысокочастотным плазмотроном, при этом в инертный газ добавляют кислород в количестве от 0,01 до 2 об.%, а в качестве упомянутой исходной шихты используют порошок сплава металлов, который расплавляют в потоке термической плазмы с образованием сферических капель, подвергнутых поверхностному окислению за счет взаимодействия с кислородом, с формированием частиц порошка с ядром из металла, имеющего минимальную степень сродства к кислороду среди металлов, содержащихся в упомянутом сплаве, и оболочкой на основе оксидов металлов, имеющих повышенную по сравнению с металлом ядра степень сродства к кислороду среди металлов, содержащихся в упомянутом сплаве.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве инертного плазмообразующего газа используют аргон.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к медицинской технике, а именно к способу нанесения методом атомно-слоевого осаждения покрытия из оксида железа на акупунктурные иглы. Акупунктурные иглы располагают в реакционной камере, создают вакуум внутри камеры под давлением 1-5 мбар, проводят цикл, включающий нагрев акупунктурных игл до температуры 220-280°С, дискретно последовательную подачу в зону реакции паров прекурсора бис-η5-циклопентадиенил железа II (ферроцен) с температурой 80-100°С в течение 1-3 с с выдержкой в течение 1-3 с и газа-реагента кислорода под давлением 1-3 бар в течение 5-7 с с выдержкой в течение 1-3 с.

Изобретение относится к режущему инструменту с покрытием, содержащему основу и покрытие, при этом покрытие содержит внутренний мультислой α-Al2O3 и наружный монослой α-Al2O3, толщина наружного монослоя α-Al2O3 составляет 1-10 μм, предпочтительно 3-5 μм, и толщина внутреннего мультислоя α-Al2O3 составляет менее чем или равна 35% от суммы толщины внутреннего мультислоя α-Al2O3 и толщины наружного монослоя α-Al2O3, и при этом упомянутый мультислой α-Al2O3 состоит из чередующихся подслоев α-Al2O3, и подслоев TiCO, TiCNO, AlTiCO или AlTiCNO, причем упомянутый внутренний мультислой α-Al2O3 содержит по меньшей мере 5 подслоев α-Al2O3, и по меньшей мере один слой из TiC, TiN, TiAlN или TiCN, расположенный между основой и внутренним мультислоем α-Al2O3.

Изобретение может быть использовано при изготовлении качественных тонких покрытий, в частности оксидных. Система для химического осаждения из паров летучих прекурсоров содержит реакционную камеру 1 в виде вертикально ориентированного цилиндра, карусельный подложкодержатель 2, модуль подачи реакционных газов и модуль подачи ионизированных газов, предназначенный для очистки и активации поверхности подложек, нагреватель и средства вакуумной откачки.

Изобретение относится к области оборудования полупроводникового производства и может быть использовано для формирования структур датчиков физических величин и преобразователей энергии бета-излучения в электрическую форму. CVD-реактор синтеза гетероэпитаксиальных пленок карбида кремния на кремниевых подложках путем химического осаждения из газовой фазы включает внутреннюю кварцевую трубу 1 с коаксиально установленной кварцевой наружной трубой 8, с размещенным внутри двухзонным, выполненным из графита, покрытого карбидом кремния, контейнером 2 с подложкодержателями 4, нагревателем 20 индукционного типа и системой 16, 15 подвода/отвода водорода в качестве газа-носителя, при этом контейнер 2 установлен на полом пьедестале 6, направляющем поток водорода в первую зону, между контейнером 2 и пьедесталом 6 установлена разогреваемая ВЧ-полем индуктора металлическая пластина-диск 7 с отверстиями для прохода потока водорода, первая зона указанного контейнера 2 по ходу газа-носителя включает основание 3 в качестве источника углерода, выполнена без тепловых экранов и предназначена для предварительного подогрева водорода и протекания реакции углерода с водородом в сквозных каналах основания 3 с последующим транспортным переносом полученных газообразных углеводородов во вторую зону, включающую сборку подложкодержателей 4 с подложками и тепловыми экранами 5, причем обе зоны сообщаются между собой отверстиями для переноса углеводородов потоком водорода над кремниевыми подложками.

Изобретение относится к режущему инструменту с покрытием. Режущий инструмент с покрытием содержит основу и покрытие, причем покрытие содержит многослойную систему, состоящую из чередующихся подслоев κ–Al2O3 и подслоев TiN, TiC, TiCN, TiCO или TiCNO, причем упомянутая многослойная система содержит по меньшей мере три подслоя κ–Al2O3 и проявляет рентгенодифрактограмму в диапазоне углов сканирования θ–2θ 15–140°, на которой дифракционный пик 002 (площадь пика) является самым сильным пиком, относящимся к подслоям κ–Al2O3 многослойной системы.

Изобретение относится к режущему инструменту с покрытием, включающему основу и покрытие, причем покрытие содержит многослойную систему α-Al2O3, состоящую из чередующихся подслоев α-Al2O3 и подслоев TiCO, TiCNO, AlTiCO или AlTiCNO, упомянутая многослойная система α-Al2O3 содержит по меньшей мере 5 подслоев α-Al2O3, полная толщина упомянутой многослойной системы α-Al2O3 составляет 1-15 мкм, период многослойной системы α–Al2O3 составляет 50-900 нм, при этом режущий инструмент с покрытием дополнительно содержит первый слой α-Al2O3, находящийся между основой и многослойной системой α-Al2O3, в непосредственном контакте с многослойной системой α-Al2O3, причем толщина упомянутого слоя α-Al2O3 составляет < 1 мкм, и многослойная система α-Al2O3 проявляет рентгенодифрактограмму в диапазоне углов сканирования θ-2θ 20°-140°, на которой отношение интенсивности дифракционного пика 0012 (площади пика), I(0012), к интенсивностям дифракционного пика 113 (площади пика), I(113), дифракционного пика 116 (площади пика), I(116), и дифракционного пика 024 (площади пика), I(024), составляет I(0012)/I(113) > 1, I(0012)/I(116) > 1 и I(0012)/I(024) > 1.

Изобретение относится к технологии выращивания эпитаксиального 3C-SiC на ориентированном монокристаллическом кремнии. Способ включает предоставление монокристаллической кремниевой подложки 2, имеющей диаметр по меньшей мере 100 мм, в реакторе 7 химического осаждения из газовой фазы с холодными стенками, содержащем кварцевую камеру; нагревание подложки до температуры, равной или большей чем 700°C и равной или меньшей чем 1200°C, с использованием внешних нагревателей 9, которые представляют собой инфракрасные лампы; введение газовой смеси 33 в реактор, тогда как подложка находится при данной температуре, причем газовая смесь содержит прекурсор 16 источника кремния, прекурсор 18 источника углерода, который отличается от прекурсора 16 источника кремния, и несущий газ 20, таким образом, чтобы осадить эпитаксиальный слой 3C-SiC на монокристаллический кремний, при этом прекурсор 16 источника кремния содержит силан или содержащий хлор силан, а прекурсор 18 источника углерода содержит содержащий метил силан.

Изобретение относится к способу управления температурным режимом роста алмазной пленки на поверхности по меньшей мере одной подложки из твердого сплава. Основную проводящую платформу размещают в герметичной осесимметричной вакуумной камере СВЧ плазменного реактора с однородным температурным полем, при этом центральную часть упомянутой камеры выполняют в виде СВЧ резонатора.

Изобретение относится к способу изготовления структурного покрытия на подложке для защиты подложки от короткого замыкания. Первый диэлектрический слой осаждают на подложке путем мокрого осаждения.

Изобретение относится к производящей углеродные нанотрубки системе, содержащей предварительную выращивающую трубу для начальной предварительной реакции исходных материалов перед получением углеродных нанотрубок; атомизатор для атомизации исходных материалов углеродных нанотрубок и последующего распыления атомизированных исходных материалов в предварительную выращивающую трубу; при этом атомизатор присутствует на переднем конце предварительной выращивающей трубы и имеет распылительную выпускную трубу, которая проходит в предварительную выращивающую трубу; выращивающую трубу для производства углеродных нанотрубок и непрерывного выращивания производимых углеродных нанотрубок; при этом передний конец выращивающей трубы герметично присоединяется к заднему концу предварительной выращивающей трубы; и генератор воздушной завесы для образования воздушной завесы, окружающей атомизирующий воздушный поток вокруг выпуска распылительной выпускной трубы, причем воздушная завеса проходит параллельно по отношению к направлению продолжения предварительной выращивающей трубы; и при этом генератор воздушной завесы находится внутри предварительной выращивающей трубы.

Изобретение относится к режущему инструменту с покрытием, содержащему основу и покрытие, при этом покрытие содержит внутренний мультислой α-Al2O3 и наружный монослой α-Al2O3, толщина наружного монослоя α-Al2O3 составляет 1-10 μм, предпочтительно 3-5 μм, и толщина внутреннего мультислоя α-Al2O3 составляет менее чем или равна 35% от суммы толщины внутреннего мультислоя α-Al2O3 и толщины наружного монослоя α-Al2O3, и при этом упомянутый мультислой α-Al2O3 состоит из чередующихся подслоев α-Al2O3, и подслоев TiCO, TiCNO, AlTiCO или AlTiCNO, причем упомянутый внутренний мультислой α-Al2O3 содержит по меньшей мере 5 подслоев α-Al2O3, и по меньшей мере один слой из TiC, TiN, TiAlN или TiCN, расположенный между основой и внутренним мультислоем α-Al2O3.
Наверх