Способ изготовления измерительного растра

 

О П И С А Н И Е 297088

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Coed Советейа

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства М

Заявлено 25.V1.1968 (М 1258589/26-25) с присоединением заявки М

Приоритет

МПК Н 01j 29(34

Комитат по делан изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621,3.032(088,8) Опубликовано 02.1!!.1971. Бюллетень М 9 ! Дата опубликования описания 28.1 .1971

Авторы изобретения

А. В. Ирлин и В. П, Попов

Заявитель

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИЗМЕРИТЕЛЬНОГО РАСТРА

Изобретение относится к радиоизмерительной технике.

Известен способ изготовления измерительного растра на поверхности экранов осциллографических и индикаторных электроннолучевых трубок, основанный на вакуумном нанесении пленки.

Известный способ, будучи трудоемким, в то же время не позволяет полностью избавиться от параллакса ввиду сравнительно большой высоты линий. Кроме того, необходимость в спайке частей электроннолучевой трубки предъявляет определенные требования к температуре плавления материала для изготовления растра. Этот материал должен быть тугоплавким и химически стойким, так как на него непосредственно наносится слой люминофора. Кроме того, толщина линий растра должна быть минимальной, но они должны быть хорошо видны как в отраженном, таки в проходящем свете, Температура размягчения должна быть на 120 — 180 С выше температуры отжига стекла экрана, Это предъявляет жесткие требования к температуре отжига стекла экрана, а также к температуре спайки частей экрана после нанесения измерительного растра.

Предлагаемый способ изготовления измерительных растров позволяет полностью исключить влияние параллакса на отсчет измеряемых величин, упростить их изготовление и резко увеличить производительность труда.

На предварительно очищенное и подогретое до 380 С полированное стекло 1, которое в б дальнейшем будет служить отсчетной частью электроннолучевого индикатора, с помощью электронного луча в вакуумной установке наносят первый слой 2 тантала толщиной около

100А. Напуском воздуха под колпак вакуум1О ной установки этот слой подвергают термическому окислению для создания прозрачной и в то же время защищающей стекло от воздействия плавпковой кислоты пленки окисла тантала. Затем откачивают рабочий объем вакуум15 ной установки и напыляют второй сплошной слой 3 тантала толщиной 0,1 — 0,5,чл1к.

После извлечения стеклянной детали из вакуумной установки слой тантала покрывают светочувствительной эмульсией (фоторези20 стом), экспонируют через фотошаблон измерительньш растр, проявляют фоторезист, дубят его и травят не защищенные фоторезистом слои тантала в травителях для тантала, содержащих плавиковую кислоту. При этом слой

25 окиси тантала защищает прозрачные участки стекла между линиями масштабной сетки от травления (матирования) плавиковой кислотой.

В результате проведенных операций полу 30 чают измерительньш растр любой наперед за297088

Предмет изобретения

Составитель Н. Таборко

Редактор Б. Б. Федотов Текред Е. Борисова Корректор О. М. Ковалева

Заказ 1102/1 Изд. № 442 Тираж 473 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 данной конфигурации с количеством отсчетных делений, определяемым желанием изготовителей. Количество делений ограничивается в основном только разрешающей способностью оптики фотоустановки, на которой отснимается фотошаблон, и примененным фоторезистом.

Полученные таким образом измерительные растры хорошо выдерживают температурные режимы стойки с колбой трубки (т. пл. тантала около 3000 С). Высокая химическая стойкость тантала дает возможность наносить люминофоры непосредственно на масштабную сетку, находящуюся на внутренней стороне экрана электроннолучевого индикатора.

Способ изготовления измерительного растра на поверхности экранов осциллографических и

5 индикаторных электроннолучевых трубок, основанный на вакуумном нанесении пленки, отличаюи4ийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности, химической и термической стойкости растра, нанесенную на по10 верхность экрана танталовую пленку окисляют до пятиокиси тантала, напыляют на нее второй сплошной слой тантала и на нем получают, например, методом фотолитографии, измерительный растр.